CN218023222U - 一种真空环境出料装置 - Google Patents

Abstract

本申请提供了一种真空环境出料装置，涉及高纯锌加工设备领域。真空环境出料装置包括：具有容置空间的真空室，所述真空室设置有用于物料进入的进料通道，所述真空室远离所述进料通道的一侧下部设置有出料通道；所述容置空间的底部设置有斜坡，所述斜坡相对较高的一端临近所述进料通道，所述斜坡相对较低的一端临近所述出料通道；所述斜坡相对较低的一端与所述出料通道之间设置有后限位部件，所述后限位部件远离所述出料通道的一侧设置有与所述后限位部件配合的前限位部件；所述前限位部件的底端在所述真空环境出料装置的高度方向上低于所述后限位部件的顶端。本申请提供的真空环境出料装置，实现出料时不改变真空室的真空环境，从而保证连续生产。

Description

一种真空环境出料装置

技术领域

本申请涉及高纯锌加工设备领域，尤其涉及一种真空环境出料装置。

背景技术

高纯锌加工需要维持加工环境处于真空状态，以避免锌被氧化而无法达到目标纯度。

然而，现有设备出料机构无法完全将加工环境与大气环境持续隔绝，出料时不可避免的有空气进入加工环境中，导致加工程序中断，必须再次抽真空后才能够继续生产。这使得加工效率降低，同时需要不断的从大气环境将工作空间抽真空，能耗高，导致整体生产成本高。

因此，需要一种能够将大气环境和工作空间隔绝的出料设备，在出料的同时避免空气进入工作空间内，以实现连续生产并降低抽真空的频次，从而降低生产成本。

实用新型内容

本申请的目的在于提供一种真空环境出料装置，以解决上述问题。

为实现以上目的，本申请特采用以下技术方案：

一种真空环境出料装置，包括：具有容置空间的真空室，所述真空室设置有用于物料进入的进料通道，所述真空室远离所述进料通道的一侧下部设置有出料通道；

所述容置空间的底部设置有斜坡，所述斜坡相对较高的一端临近所述进料通道，所述斜坡相对较低的一端临近所述出料通道；

所述斜坡相对较低的一端与所述出料通道之间设置有后限位部件，所述后限位部件远离所述出料通道的一侧间隔设置有与所述后限位部件配合的前限位部件；

所述前限位部件的底端在所述真空环境出料装置的高度方向上低于所述后限位部件的顶端。

优选地，所述前限位部件远离其底端的一端与所述真空室的侧壁一体设置或者嵌入所述真空室的侧壁内。

优选地，所述前限位部件整体呈“倒L”型，短边的头端为所述前限位部件的底端，长边的头端与所述真空室的侧壁一体设置。

优选地，所述出料通道的出料端设置有封口部件。

优选地，所述出料通道与所述真空室接触的一端高于所述出料通道的出料一端。

优选地，所述出料通道的斜度大于等于所述斜坡的斜度。

优选地，所述进料通道设置在所述真空室的侧壁的上部。

优选地，所述真空室的侧壁设置有观察窗。

优选地，所述观察窗与所述出料通道设置在同一侧。

优选地，所述真空环境出料装置还包括底座，所述真空室设置在所述底座上。

与现有技术相比，本申请的有益效果包括：

本申请提供的真空环境出料装置，通过在出料通道的入口处设置前限位部件和后限位部件，并设置成前限位部件的底端在真空环境出料装置的高度方向上低于后限位部件的顶端，使得从斜坡上滑落的物料在前限位部件和后限位部件之间形成液封，从而在出料的过程中也能够隔绝真空室和出料通道出口处的大气环境，进而无需中断加工过程，也不需要多次对真空室抽真空，最终实现连续生产，提高生产效率、降低成本。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1为实施例提供的真空环境出料装置的结构示意图。

附图标记：

1-真空室；2-容置空间；3-进料通道；4-出料通道；5-斜坡；6-后限位部件；7-前限位部件；8-封口部件；9-观察窗；10-底座；11-加工物料。

具体实施方式

下面详细描述本申请的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能理解为对本申请的限制。

实施例1

如图1所示，本实施例提供一种真空环境出料装置，包括：真空室1，真空室1呈长方体状，内部具有容置空间2；真空室1的侧壁上部设置有用于物料进入的进料通道3，真空室1远离进料通道3的一侧下部设置有出料通道4；容置空间2的底部设置有斜坡5，斜坡5的相对较高的一端临近进料通道3，斜坡5的相对较低的一端临近出料通道4。

为了实现在出料通道4的进口处的液封，斜坡5相对较低的一端与出料通道4之间设置有后限位部件6，后限位部件6远离出料通道4的一侧设置有与后限位部件6配合的前限位部件7；前限位部件7的底端在真空环境出料装置的高度方向上低于后限位部件6的顶端。后限位部件6和前限位部件7间隔设置，形成物料输出至出料通道4的通道。

在一个可选的实施方式中，前限位部件7远离其底端的一端与真空室1的侧壁一体设置或者嵌入真空室1的侧壁内。

在一个更为优选的实施方式中，前限位部件7整体呈“倒L”型，短边的头端为前限位部件7的底端，长边的头端与真空室1的侧壁一体设置。

为了保证出料通道的密封性以及避免物料少量流出，实现间歇性放料，在一个优选的实施方式中，出料通道4的出料端设置有封口部件8。

封口部件8是常见的开闭机构，可以手动或者自动打开、关闭。

在一个优选的实施方式中，为了保证物料排出的流畅性，提高出料效率，出料通道4与真空室1接触的一端高于出料通道4的出料一端。即：入料的一端高于出料的一端，倾斜设置，利用物料自身的重力进行出料。

为了保证出料过程的稳定以及各个零部件安装的适配，出料通道4的斜度与斜坡5的斜度相同或者出料通道4斜度大于斜坡5的斜度。

为了便于观察物料在真空室1内的情况，在一个可选的实施方式中，真空室1的侧壁设置有观察窗9。

可选的，观察窗9与出料通道4设置在同一侧。

可以理解的是，真空环境出料装置还包括底座10，真空室1设置在底座10上。

此外，还包括附属的电源、抽真空设备等，不再赘叙。

对真空环境出料装置的工作过程进行简述如下：

正常状态下，真空室1与前工序真空室(蒸馏、冷凝)连通，真空室1与出料通道4连通。

工作前，关闭封口部件8及观察窗9；然后将真空室1抽成真空。工作开始初时，加工物料11沿真空室1的斜坡5流动到后限位部件6的根部处，被后限位部件6阻挡堆积。当加工物料11堆积到前限位部件7的下端面(底端)时，真空室1被加工物料11密封。真空室1被稳定地密封在此状态下。

当出料时，打开封口部件8，在重力作用下，加工物料11沿出料通道4流出。当加工物料11上表面与后限位部件6上表面(顶端)齐平时，出料结束，关闭封口部件8。此时出料通道4无料，真空室1被加工物料11封闭，从而未改变真空室1工作环境。

随着连续生产，加工物料11在真空室1增多，加工物料11流过后限位部件6的上表面，再次进入出料通道4。加工物料11在真空室1中的位置可通过观察窗9观察。

本申请提供的真空环境出料装置，在出料的过程中也能够隔绝真空室1和出料通道4出口处的大气环境，进而无需中断加工过程，也不需要多次对真空室1抽真空，最终实现连续生产，提高生产效率、降低成本。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。

尽管上面已经示出和描述了本申请的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本申请的限制，本领域的普通技术人员在本申请的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (10)

1.一种真空环境出料装置，其特征在于，包括：具有容置空间的真空室，所述真空室设置有用于物料进入的进料通道，所述真空室远离所述进料通道的一侧下部设置有出料通道；

所述容置空间的底部设置有斜坡，所述斜坡相对较高的一端临近所述进料通道，所述斜坡相对较低的一端临近所述出料通道；

所述斜坡相对较低的一端与所述出料通道之间设置有后限位部件，所述后限位部件远离所述出料通道的一侧间隔设置有与所述后限位部件配合的前限位部件；

所述前限位部件的底端在所述真空环境出料装置的高度方向上低于所述后限位部件的顶端。

2.根据权利要求1所述的真空环境出料装置，其特征在于，所述前限位部件远离其底端的一端与所述真空室的侧壁一体设置或者嵌入所述真空室的侧壁内。

3.根据权利要求2所述的真空环境出料装置，其特征在于，所述前限位部件整体呈“倒L”型，短边的头端为所述前限位部件的底端，长边的头端与所述真空室的侧壁一体设置。

4.根据权利要求1所述的真空环境出料装置，其特征在于，所述出料通道的出料端设置有封口部件。

5.根据权利要求1所述的真空环境出料装置，其特征在于，所述出料通道与所述真空室接触的一端高于所述出料通道的出料一端。

6.根据权利要求5所述的真空环境出料装置，其特征在于，所述出料通道的斜度大于等于所述斜坡的斜度。

7.根据权利要求1所述的真空环境出料装置，其特征在于，所述进料通道设置在所述真空室的侧壁的上部。

8.根据权利要求1所述的真空环境出料装置，其特征在于，所述真空室的侧壁设置有观察窗。

9.根据权利要求8所述的真空环境出料装置，其特征在于，所述观察窗与所述出料通道设置在同一侧。

10.根据权利要求1-9任一项所述的真空环境出料装置，其特征在于，还包括底座，所述真空室设置在所述底座上。

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