CN217604694U - 一种管式扩散炉的气体导向装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种管式扩散炉的气体导向装置，包括设置在管式扩散炉的进气端内的导向盘本体，所述导向盘本体的外缘与管式扩散炉的内壁相接触；所述导向盘本体上开设有气体导向通孔。本实用新型的优点在于：通过在管式扩散炉的进气端内设置导向盘本体，并在导向盘本体上开设气体导向通孔，使得在具体使用时，可以利用导向盘本体上的气体导向通孔对通入的工艺气体进行导向，使工艺气体能够在管式扩散炉内均匀地扩散，从而保证硅片的扩散效果。

Description

一种管式扩散炉的气体导向装置

【技术领域】

本实用新型涉及气体导向装置，特别涉及一种管式扩散炉的气体导向装置。

【背景技术】

硅片是制作晶体管、集成电路的原料，也是光伏产品中的主要部件。硅片一般是单晶硅的切片。通过对硅片进行光刻、离子注入等手段，可以制成各种半导体器件；用硅片制成的芯片有着惊人的运算能力。

目前，在将硅片制造成太阳能电池的主流工序步骤包括：制绒、扩散、刻蚀、镀膜、印刷、烧结等，扩散是制备PN结的重要工艺过程，常规扩散方法是：将硅片放入石英舟中，将载有硅片的石英舟推入至管式扩散炉内，将扩散炉升温至第一预设温度，向扩散炉内通入工艺气体，保持一定时间后进行源沉积，停止通入工艺气体，改换成第二预设温度进行源扩。但是，现有的管式扩散炉内没有设置任何的气体导向结构，导致工艺气体在管式扩散炉内扩散不均匀，进而会影响扩散效果。

【实用新型内容】

本实用新型要解决的技术问题，在于提供一种管式扩散炉的气体导向装置，解决现有工艺气体在管式扩散炉内扩散不均匀的问题。

本实用新型是这样实现的：一种管式扩散炉的气体导向装置，包括设置在管式扩散炉的进气端内的导向盘本体，所述导向盘本体的外缘与管式扩散炉的内壁相接触；所述导向盘本体上开设有气体导向通孔。

进一步的，所述导向盘本体包括第一导向盘和第二导向盘；所述第一导向盘与第二导向盘之间通过第一连接柱相连接；所述第一导向盘上开设有一个第一气体导向通孔，所述第二导向盘上开设有两个或者两个以上第二气体导向通孔。

进一步的，所述第一气体导向通孔设置在所述第一导向盘的中间位置；各所述第二气体导向通孔分布设置在所述第二导向盘的缘部。

进一步的，所述第一气体导向通孔的孔径大于所述第二气体导向通孔的孔径。

进一步的，所述导向盘本体还包括第三导向盘，所述第三导向盘与第二导向盘之间通过第二连接柱相连接；所述第三导向盘上开设有三个或者三个以上的第三气体导向通孔。

进一步的，各所述第三气体导向通孔分布设置在所述第三导向盘的中部和缘部。

进一步的，所述第三气体导向通孔的数量大于所述第二气体导向通孔的数量，且所述第三气体导向通孔的孔径小于所述第二气体导向通孔的孔径。

进一步的，所述第一导向盘的缘部与第二导向盘的缘部之间均匀分布有4根所述第一连接柱；所述第三导向盘的缘部与第二导向盘的缘部之间均匀分布有4根所述第二连接柱。

进一步的，所述第一导向盘、第二导向盘和第三导向盘的底部两侧均形成有与管式扩散炉相配合的支撑台阶，两侧的所述支撑台阶之间形成有水平支撑部。

通过采用本实用新型的技术方案，至少具有如下有益效果：

1、通过在管式扩散炉的进气端内设置导向盘本体，并在导向盘本体上开设气体导向通孔，使得在具体使用时，可以利用导向盘本体上的气体导向通孔对通入的工艺气体进行导向，使工艺气体能够在管式扩散炉内均匀地扩散，从而保证硅片的扩散效果。

2、设计整个导向盘本体包括第一导向盘、第二导向盘和第三导向盘，第一导向盘上开设有第一气体导向通孔，第二导向盘上开设有第二气体导向通孔，第三导向盘上开设有第三气体导向通孔，并且第一导向盘与第二导向盘之间通过第一连接柱固定连接在一起，第二导向盘与第三导向盘之间通过第二连接柱固定连接在一起；使得在具体使用时，当将工艺气体通过第一气体导向通孔通入后，可以经由第二导向盘上的第二气体导向通孔进行第一次扩散，经第一次扩散后的工艺气体又可以通过第三导向盘上的第三气体导向通孔进行第二次扩散，可以确保工艺气体在管式扩散炉内更加均匀地扩散，从而进一步保证硅片的扩散效果。

【附图说明】

下面参照附图结合实施例对本实用新型作进一步的说明。

图1是本实用新型气体导向装置的立体图；

图2是本实用新型中第一导向盘的结构图；

图3是本实用新型中第二导向盘的结构图；

图4是本实用新型中第三导向盘的结构图；

图5是本实用新型中管式扩散炉的结构图。

附图标记说明：

100-气体导向装置，200-管式扩散炉，201-水平面，201-支撑凸台，1-导向盘本体，11-第一导向盘，12-第二导向盘，13-第一连接柱，14-第三导向盘，15-第二连接柱，2-气体导向通孔，21-第一气体导向通孔，22-第二气体导向通孔，23-第三气体导向通孔，16-支撑台阶，17-水平支撑部。

【具体实施方式】

为了更好地理解本实用新型的技术方案，下面将结合说明书附图以及具体的实施方式对本实用新型的技术方案进行详细的说明。

在此需要说明的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述这些实施方式和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。

请参阅图1至图5所示，本实用新型一种管式扩散炉的气体导向装置100，气体导向装置100包括设置在管式扩散炉200的进气端内的导向盘本体1，所述导向盘本体1的外缘与管式扩散炉200的内壁相接触；所述导向盘本体1上开设有气体导向通孔2。

本实用新型通过在管式扩散炉200的进气端内设置导向盘本体1，并在导向盘本体1上开设气体导向通孔2，使得在具体使用时，可以利用导向盘本体1上的气体导向通孔2对通入的工艺气体进行导向，使工艺气体能够在管式扩散炉200内均匀地扩散，从而保证硅片的扩散效果。

在本实用新型的实施例中，所述导向盘本体1包括第一导向盘11和第二导向盘12；所述第一导向盘11与第二导向盘12之间通过第一连接柱13相连接，从而使第一导向盘11与第二导向盘12牢固地结合在一起；所述第一导向盘11上开设有一个第一气体导向通孔21，所述第二导向盘12上开设有两个或者两个以上第二气体导向通孔22。在具体使用时，工艺气体通过第一导向盘11上的第一气体导向通孔21进入第一导向盘11与第二导向盘12之间的空间，然后再经由第二导向盘12上的多个第二气体导向通孔22进行扩散，可以使进入至管式扩散炉200内的工艺气体均匀扩散；其中，通入的工艺气体可以是氮气。

在本实用新型的实施例中，为了保证通入的工艺气体更好地扩散，所述第一气体导向通孔21设置在所述第一导向盘11的中间位置；各所述第二气体导向通孔22分布设置在所述第二导向盘12的缘部，具体可以将各所述第二气体导向通孔22均匀地设置在第二导向盘12的缘部，这样工艺气体在从第一导向盘11的中间位置通入后，会四处扩散并通过第二导向盘12缘部的第二气体导向通孔22。

在本实用新型的实施例中，所述第一气体导向通孔11的孔径大于所述第二气体导向通孔22的孔径。

在本实用新型的实施例中，所述导向盘本体1还包括第三导向盘14，所述第三导向盘13与第二导向盘12之间通过第二连接柱15相连接，从而使第三导向盘13与第二导向盘12牢固地结合在一起；所述第三导向盘14上开设有三个或者三个以上的第三气体导向通孔23。

本实用新型通过设计整个导向盘本体1包括第一导向盘11、第二导向盘12和第三导向盘14，第一导向盘11上开设有第一气体导向通孔21，第二导向盘12上开设有第二气体导向通孔22，第三导向盘14上开设有第三气体导向通孔23，并且第一导向盘11与第二导向盘12之间通过第一连接柱13固定连接在一起，第二导向盘12与第三导向盘14之间通过第二连接柱15固定连接在一起；使得在具体使用时，当将工艺气体通过第一气体导向通孔21通入后，可以经由第二导向盘12上的第二气体导向通孔22进行第一次扩散，经第一次扩散后的工艺气体又可以通过第三导向盘14上的第三气体导向通孔23进行第二次扩散，可以确保工艺气体在管式扩散炉200内更加均匀地扩散，从而进一步保证硅片的扩散效果。

在本实用新型的实施例中，为了使工艺气体更好的进行扩散，各所述第三气体导向通孔23分布设置在所述第三导向盘14的中部和缘部。

在本实用新型的实施例中，所述第三气体导向通孔23的数量大于所述第二气体导向通孔22的数量，且所述第三气体导向通孔23的孔径小于所述第二气体导向通孔22的孔径。

在本实用新型的实施例中，所述第一导向盘11的缘部与第二导向盘12的缘部之间均匀分布有4根所述第一连接柱13，这样第一导向盘11与第二导向盘12可以更牢固地结合在一起；所述第三导向盘14的缘部与第二导向盘12的缘部之间均匀分布有4根所述第二连接柱15，这样第三导向盘14与第二导向盘12可以更牢固地结合在一起。本实用新型在具体实施时，可以设计使第一导向盘11与第二导向盘12之间的间距等于第三导向盘14与第二导向盘12之间的间距，即第一连接柱13与第二连接柱15的长度相等。

在本实用新型的实施例中，为了更好地配合管式扩散炉200的结构，所述第一导向盘11、第二导向盘12和第三导向盘14的底部两侧均形成有与管式扩散炉200相配合的支撑台阶16，两侧的所述支撑台阶16之间形成有水平支撑部17。在具体实施时，管式扩散炉200的内底部形成有水平面201，所述水平支撑部17支撑在水平面201上；管式扩散炉200的内底部在水平面201的两侧形成有支撑凸台202，所述支撑台阶16支撑在支撑凸部202上。

虽然以上描述了本实用新型的具体实施方式，但是熟悉本技术领域的技术人员应当理解，我们所描述的具体的实施例只是说明性的，而不是用于对本实用新型的范围的限定，熟悉本领域的技术人员在依照本实用新型的精神所作的等效的修饰以及变化，都应当涵盖在本实用新型的权利要求所保护的范围内。

Claims (9)

1.一种管式扩散炉的气体导向装置，其特征在于：包括设置在管式扩散炉的进气端内的导向盘本体，所述导向盘本体的外缘与管式扩散炉的内壁相接触；所述导向盘本体上开设有气体导向通孔。

2.如权利要求1所述的气体导向装置，其特征在于：所述导向盘本体包括第一导向盘和第二导向盘；所述第一导向盘与第二导向盘之间通过第一连接柱相连接；所述第一导向盘上开设有一个第一气体导向通孔，所述第二导向盘上开设有两个或者两个以上第二气体导向通孔。

3.如权利要求2所述的气体导向装置，其特征在于：所述第一气体导向通孔设置在所述第一导向盘的中间位置；各所述第二气体导向通孔分布设置在所述第二导向盘的缘部。

4.如权利要求2所述的气体导向装置，其特征在于：所述第一气体导向通孔的孔径大于所述第二气体导向通孔的孔径。

5.如权利要求2所述的气体导向装置，其特征在于：所述导向盘本体还包括第三导向盘，所述第三导向盘与第二导向盘之间通过第二连接柱相连接；所述第三导向盘上开设有三个或者三个以上的第三气体导向通孔。

6.如权利要求5所述的气体导向装置，其特征在于：各所述第三气体导向通孔分布设置在所述第三导向盘的中部和缘部。

7.如权利要求5所述的气体导向装置，其特征在于：所述第三气体导向通孔的数量大于所述第二气体导向通孔的数量，且所述第三气体导向通孔的孔径小于所述第二气体导向通孔的孔径。

8.如权利要求5所述的气体导向装置，其特征在于：所述第一导向盘的缘部与第二导向盘的缘部之间均匀分布有4根所述第一连接柱；所述第三导向盘的缘部与第二导向盘的缘部之间均匀分布有4根所述第二连接柱。

9.如权利要求5所述的气体导向装置，其特征在于：所述第一导向盘、第二导向盘和第三导向盘的底部两侧均形成有与管式扩散炉相配合的支撑台阶，两侧的所述支撑台阶之间形成有水平支撑部。

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