CN217506366U - 一种去光阻系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种去光阻系统，包括反应容器，所述反应容器构造有用于容纳药液的内部反应腔；补液装置，所述补液装置包括补液容器、及用于控制药液输出速度的控制部件，所述补液容器构造有用于存放药液的补液腔，且所述补液腔与所述内部反应腔相连通，且所述控制部件设置于补液腔与内部反应腔的连通路径上；本实用新型所提供的去光阻系统，设计合理，可以有效维持药液浓度保持不变，以便提供的稳定反应条件，一方面，可以保证较高的可重复性，另一方面，可以在去光阻工艺中获得稳定的蚀刻速率，既便于工作人员控制蚀刻时长，又可以有效避免出现光阻残留的问题，防止频繁返工。

Description

一种去光阻系统

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域，具体涉及一种去光阻系统。

背景技术

由于电子设备的广泛应用，集成电路的制造工艺得到了飞速的发展，集成电路的制造流程涉及涂覆光阻、曝光、显影、蚀刻、去光阻等一系列操作，其中，去光阻这一过程通常是将晶圆放置于去光阻溶剂中进行蚀刻，以便去除晶圆上涂覆的光阻。

在三五族化合物半导体曝光显影蚀刻制程中，对去光阻工艺有较高的要求，希望能稳定有效去除光阻；然而，现有的去光阻工艺，不能提供稳定的反应条件，例如，随着反应时间的增加，药液（即去光阻溶剂）浓度会逐渐降低，导致蚀刻速率逐渐下降，即，随着反应时间的增加，实时的反应条件与初始时的反应条件不一致，从而导致去光阻时长不确定，非常容易发生光阻残留的问题，不能有效完成去光阻工艺；而且，当出现光阻残留的问题时，还需要返工再次进行蚀刻，费时、费力，亟待解决。

实用新型内容

本实用新型第一方面要解决现有的去光阻工艺，不能提供稳定的反应条件，使得药液浓度随着反应时间的增加而降低、蚀刻速率逐渐下降，导致去光阻时长不确定，非常容易发生光阻残留的问题，提供了一种去光阻系统，可以有效维持药液浓度不变，以便提供稳定的反应条件，从而可以在去光阻工艺中获得稳定的蚀刻速率，既便于控制蚀刻时长，又可以有效避免光阻残留的问题，主要构思为：

一种去光阻系统，包括反应容器，所述反应容器构造有用于容纳药液的内部反应腔；

补液装置，所述补液装置包括补液容器、及用于控制药液输出速度的控制部件，所述补液容器构造有用于存放药液的补液腔，且所述补液腔与所述内部反应腔相连通，且所述控制部件设置于补液腔与内部反应腔的连通路径上。在本方案中，通过设置在反应容器中构造内部反应腔，既可以容纳药液，也可以为反应过程提供场所，通过设置补液容器，用于存放药液，通过将补液容器的补液腔与反应容器的内部反应腔相连通，并将控制部件设置于补液腔与内部反应腔的连通路径上，使得工作人员可以根据反应过程中药液的消耗速率精确的调节控制部件，使得补液容器中的药液可以以相当的速率连续不断的补充进内部反应腔中，使得反应过程中内部反应腔内的药液浓度保持不变，即，使得反应过程中的药液浓度与初始时的药液浓度相同，可以提供稳定的反应条件，从而可以在去光阻工艺中获得稳定的蚀刻速率，不仅可以保证较高的可重复性，而且便于工作人员控制蚀刻时长，可以有效避免出现光阻残留、频繁返工的问题。

为解决补液容器中的药液可以输入内部反应腔的问题，优选的，所述补液容器设置于所述反应容器的上方。使得补液腔中的药液可以在重力的作用下自动进入下方的内部反应腔中。

优选的，控制部件为阀门或计量泵。

优选的，所述补液装置为滴定管。

可选的，所述反应容器与补液装置为一体结构。

为解决补液腔与内部反应腔相连通的问题，优选的，所述反应容器构造有与所述内部反应腔相连通的第一连通孔；

所述补液容器插接于所述第一连通孔，且控制部件设置于所述补液容器；或，所述补液容器通过管道与所述第一连通孔相连通，所述控制部件设置于所述管道。

由于在反应过程中，药液中的水发生蒸发时，会出现药液浓度升高、蚀刻速率加快的问题，导致反应条件不稳定，为解决这一问题，进一步的，还包括冷凝装置，所述冷凝装置设置于所述反应容器的上方，并与所述内部反应腔相连通，用于冷凝药液所蒸发的水。通过设置冷凝装置，使得在反应过程中，从药液中蒸发的水蒸气可以快速冷凝为液体，而通过将冷凝装置设置于反应容器的上方，使得被冷凝为液体的水可以在重力的作用下自动回流到内部反应腔内的药液中，从而可以防止反应过程中药液中的水出现损失，使得反应过程中，药液的浓度维持不变，以获得稳定的反应条件，更有利于使蚀刻速率保持稳定。

优选的，所述冷凝装置包括蛇形冷凝管，所述反应容器构造有与所述内部反应腔相连通的第二连通孔，所述蛇形冷凝管的下端经由所述第二连通孔与所述内部反应腔相连通。蛇形冷凝管具有较大的冷却面，更有利于起到冷凝的效果。

进一步的，所述冷凝装置还包括第一循环系统，所述第一循环系统包括用于盛装循环液的第一容器及水泵，所述蛇形冷凝管包括内芯管和外套管，所述内芯管为螺旋形，且内芯管与所述内部反应腔相连通，所述外套管的下端构造有进口，外套管的上端构造有出口，所述第一容器分别通过两根管道与所述进口和出口相连通，且所述水泵与其中一根管道相连。水泵用于提供循环动力，使得第一容器内的循环液可以经由进口进入外套管，并经由出口返回第一容器，并在流经外套管的过程中与内芯管发生热交换并带走热量，从而有利于实现更好的冷凝效果。

为解决保持内部反应腔内药液浓度均匀的问题，进一步的，还包括用于搅拌药液的搅拌装置。通过设置搅拌装置，有利于内部反应腔内药液混合均匀，从而有利于保持内部反应腔的内药液浓度均一。

优选的，所述搅拌装置包括磁力搅拌器及与所述磁力搅拌器相适配的搅拌子，所述搅拌子放置于所述内部反应腔中，且搅拌子具有磁性，磁力搅拌器用于驱动搅拌子旋转。搅拌子的转速可控，且能保持不变，既可以达到匀速搅拌药液的目的，又可以满足不同场合的需求。

本实用新型第二方面要解决现有的去光阻工艺，不能提供稳定的反应温度，导致药液浓度容易出现变化，进而导致反应条件不稳定，使得去光阻时长不确定，非常容易发生光阻残留的问题，进一步的，还包括控温装置，所述控温装置包括第二循环系统，所述第二循环系统包括套设于反应容器外部的外套筒、用于盛装循环液的第二容器及水泵，所述外套筒与所述反应容器之间成型封闭的控温腔，所述外套筒构造有与所述控温腔相连通的进口和出口，所述第二容器分别通过两根管道与所述进口和出口相连通，且所述水泵与其中一根管道相连。水泵用于提供循环动力，使得第二容器内的循环液可以经由进口进入控温腔，并经由出口返回第二容器，并在流经控温腔的过程中与反应容器发生热交换，并可以达到恒温水浴的目的，使得反应容器内药液的温度保持不变，一方面，可以有效解决因药液温度的变化而导致药液浓度变化的问题，从而有利于保持药液浓度的恒定，另一方面，可以获得稳定的反应温度，从而有利于获得稳定的反应条件，进而可以在去光阻工艺中获得稳定的蚀刻速率，便于控制蚀刻时长，且可以有效避免出现光阻残留、频繁返工的问题。

为解决调节反应容器内药液温度的问题，进一步的，所述控温装置还包括具有加热和/或冷却功能的温控器，所述温控器用于控制第二容器内循环液的温度。在本方案中，通过设置温控器，可以通过加热和/冷却的方式调节第二容器内循环液的温度，而循环液与反应容器内药液时刻处于热交换状态，当循环液的温度发生改变时，反应容器内药液的温度也会相应的发生改变，当循环液的温度保持不变时，反应容器内药液的温度也会相应的保持不变，从而达到有效调节和控制反应容器内药液温度的目的。

为便于查看反应容器内药液的温度，进一步的，还包括用于检测反应容器内药液温度的测温装置，所述测温装置为温度计，

或，所述测温装置包括温度传感器、控制器、及与控制器相连的显示器，所述温度传感器设置于所述内部反应腔中，并通过导线与所述控制器相连，显示器用于显示温度。

为进一步控制温度，解决环境温度对反应容器内药液温度的影响，进一步的，还包括用于盛装液体的第三容器、及具有加热和/或冷却功能的温控器，

所述外套筒浸泡于第三容器内的液体中，所述温控器用于控制第三容器内液体的温度。通过设置温控器，可以调节和控制第三容器内液体的温度，并可以使第三容器内液体稳定的保持所设定的温度，而通过将外套筒浸泡于第三容器内的液体中，不仅可以减少外套筒及外套筒内循环液与环境的热交换，有利于外套筒内的循环液及内部反应腔中的药液保持稳定的温度，而且可以在外套筒外形成不同的环境温度，以便满足不同场合的需求。

优选的，所述温控器内构造有内腔，所述内腔中设置有加热部件和/或冷却部件，内腔分别通过进水管和出水管与所述第二容器或第三容器相连通，且所述进水管或出水管设置有水泵。

与现有技术相比，使用本实用新型提供的一种去光阻系统，结构紧凑、设计合理，可以有效维持药液浓度基本保持不变，以便提供的稳定反应条件，一方面，可以保证较高的可重复性，另一方面，可以在去光阻工艺中获得稳定的蚀刻速率，既便于工作人员控制蚀刻时长，又可以有效避免出现光阻残留的问题，防止频繁返工。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1为本实用新型实施例1中提供的一种去光阻系统的结构示意图。

图2为本实用新型实施例1中提供的另一种去光阻系统的结构示意图。

图3为本实用新型实施例1中提供的又一种去光阻系统的结构示意图。

图4为本实用新型实施例2中提供的一种去光阻系统的结构示意图。

图5为本实用新型实施例2中提供的另一种去光阻系统的结构示意图。

图6为本实用新型实施例2中提供的又一种去光阻系统的结构示意图。

图7为本实用新型实施例3中提供的一种去光阻系统的结构示意图。

图8为本实用新型实施例4中提供的一种去光阻系统的结构示意图。

图中标记说明

反应容器100、盖子101、第一连通孔102、第二连通孔103、药液104

补液容器201、阀门202、计量泵203、管道204、滴定管205

蛇形冷凝管300、内芯管301、外套管302、第一容器303、水泵304、循环液305

磁力搅拌器400、搅拌子401

第二容器500、外套筒501、温控器502、进水管503、出水管504

温度传感器601、导线602、显示器603

第三容器600。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本实用新型的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围，而是仅仅表示本实用新型的选定实施例。基于本实用新型的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

实施例1

本实施例中提供了一种去光阻系统，包括反应容器100和补液装置，其中，所述反应容器100构造有用于容纳药液的内部反应腔，如图1所示，既可以容纳药液，也可以为反应过程提供场所。

所述补液装置包括补液容器201、及用于控制药液输出速度的控制部件，所述补液容器201构造有用于存放药液的补液腔，如图1-图3所示，且所述补液腔与所述内部反应腔相连通，所述控制部件设置于补液腔与内部反应腔的连通路径上，所述连通路径是指药液从补液腔进入内部反应腔的过程中所流过的路径，使得工作人员可以根据反应过程中药液的消耗速率精确的调节控制部件，使得补液容器201中的药液可以以相当的速率连续不断的补充进内部反应腔中，使得反应过程中内部反应腔内的药液浓度保持不变，即，使得反应过程中的药液浓度与初始时的药液浓度相同，可以提供稳定的反应条件，从而可以在去光阻工艺中获得稳定的蚀刻速率，不仅可以保证较高的可重复性，而且便于工作人员控制蚀刻时长，可以有效避免出现光阻残留、频繁返工的问题。

为便于补液腔与内部反应腔相连通，所述反应容器100构造有与内部反应腔相连通的第一连通孔102，如图1所示，使得补液容器201可以通过第一连通孔102与反应容器100相连通，作为一种举例，所述补液容器201可以通过管道204与所述第一连通孔102相连通，此时，所述控制部件可以设置于所述管道204，而补液容器201与反应容器100之间具有多种位置关系，当补液容器201设置于反应容器100的下方或同一高度处时，所述控制部件可以优先采用计量泵203，如图1所示，计量泵203可以同时完成输送、计量以及调节的功能，便于精确控制流速，当而补液容器201设置于反应容器100的上方时，二者之间存在高度差，使得补液腔中的药液可以在重力的作用下自动进入下方的内部反应腔中，而无需提供额外的动力，此时，所述控制部件可以优选采用阀门202。

在本实施例中，反应容器100与补液装置可以是两个单独的装置，例如，在一种实施方式中，所述补液装置可以是滴定管205（或称为滴定量筒），如图2及图3所示，滴定管205不仅包括所述补液容器201，而且补液容器201的下端还自带有阀门202，且滴定管205还设置有刻度线，如图2所示，在实际使用时，滴定管205的下端可以插接于第一连通孔102，使得滴定管205保持竖直状态即可，非常的方便。

此外，反应容器100与补液装置也可以为一体结构，有利于整个系统的结构更加紧凑。

由于在反应过程中，药液中的水发生蒸发时，会出现药液浓度升高、蚀刻速率加快的问题，导致反应条件不稳定，为解决这一问题，在进一步的方案中，本系统还包括冷凝装置，所述冷凝装置设置于所述反应容器100的上方，并与所述内部反应腔相连通，冷凝装置用于冷凝药液所蒸发的水，使得在反应过程中，从药液中蒸发的水蒸气可以快速冷凝为液体，而通过将冷凝装置设置于反应容器100的上方，使得被冷凝为液体的水可以在重力的作用下自动回流到内部反应腔内的药液中，从而可以防止反应过程中药液中的水出现损失，使得反应过程中，药液的浓度维持不变，以获得稳定的反应条件，更有利于使蚀刻速率保持稳定。

冷凝装置可以采用现有的冷凝装置，而在本实施例所提供的优选实施方式中，所述冷凝装置包括蛇形冷凝管300，如图1-图3所示，反应容器100构造有与内部反应腔相连通的第二连通孔103，所述蛇形冷凝管300的下端经由所述第二连通孔103与所述内部反应腔相连通，使得反应容器100内上升的蒸发水可以顺利进入蛇形冷凝管300，蛇形冷凝管300具有较大的冷却面，更有利于起到冷凝的效果，使得蒸发水可以快速被冷凝为液体，并返流回反应容器100内。

为使得冷凝装置的热量可以及时排除，在更完善的方案中，所述冷凝装置还包括第一循环系统，所述第一循环系统包括用于盛装循环液305的第一容器303和用于提供循环动力的水泵304，所述循环液305可以是水，蛇形冷凝管300包括内芯管301和外套管302，如图1-图3所示，其中，内芯管301为螺旋形，且内芯管301与内部反应腔相连通，内芯管301的上端通常处于封闭状态，所述外套管302下端的侧面构造有进口，且外套管302上端的侧面构造有出口，如图1-图2所示，第一容器303分别通过两根管道204与所述进口和出口相连通，且所述水泵304与其中一根管道204相连，在实际运行是，水泵304使得第一容器303内的循环液305可以经由进口进入外套管302，并经由出口返回第一容器303，并在流经外套管302的过程中停留所设定的时长，同时与内芯管301发生热交换并带走热量，从而有利于实现更好的冷凝效果。

为使得内部反应腔内药液浓度均匀，在更进一步的方案中，本系统还包括用于搅拌药液的搅拌装置，有利于内部反应腔内药液混合均匀，从而有利于保持内部反应腔的内药液浓度均一；搅拌装置具有多种实施方式，作为优选的实施方式，所搅拌装置包括磁力搅拌器400及与所述磁力搅拌器400相适配的搅拌子401，其中，搅拌子401具有磁性，以便与磁力搅拌器400相互配合，搅拌子401放置于内部反应腔中，即，在反应过程中，搅拌子401放置于药液内，如图3所示，磁力搅拌器400用于驱动搅拌子401旋转，其具体原理这里不再赘述，在实际使用时，搅拌子401的转速可以通过磁力搅拌器400进行控制，且能保持处于转速不变的状态，既可以达到匀速搅拌药液的目的，又可以满足不同搅拌强度的需求。

在具体实施时，内部反应腔可以是构造于反应容器100内的封闭空腔，也可以是未封闭的空腔，此时，还包括盖子101，如图1-图3所示，盖子101可拆卸的安装于所述反应容器100，以便封闭所述内部反应腔，例如，盖子101可以通过螺纹连接或卡扣连接等固定于反应容器100，且所述第一连通孔102和第二连通孔103可以分别构造于所述盖子101。

为便于观察，在本实施例中，所述反应容器100、补液容器201和/或第一容器303优先采用透明材料制成，例如，可以采用透明塑料、玻璃等材料制成。

可以理解，在本实施例中，所述第一容器303和反应容器100可以是单独的部件，而为便于系统的集成，在更完善的方案中，所述第一容器303可以固定于所述反应容器100，或者，第一容器303和反应容器100都安装于同一机架或构造于同一机架，使得第一容器303与反应容器100可以连为一个整体，达到集成的目的，便于转移、运输、使用和收纳。

实施例2

在实施例1的基础上，为解决现有的去光阻工艺，不能提供稳定的反应温度，导致药液浓度容易出现变化，进而导致反应条件不稳定，使得去光阻时长不确定，非常容易发生光阻残留的问题，本实施例所提供的去光阻系统，还包括控温装置，所述控温装置包括第二循环系统，所述第二循环系统包括套设于反应容器100外部的外套筒501、用于盛装循环液305的第二容器500及用于提供循环动力的水泵304，如图4所示，所述外套筒501与所述反应容器100之间可以成型封闭的控温腔，以便包裹反应容器100内的药液，且所述外套筒501构造有与所述控温腔相连通的进口和出口，如图4所示，第二容器500分别通过两根管道204与所述进口和出口相连通，且水泵304与其中一根管道204相连，使得第二容器500内的循环液305可以经由进口进入控温腔，并经由出口返回第二容器500，并在流经控温腔的过程中与反应容器100发生热交换，并可以达到恒温水浴的目的，使得反应容器100内药液的温度保持不变，采用这样的结构设计：一方面，可以有效解决因药液温度的变化而导致药液浓度变化的问题，从而有利于保持药液浓度的恒定，另一方面，可以获得稳定的反应温度，从而有利于获得稳定的反应条件，进而可以在去光阻工艺中获得稳定的蚀刻速率，便于控制蚀刻时长，且可以有效避免出现光阻残留、频繁返工的问题。

为便于调节和控制反应容器100内药液的温度，在更进一步的方案中，所述控温装置还包括具有加热和/或冷却功能的温控器502，如图5所示，使得温控器502可以通过加热和/冷却的方式调节第二容器500内循环液305的温度，而循环液305与反应容器100内药液时刻处于热交换状态，当循环液305的温度发生改变时，反应容器100内药液的温度也会相应的发生改变，当循环液305的温度保持不变时，反应容器100内药液的温度也会相应的保持不变，从而达到有效调节和控制反应容器100内药液温度的目的。

温控器502具有多种实施方式，作为一种举例，当温控器502只具有加热功能时，所述温控器502可以采用现有技术中常用的加热器，如可以采用设置有电加热丝的加热器，以便利用电加热丝加热循环液305；作为另一种举例，当温控器502只具有冷却功能时，所述温控器502可以采用现有技术中常用的制冷器，以便利用制冷器带走循环液305的热量，达到降温的目的，作为又一种举例，当温控器502同时具有加热和冷却功能时，所述温控器502可以采用现有技术中常用的同时具有加热和冷却功能的温控器502，作为举例，如图5所示，在本实施例中，所述温控器502内构造有内腔，所述内腔中设置有加热部件（如电电热丝）和/或冷却部件（如制冷器、半导体制冷片等），且温控器502设置有相应的温度控制电路或芯片，以便控制温度，如图5所示，内腔分别通过进水管503和出水管504与所述第二容器500相连通，且所述进水管503或出水管504设置有水泵304，使得第二容器500内的循环液305可以经由进水管503进入内腔，并在内腔中加热或冷却后，经由出水管504返回第二容器500，如此循环，可以达到精确调节第二容器500内循环液305温度的目的。

为便于查看反应容器100内药液的温度，在更完善的方案中，本系统还包括用于检测反应容器100内药液温度的测温装置，测温装置具有多种实施方式，例如，所述测温装置可以为温度计，使得工作人员可以直观的查看反应容器100内药液的温度；又如，所述测温装置包括温度传感器601、控制器、及与控制器相连的显示器603，如图6所示，控制器与显示器603可以集成在一起，所述温度传感器601设置于所述内部反应腔中，并通过导线602与所述控制器相连，以便检测反应容器100内药液的温度，而显示器603用于显示温度，以便工作人员查看；作为优选，所述温度传感器601可以采用热电偶、热电阻等，而所述控制器可以优先采用单片机。

可以理解，在本实施例中，所述第一容器303、第二容器500以及反应容器100可以是单独的部件，而为便于系统的集成，在本实施例中，所述第一容器303和第二容器500可以分别固定于所述反应容器100，或者，第一容器303、第二容器500以及反应容器100都安装于同一机架或构造于同一机架，使得第一容器303、第二容器500及反应容器100可以连为一个整体，达到集成的目的，便于转移、运输、使用和收纳。

实施例3

在实施例1的基础上，为解决环境温度对反应容器100内药液温度的影响，本实施例所提供的去光阻系统，还包括用于盛装液体的第三容器600、及具有加热和/或冷却功能的温控器502，如图7所示，所述反应容器100浸泡于第三容器600内的液体中，所述液体优先采用水，所述温控器502可以采用实施例2中所述的温控器502，以便控制第三容器600内液体的温度；在实际使用时，温控器502可以调节和控制第三容器600内液体的温度，并可以使第三容器600内液体稳定的保持所设定的温度，而通过将反应容器100浸泡于第三容器600内的液体中，不仅可以减少反应容器100内药液与环境的热交换，有利于内部反应腔中的药液保持稳定的温度，而且可以在反应容器100外形成不同的环境温度，以便满足不同环境温度的需求。

同样地，为便于系统的集成，在本实施例中，所述反应容器100、第一容器303以及第二容器500可以分别固定于所述第三容器600，或者，第一容器303、第二容器500、第三容器600以及反应容器100都安装于同一机架或构造于同一机架，使得第一容器303、第二容器500、第三容器600及反应容器100可以连为一个整体，达到集成的目的，便于转移、运输、使用和收纳。

实施例4

在实施例2的基础上，为解决环境温度对反应容器100内药液温度的影响，本实施例所提供的去光阻系统，还包括用于盛装液体的第三容器600、及具有加热和/或冷却功能的温控器502，如图8所示，所述外套筒501浸泡于第三容器600内的液体中，所述液体优先采用水，所述温控器502可以采用实施例2中所述的温控器502，以便控制第三容器600内液体的温度；在实际使用时，温控器502可以调节和控制第三容器600内液体的温度，并可以使第三容器600内液体稳定的保持所设定的温度，而通过将外套筒501浸泡于第三容器600内的液体中，不仅可以减少外套筒501及外套筒501内循环液305与环境的热交换，有利于外套筒501内的循环液305及内部反应腔中的药液保持稳定的温度，而且可以在外套筒501外形成不同的环境温度，以便满足不同环境温度的。

同样地，为便于系统的集成，在本实施例中，所述反应容器100、第一容器303以及第二容器500可以分别固定于所述第三容器600，或者，第一容器303、第二容器500、第三容器600以及反应容器100都安装于同一机架或构造于同一机架，使得第一容器303、第二容器500、第三容器600及反应容器100可以连为一个整体，达到集成的目的，便于转移、运输、使用和收纳。

以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (15)

1.一种去光阻系统，其特征在于，包括反应容器，所述反应容器构造有用于容纳药液的内部反应腔；

补液装置，所述补液装置包括补液容器、及用于控制药液输出速度的控制部件，所述补液容器构造有用于存放药液的补液腔，且所述补液腔与所述内部反应腔相连通，且所述控制部件设置于补液腔与内部反应腔的连通路径上。

2.根据权利要求1所述的去光阻系统，其特征在于，所述补液容器设置于所述反应容器的上方。

3.根据权利要求1所述的去光阻系统，其特征在于，所述控制部件为阀门或计量泵；

和/或，所述反应容器与补液装置为一体结构。

4.根据权利要求2所述的去光阻系统，其特征在于，所述补液装置为滴定管。

5.根据权利要求1所述的去光阻系统，其特征在于，所述反应容器构造有与所述内部反应腔相连通的第一连通孔；

所述补液容器插接于所述第一连通孔，且控制部件设置于所述补液容器；或，所述补液容器通过管道与所述第一连通孔相连通，所述控制部件设置于所述管道。

6.根据权利要求1-5任一所述的去光阻系统，其特征在于，还包括冷凝装置，所述冷凝装置设置于所述反应容器的上方，并与所述内部反应腔相连通，用于冷凝药液所蒸发的水。

7.根据权利要求6所述的去光阻系统，其特征在于，所述冷凝装置包括蛇形冷凝管，所述反应容器构造有与所述内部反应腔相连通的第二连通孔，所述蛇形冷凝管的下端经由所述第二连通孔与所述内部反应腔相连通。

8.根据权利要求7所述的去光阻系统，其特征在于，所述冷凝装置还包括第一循环系统，所述第一循环系统包括用于盛装循环液的第一容器及水泵，

所述蛇形冷凝管包括内芯管和外套管，所述内芯管为螺旋形，且内芯管与所述内部反应腔相连通，所述外套管的下端构造有进口，外套管的上端构造有出口，

所述第一容器分别通过两根管道与所述进口和出口相连通，且所述水泵与其中一根管道相连。

9.根据权利要求1-5任一所述的去光阻系统，其特征在于，还包括用于搅拌药液的搅拌装置。

10.根据权利要求9所述的去光阻系统，其特征在于，所述搅拌装置包括磁力搅拌器及与所述磁力搅拌器相适配的搅拌子，所述搅拌子放置于所述内部反应腔中，且搅拌子具有磁性，磁力搅拌器用于驱动搅拌子旋转。

11.根据权利要求1-5任一所述的去光阻系统，其特征在于，还包括用于检测反应容器内药液温度的测温装置，

所述测温装置为温度计，或，所述测温装置包括温度传感器、控制器、及与控制器相连的显示器，所述温度传感器设置于所述内部反应腔中，并通过导线与所述控制器相连，显示器用于显示温度。

12.根据权利要求1-5任一所述的去光阻系统，其特征在于，还包括控温装置，所述控温装置包括第二循环系统，所述第二循环系统包括套设于反应容器外部的外套筒、用于盛装循环液的第二容器及水泵，所述外套筒与所述反应容器之间成型封闭的控温腔，所述外套筒构造有与所述控温腔相连通的进口和出口，

所述第二容器分别通过两根管道与所述进口和出口相连通，且所述水泵与其中一根管道相连。

13.根据权利要求12所述的去光阻系统，其特征在于，所述控温装置还包括具有加热和/或冷却功能的温控器，所述温控器用于控制第二容器内循环液的温度。

14.根据权利要求12所述的去光阻系统，其特征在于，还包括用于盛装液体的第三容器、及具有加热和/或冷却功能的温控器，所述反应容器浸泡于第三容器内的液体中，所述温控器用于控制第三容器内液体的温度；

或，还包括用于盛装液体的第三容器、及具有加热和/或冷却功能的温控器，所述外套筒浸泡于第三容器内的液体中，所述温控器用于控制第三容器内液体的温度。

15.根据权利要求14所述的去光阻系统，其特征在于，所述温控器内构造有内腔，所述内腔中设置有加热部件和/或冷却部件，内腔分别通过进水管和出水管与所述第二容器或第三容器相连通，且所述进水管或出水管设置有水泵。

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