CN217181402U - 一种基材处理的设备 - Google Patents

Abstract

本申请实施例公开了一种基材处理的设备，包括：涂布装置，用于在沿送料方向以第一速度被运送的基材上涂布物料；干燥装置，用于以第一速度接收经涂布装置涂布后的基材，并干燥物料；曝光装置，用于以第一速度接收经干燥装置干燥后的基材并沿送料方向以第一速度连续运送掩盖膜，掩盖膜用于在曝光装置曝光物料时进行区域性遮光，以使曝光装置按照第一速度连续并区域性曝光物料；刻蚀装置，用于以第一速度接收经曝光装置曝光后的基材，并将基材上未曝光区域的物料以及基材刻蚀。本申请提供的基材处理设备能够在一个设备中完成基材的涂布、干燥、曝光以及刻蚀，提高了处理基材的效率。

Description

一种基材处理的设备

技术领域

本申请涉及基材处理领域，更为具体地，涉及一种基材处理的设备。

背景技术

随着电子产品的迅速发展，对电子加工提出了跟高的要求。刻蚀工艺是电子加工中重要的工艺之一，通过物理或化学方法选择性去除基底或基底上的涂覆的物料的，从而在基底上设计各种精细结构。

基材的处理过程通常由涂布、干燥、曝光、显影、刻蚀组成，各个步骤由分立的涂布机、干燥机、曝光机等分别完成。这些分立的设备无法一体化集成，无法控制基材处理的一致性且无法节省各个步骤之间转移基材的时间与设备成本，从而限制了基材处理的质量与效率。因此，如何提高基材处理的效率是一项丞待解决的问题。

实用新型内容

本申请实施例提供了一种基材处理设备，能够通过一台设备完成基材的涂布、干燥、曝光以及刻蚀步骤，各个步骤之间无需转移基材，有效提高基材处理的质量与效率。

第一方面，提供一种基材处理的设备，包括：涂布装置，用于在沿送料方向以第一速度被运送的基材上涂布物料；干燥装置，用于以所述第一速度接收经所述涂布装置涂布后的所述基材，并干燥所述物料；曝光装置，用于以所述第一速度接收经所述干燥装置干燥后的所述基材并沿所述送料方向以所述第一速度连续运送掩盖膜，所述掩盖膜用于在所述曝光装置曝光所述物料时进行区域性遮光，以使所述曝光装置按照所述第一速度连续并区域性曝光所述物料；刻蚀装置，用于以所述第一速度接收经所述曝光装置曝光后的所述基材，并将所述基材上未曝光区域的所述物料以及所述基材刻蚀。

本申请的实施例中，曝光装置能够沿送料方向持续运送掩盖膜，在曝光过程中，掩盖膜能够与基材在曝光区域同步运动，使得基材无需在曝光区域周期性停留。基于此，物料能够以同样的送料速度被运送至各个装置中并且以相同的送料速度完成各个步骤的加工处理，曝光装置能够与涂布装置、干燥装置以及刻蚀装置能够被集成于同一设备形成一体化设备，从而节省了基材处理过程中各个处理步骤之间转移基材的时间，提高了基材处理的效率；另外，通过一体化设备进行基材处理，还能够帮助节省各个处理步骤之间转移基材的设备成本。

在一些实施例中，所述设备还包括：送料装置，用于以所述第一速度沿所述送料方向运送所述基材。

本申请的实施例中，通过送料装置持续以第一速度运送基材，便于控制基材在各个装置中的运动状态，例如，运动方向、运动速度。从而提升基材在设备中行动的一致性，帮助提高基材处理的一致性与质量。

在一些实施例中，所述设备还包括：清洗装置，用于以所述第一速度接收经所述刻蚀装置刻蚀后的所述基材，并清洗所述基材。

本申请的实施例中，基材处理设备中还可以集成清洗装置，对刻蚀后的基材进行清洗，使得基材处理设备输出的基材能够直接进行应用，丰富了基材处理设备的功能并提高了基材处理设备的性能。

在一些实施例中，所述涂布装置包括：第一送料模块，所述第一送料模块使得所述涂布装置中的所述送料方向为竖直方向。

本申请的实施例中，涂布装置具有不同于送料装置的第一送料模块，使得基材在涂布装置中至少部分是处于竖直状态。涂布装置中以竖直方向运送基材，能够使得灰尘在重力下自热掉落，减少粘附在物料或基材上的灰尘，提高涂布质量。另外，基材在涂布过程中竖直传输，结构紧凑，能够减少涂布装置整体的体积以，提高基材处理设备的空间利用率。

在一些实施例中，所述涂布装置通过凹版涂布工艺进行涂布。

本申请的实施例中，采用凹版涂布的方式，能够在基材上涂布均匀连续且较薄的物料，且物料表面没有胶印、褶皱等缺陷，帮助提高涂布质量。

在一些实施例中，所述基材具有第一表面以及和所述第一表面相对的第二表面，所述涂布装置用于在所述第一表面和所述第二表面上涂布所述物料。

本申请的实施例中，涂布装置能够对基材的两侧同时进行涂布，提高了涂布效率，从而帮助提高了基材处理的效率。

在一些实施例中，所述干燥装置包括：多个加热管和多个风刀，所述多个加热管以及所述多个风刀沿所述送料方向间隔设置于所述基材的两侧。

本申请实施例中，采用风刀以及加热管组合方式，能够快速干燥涂覆于基材上的物料使物料预固化，基材无需在干燥装置中进行停留，从而使得干燥装置能够配合其他装置使基材始终以相同的送料速度沿送料方向行进，便于设备一体化集成。

在一些实施例中，所述曝光装置包括：掩盖膜运送模块，所述掩盖膜运送模块用于沿所述送料方向以所述第一速度连续运送所述掩盖膜。

本申请的实施例中，曝光装置具有能够持续运送掩盖膜的掩盖膜运送模块。掩盖膜不是被固定于光源与基材之间，而是与基材一起以相同的速度和方向经过曝光区域，能够实现连续曝光；基材无需在曝光区域停留，使得曝光装置能够与其他装置配合始终以相同的送料速度沿送料方向在加工过程中运送基材，便于设备一体化集成；并且，在曝光过程中掩盖膜与基材始终保持相对静止，能够保证掩盖膜上的图案快速且完全曝光至基材上，具有良好的图形一致性；另外，曝光图案无需与基材的行进方向一致，使得曝光装置能够进行连续复杂图案的加工，提高曝光装置的工作效率与性能，从而帮助提升了基材处理设备的效率与性能。

在一些实施例中，所述掩盖膜为环形掩盖膜，所述掩盖膜运送模块用于以所述第一速度转动所述环形掩盖膜。

本申请的实施例中，通过采用环形掩盖膜能够循环利用掩盖膜上的图案进行曝光，帮助提升曝光图案的一致性，并且使得曝光装置的结构更为紧凑，帮助提高基材处理设备的空间利用率。

在一些实施例中，所述掩盖膜运送模块包括：第一主动辊与从动辊，所述第一主动辊以所述第一速度为线速度转动，所述第一主动辊与所述从动辊设置于所述环形掩盖膜内部以使所述环形掩盖膜转动。

本申请的实施例中，掩盖膜运送模块采用主动辊与从动辊的结构转动掩盖膜，能够通过控制主动辊的转速与转动方向控制掩盖膜的运动状态，通过从动辊固定掩盖膜的运动轨迹，从而实现对掩盖膜的灵活控制，提高曝光装置的灵活性，从而帮助提升基材处理设备的处理性能。

在一些实施例中，所述刻蚀装置包括：导电辊、第一电极以及刻蚀槽，所述导电辊与所述第一电极设置于所述刻蚀槽内，所述刻蚀槽内具有电解质溶液；其中，所述导电辊与所述第一电极的极性相反，所述导电辊与曝光后的所述基材接触并将所述基材以所述第一速度运送至所述刻蚀槽内。

本申请的实施例中，刻蚀装置采用电化学刻蚀法，能够对基材进行快速刻蚀，保证基材在以一定速度行进的过程中完成刻蚀步骤，使得基材无需在刻蚀装置中停留，刻蚀装置能够配合其他装置使基材始终以相同的送料速度沿送料方向行进，便于刻蚀装置与其他装置的一体化集成。

在一些实施例中，所述清洗装置包括：喷淋杆和清洗槽，所述喷淋杆用于向刻蚀后的所述基材喷淋清洗液体，所述水洗槽用于收集并排放清洗所述基材后的废液。

本申请的实施例中，清洗装置采用喷淋杆和清洗槽的组合结构，能够快速清洗刻蚀后的基材，去除基材表面残余的物料、刻蚀液等物质，便于基材处理设备输出能够直接进行应用的基材。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对本申请实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面所描述的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据附图获得其他的附图。

图1是本申请一种车辆的示意性结构图；

图2是本申请一种电池的示意性结构图；

图3是本申请一种基材处理设备的示意性结构图；

图4为本申请一种掩盖膜的示意性结构图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本申请的实施方式作进一步详细描述。以下实施例的详细描述和附图用于示例性地说明本申请的原理，但不能用来限制本申请的范围，即本申请不限于所描述的实施例。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有说明，“多个”的含义是两个以上；术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。“垂直”并不是严格意义上的垂直，而是在误差允许范围之内。“平行”并不是严格意义上的平行，而是在误差允许范围之内。

下述描述中出现的方位词均为图中示出的方向，并不是对本申请的具体结构进行限定。在本申请的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可视具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

本申请中术语“和/或”，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：存在A，同时存在A和B，存在B这三种情况。另外，本申请中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。

除非另有定义，本申请所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的技术领域的技术人员通常理解的含义相同；本申请中在申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本申请；本申请的说明书和权利要求书及上述附图说明中的术语“包括”和“具有”以及它们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。本申请的说明书和权利要求书或上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别不同对象，而不是用于描述特定顺序或主次关系。

在本申请中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本申请所描述的实施例可以与其它实施例相结合。

实际生产生活中，为了提高活性物质层在集流体表面的稳定性以及提高集流体表面活性物质的负载量，通常会对集流体进行设计加工，使其表面具有一些微结构，例如凹部、通孔等。加工过程通常为在集流体的表层涂覆光刻胶，覆盖加工好的掩盖膜，经过曝光源进行曝光处理，掩盖膜上的图形光刻胶显影后，再对集流体进行刻蚀，以在集流体的表面形成微结构。

在上述加工过程中，曝光装置中的掩盖膜通常被固定于光源和集流体之间，集流体通常是连续的铜箔带或铝箔带，其表面涂覆有光刻胶，能够相对于光源与掩盖膜被持续运送。在对集流体进行曝光处理时，由于掩盖膜与光源的位置固定，曝光时集流体需停留在曝光区域中等待曝光，曝光完成后需启动送料装置转移曝光好的集流体并将未曝光的集流体继续运送至曝光区域，使得集流体需周期性地停留于曝光区域，光源也需要周期性地启动曝光，使得曝光装置中物料无法持续匀速运动，从而无法与涂布装置、干燥装置等装置集成在一起。导致集流体的加工需要经过多台分立装置的处理，设备成本高昂且无法节省集流体在多台设备之间转移的时间成本，限制了集流体加工的效率。另外集流体经多台分立装置的处理，无法获得较高的一致性。

有鉴于此，本申请提供一种基材处理设备，能够通过一台设备完成基材的涂布、干燥、曝光以及刻蚀步骤，各个步骤之间无需转移基材，有效提高基材处理的质量与效率。

应理解，本申请实施例以集流体加工为示例，本申请实施例提供的基材处理设备可以但不限用于制造集流体。也可以用于显示面板、集成电路和半导体等灵越的图形加工作业，同样能够提高基材处理的效率。

近年来，电池作为一种主要的动力设备被广泛应用于电子设备、电动自行车、电动摩托车、电动汽车、军事装备、航空航天等多个领域。

例如，如图1所示，为本申请一种车辆1的结构示意图，车辆1可以为燃油汽车、燃气汽车或新能源汽车，新能源汽车可以是纯电动汽车、混合动力汽车或增程式汽车等。车辆1的内部可以设置马达11，控制器12以及电池10，控制器12用来控制电池10为马达11的供电。例如，在车辆1的底部或车头或车尾可以设置电池10。电池10可以用于车辆1的供电，例如，电池10可以作为车辆1的操作电源，用于车辆1的电路系统，例如，用于车辆1的启动、导航和运行时的工作用电需求。在本申请的另一实施例中，电池10不仅仅可以作为车辆1的操作电源，还可以作为车辆1的驱动电源，替代或部分地替代燃油或天然气为车辆1提供驱动动力。

本申请中，电池是指包括一个或多个电池单体以提供电能的物理模块。例如，本申请中所提到的电池可以包括电池模块或电池包等。电池一般包括用于封装一个或多个电池单体的箱体。箱体可以避免液体或其他异物影响电池单体的充电或放电。

为了满足不同的使用电力需求，电池可以包括多个电池单体，其中，多个电池单体之间可以串联或并联或混联，混联是指串联和并联的混合。电池也可以称为电池包。可选地，多个电池单体可以先串联或并联或混联组成电池模块，多个电池模块再串联或并联或混联组成电池。也就是说，多个电池单体可以直接组成电池，也可以先组成电池模块，电池模块再组成电池。

例如，如图2所示，为本申请一种电池10的结构示意图，电池10可以包括多个电池单体20。电池单体20的数量可以设置为任意数值。多个电池单体20可通过串联、并联或混联的方式连接以实现较大的容量或功率。

可选地，电池单体20可以包括锂离子二次电池、锂离子一次电池、锂硫电池、钠锂离子电池、钠离子电池或镁离子电池等，本申请实施例对此并不限定。在一些实施方式中，电池单体20也可称之为电芯。

电池单体20包括电极组件和电解液，电极组件由正极片、负极片和隔膜组成。电池单体主要依靠金属离子在正极片和负极片之间移动来工作。正极片包括正极集流体和正极活性物质层，正极活性物质层涂覆于正极集流体的表面，未涂敷正极活性物质层的集流体凸出于已涂覆正极活性物质层的集流体，未涂敷正极活性物质层的集流体作为正极极耳。以锂离子电池为例，正极集流体的材料可以为铝，正极活性物质可以为钴酸锂、磷酸铁锂、三元锂或锰酸锂等。负极片包括负极集流体和负极活性物质层，负极活性物质层涂覆于负极集流体的表面，未涂敷负极活性物质层的集流体凸出于已涂覆负极活性物质层的集流体，未涂敷负极活性物质层的集流体作为负极极耳。负极集流体的材料可以为铜，负极活性物质可以为碳或硅等。为了保证通过大电流而不发生熔断，正极极耳的数量为多个且层叠在一起，负极极耳的数量为多个且层叠在一起。隔膜的材质可以为聚丙烯(Polypropylene，PP)或聚乙烯(Polyethylene，PE)等。此外，电极组件可以是卷绕式结构，也可以是叠片式结构，本申请实施例并不限于此。

图3为本申请一种基材处理设备300的示意性结构图，基材处理设备 300包括：

涂布装置301，用于在沿送料方向以第一速度被运送的基材30上涂布物料。

干燥装置302，用于以第一速度接收经涂布装置301涂布后的基材30，并干燥物料。

曝光装置303，用于以第一速度接收经干燥装置302干燥后的基材30 并沿送料方向以第一速度连续运送掩盖膜31，掩盖膜31用于在曝光装置303 曝光物料时进行区域性遮光，以使曝光装置303按照第一速度连续并区域性曝光物料。

刻蚀装置304，用于以第一速度接收经曝光装置303曝光后的基材30，并将基材上未曝光区域的物料以及基材30刻蚀。

具体地，设备300中，基材30在各个装置中以相同的速度沿送料方向行进。尤其是在曝光装置303中，由于曝光装置303能够沿送料方向持续运送掩盖膜31，在曝光过程中，掩盖膜31能够与基材30在曝光区域同步运动，使得基材无需在曝光区域周期性停留。同步运动指掩盖膜31与基材30在曝光区域保持相对静止。

在集流体加工过程中，涂覆于基材上的物料为光刻胶。光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或者辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄材料。光刻胶可以是由感光树脂、增感剂和溶剂为主要成分的对光敏感的混合液体。采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图案。曝光过程利用光照将掩盖膜31上的图形经过光学系后投影到光刻胶上，实现图案转移。

在一些实施例中，光刻胶曝光、显影后，光刻胶曝光部分被熔解，未曝光部分保留下，这一类光刻胶为正性光刻胶；在另一些实施例中，也可以是，光刻胶曝光、显影后，曝光部分被保留下，而未曝光部分被溶解，这一类光刻胶为负性光刻胶。

如图4所示，为本申请实施例一种掩盖膜31的示意性结构图。掩盖膜 31上具有遮光部311与透光部312，遮光部311和/或透光部312组成掩盖膜 31上的曝光图案。

图4所示的光部311为圆形，多个遮光部311呈矩形阵列布置。在一些实施例中，遮光部311的形状也可以是其他形式，遮光部311或透光部312 的形状、数量以及布置方式可根据实际加工需要进行设置，本申请对此不做限制。

对于本申请实施例提供的曝光装置303，若是光刻胶为正性光刻胶，则光刻胶被透过透光部312的光线照射的部分被溶解，形成与透光部312的形状一致的图案，与遮光部311相对应的部分的光刻胶则保留。若是光刻胶为负性光刻胶，则光刻胶被透过透光部312的光线照射的部分被保留；与遮光部311相对应的部分的光刻胶则被溶解，形成与遮光部311的形状一致的图案。经过曝光显影后，基材30上未留有光刻胶的部分在刻蚀装置中被刻蚀，从而在基材的表面形成与遮光部311或透光部312相应的图案。

本实施例中，物料30能够以同样的送料速度被运送至各个装置中并且以相同的送料速度完成各个步骤的加工处理，曝光装置303能够与涂布装置 301、干燥装置以302及刻蚀装置304能够被集成于同一设备形成一体化设备 300，从而节省了基材30处理过程中各个处理步骤之间转移基材30的时间，有效提高了处理基材30的效率；另外，通过一体化设备对基材30进行处理，还能够帮助节省各个处理步骤之间转移基材30的设备成本。

可选地，设备300还包括：送料装置305，用于以第一速度沿送料方向运送基材30。

可选地，在一个实施例中，送料装置可以采用卷对卷结构，请继续参见图3。送料装置305包括放卷辊3051、收卷辊3052以及设置于放卷辊3051 与收卷辊3052之间的导向辊3053。放料辊3051上具有成卷的未经处理的基材30，放料辊3051转动能够释放未经处理的基材30；收料辊3052转动能够收集处理后的基材30并将其缠绕成卷，以便使用。可选地，送料装置305还包括多个导向辊3053，设置于放卷辊3051与收卷辊3052之间，用于支撑基材30并向基材30传动，使基材30沿导向辊3053排布的路径被传送。

应理解，本申请实施例的送料装置305以卷对卷结构为示例，但不限于此。例如，送料装置305还可以是具有机械手的夹料送料机构等形式。

本实施例中，通过送料装置305持续以第一速度运送基材30，便于控制基材30在各个装置中的运动状态，例如，运动方向、运动速度等。能够灵活控制基材的运动状态的同时提升基材30在设备300中运动的一致性，帮助提高基材30处理的一致性与质量。

可选地，设备300还包括：清洗装置306，用于以第一速度接收经刻蚀装置刻蚀后的基材，并清洗基材。

具体地，基材30在经过刻蚀装置刻蚀后，表面存在废料等污染物附着。在刻蚀装置304后设置一清洗装置306，能够迅速去除基材30表面的污染物，使得设备300输出的基材30能够直接进行应用，丰富了设备300的功能并提高了设备300的性能。

可选地，清洗装置306包括：喷淋杆3061和清洗槽3062，喷淋杆3061 用于向刻蚀后的基材30喷淋清洗液体，水洗槽3062用于收集并排放清洗基材30后的废液。

具体地，喷淋杆3061的数量可以为多个，分别设置于基材30的两侧；清洗槽3062设置于喷淋杆3061与基材30的下方。在一个优选的实施例中，清洗装置306包括4个喷淋杆3061，该4个喷淋杆3061两两相对设置于基材30的两侧。

本实施例中，清洗装置306采用喷淋杆3061和清洗槽3062的组合结构，能够快速清洗刻蚀后的基材30，去除基材30表面残余的物料、刻蚀液等污染物，便于设备300输出能够直接进行应用的基材30。

可选地，涂布装置301包括：第一送料模块3011，第一送料模块3011 使得涂布装置301中的所述送料方向为竖直方向。

具体地，第一送料模块3011具有两个沿数值方向排布的送料辊，使得位于两个送料辊之间的基材30沿竖直方向被运送。

本实施例中，通过涂布装置301的第一送料模块3011，使得基材30 在涂布装置30中至少部分处于竖直状态，能够使得灰尘在重力下自热掉落，减少粘附在物料或基材30上的灰尘，提高涂布质量。另外，基材30在涂布过程中竖直传输，结构紧凑，能够减少涂布装置301整体的体积，提高设备 300的空间利用率。

可选地，涂布装置301通过凹版涂布工艺进行涂布。

具体地，涂布装置301中还设置有涂布辊3012，涂布辊3012位于第一送料模块3011的两个送料辊之间，在处于竖直状态的基材30上涂覆物料。涂布辊3012是表面具有网纹结构，涂布辊3012部分浸没在物料盘中，涂布时，涂布辊3012转动带起物料，物料经过一个柔性刮刀后，被反向运动的基材30带走，从而在基材30上涂覆了一层物料。

本实施例中，采用凹版涂布的方式，能够在基材上涂布均匀连续且较薄的物料，且物料表面没有胶印、褶皱等缺陷，帮助提高涂布质量。

可选地，基材30具有第一表面以及和第一表面相对的第二表面，涂布装置301用于在第一表面和第二表面上涂布物料。具体来说，可以在物料两侧相对设置涂布辊3012，能够在基材30的两侧同时涂覆物料，并且有利于涂布过程中基材30的稳定性。

可选地，在一个实施例中，涂布装置301中还设置有背辊(图中未示出)。当涂布装置301仅包括一个涂布辊3012时，可以在基材30另一侧与涂布辊3012相对的位置设置背辊，帮助提升涂布过程中基材30的稳定性，提升涂布效果。

本申请的实施例中，涂布装置301能够对基材30的两侧同时进行涂布，提高了涂布效率，从而帮助提高了基材30处理的效率。

可选地，干燥装置302包括：多个加热管3021和多个风刀3022，该多个加热管3021以及该多个风刀3022沿送料方向间隔设置于基材30的两侧。

多个加热管3021与多个风刀3022间隔设置指在基材30的每一侧，加热管3021与风刀3022互相间隔设置，两个相邻加热管3021之间设置有一个风刀3022，两个相邻风刀3022之间设置有一个加热管3021。应理解，在一些其他实施例中，加热管3021与风刀3022的数量以及排布方式可以根据加工基材30需要的干燥速度、送料速度等进行配置。例如，两个相邻风刀3022 之间设置3个加热管3021。

本实施例中，采用风刀3022以及加热管3021组合方式，能够快速干燥涂覆于基材30上的物料使物料预固化，基材30无需在干燥装置302中进行停留，从而使得干燥装置302能够配合其他装置使基材30始终以相同的送料速度沿送料方向行进，便于设备300的一体化集成。

可选地，曝光装置303包括：掩盖膜运送模块3031，掩盖膜运送模块 3031用于沿送料方向以第一速度连续运送掩盖膜31。

具体地，曝光装置303具有光源3032，能够向物料发射UV波段的光线，光源3032发出的光线照射至基材30上形成对应的曝光区域，该区域内曝光装置303发出的光线被掩盖膜31遮挡，使得光线部分透过掩盖膜31到达基材30表面与光刻胶发生作用。曝光过程中，曝光区域内基材30与掩盖膜31沿相同的方向以相同的速度运动，即基材30与掩盖膜31在曝光区内同步运动。

本实施例中，曝光装置303具有能够持续运送掩盖膜31的掩盖膜运送模块3031。掩盖膜31不是被固定于光源3032与基材30之间，而是与基材 30一起以相同的速度和方向经过曝光区域，实现连续曝光，使得基材30无需在曝光区域停留，曝光装置303能够与其他装置配合始终以相同的送料速度沿送料方向在加工过程中运送基材30，便于设备一体化集成。并且，在曝光过程中掩盖膜31与基材30始终保持相对静止，能够保证掩盖膜31上的图案快速且完全曝光至基材30上，具有良好的图形一致性。另外，曝光图案无需与基材30的行进方向一致，使得曝光装置303能够进行连续复杂图案的加工，提高曝光装置303的工作效率与性能，从而帮助提升了设备300的效率与性能。

可选地，掩盖膜31为带状掩盖膜，掩盖膜运送模块3031用于以第一速度运送带状掩盖膜至曝光区域。

具体地，带状掩盖膜31可以采用卷对卷的运送方式，通过与基材30 类似的释放与回收过程使掩盖膜31在曝光区域与基材30保持同步运动。在此不再赘述。

可选地，掩盖膜31为环形掩盖膜，掩盖膜运送模块3031用于以第一速度转动环形掩盖膜。

本实施例中，环形掩盖膜31首尾相连能够循环转动，通过采用环形掩盖膜31能够循环利用掩盖膜31上的图案进行曝光，帮助提升曝光图案的一致性，并且使得曝光装置303的结构更为紧凑，帮助提高基材处理设备300 的空间利用率。

可选地，掩盖膜运送模块3031包括：第一主动辊3031a与从动辊3031b，第一主动辊3031a以第一速度为线速度转动，第一主动辊3031a与从动辊 3031b设置于环形掩盖膜31内部以使环形掩盖膜转动。

具体地，环形掩盖膜31被设置于其内部的第一主动辊3031a与从动辊 3031b支撑形成闭合结构，第一主动辊3031a与从动辊3031b形成循环传动机构，使得环形掩盖膜31在第一主动辊3031a与从动辊3031b转动时能够随之循环转动，环形掩盖膜31上的图案经过曝光区域后能够再次被转动至曝光区域。

本实施例中，掩盖膜运送模块3031采用主动辊3031a与从动辊3031b 的结构转动掩盖膜31，能够通过控制主动辊3031a的转速与转动方向控制掩盖膜31的运动状态，通过从动辊3031b固定掩盖膜31的运动轨迹，从而实现对掩盖膜31的灵活控制，提高曝光装置303的灵活性，从而帮助提升基材处理设备300的处理性能。

可选地，刻蚀装置304包括：导电辊3041、第一电极3042以及刻蚀槽3043，导电辊3041与第一电极3042设置于刻蚀槽3043内，刻蚀槽3043 内具有电解质溶液；其中，导电辊3041与第一电极3042的极性相反，导电辊3041与曝光后的基材30接触并将基材30以第一速度运送至刻蚀槽3043 内。

具体地，第一电极3042的数量可以为多个，设置于刻蚀槽3043中靠近基材30的位置。在集流体加工过程中，极性相反的导电辊3041与第一电极3042在电介质溶液中构成阴阳极，基材30此时即集流体，集流体上无光刻胶覆盖的部分将被刻蚀，形成相应图案或通孔。

本申请的实施例中，刻蚀装置304采用电化学刻蚀法，能够对基材进行快速刻蚀，保证基材在以一定速度行进的过程中完成刻蚀步骤，使得基材无需在刻蚀装置中停留，刻蚀装置能够配合其他装置使基材始终以相同的送料速度沿送料方向行进，便于刻蚀装置与其他装置的一体化集成。

应理解，本申请实施例以电化学刻蚀为具体示例，在一些其他实施例中，刻蚀装置304还可以采用物理刻蚀、干法刻蚀等形式对基材进行刻蚀处理。

虽然已经参考优选实施例对本申请进行了描述，但在不脱离本申请的范围的情况下，可以对其进行各种改进并且可以用等效物替换其中的部件。尤其是，只要不存在结构冲突，各个实施例中所提到的各项技术特征均可以任意方式组合起来。本申请并不局限于文中公开的特定实施例，而是包括落入权利要求的范围内的所有技术方案。

Claims (12)

1.一种基材处理的设备，其特征在于，包括：

涂布装置，用于在沿送料方向以第一速度被运送的基材上涂布物料；

干燥装置，用于以所述第一速度接收经所述涂布装置涂布后的所述基材，并干燥所述物料；

曝光装置，用于以所述第一速度接收经所述干燥装置干燥后的所述基材并沿所述送料方向以所述第一速度连续运送掩盖膜，所述掩盖膜用于在所述曝光装置曝光所述物料时进行区域性遮光，以使所述曝光装置按照所述第一速度连续并区域性曝光所述物料；

刻蚀装置，用于以所述第一速度接收经所述曝光装置曝光后的所述基材，并将所述基材上未曝光区域的所述物料以及所述基材刻蚀。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备还包括：

送料装置，用于以所述第一速度沿所述送料方向运送所述基材。

3.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备还包括：

清洗装置，用于以所述第一速度接收经所述刻蚀装置刻蚀后的所述基材，并清洗所述基材。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的设备，其特征在于，所述涂布装置包括：

第一送料模块，所述第一送料模块使得所述涂布装置中的所述送料方向为竖直方向。

5.根据权利要求4所述的设备，其特征在于，所述涂布装置通过凹版涂布工艺进行涂布。

6.根据权利要求4所述的设备，其特征在于，所述基材具有第一表面以及和所述第一表面相对的第二表面，所述涂布装置用于在所述第一表面和所述第二表面上涂布所述物料。

7.根据权利要求1-3中任一项所述的设备，其特征在于，所述干燥装置包括：多个加热管和多个风刀，所述多个加热管以及所述多个风刀沿所述送料方向间隔设置于所述基材的两侧。

8.根据权利要求1-3中任一项所述的设备，其特征在于，所述曝光装置包括：

掩盖膜运送模块，所述掩盖膜运送模块用于沿所述送料方向以所述第一速度连续运送所述掩盖膜。

9.根据权利要求8所述的设备，其特征在于，所述掩盖膜为环形掩盖膜，所述掩盖膜运送模块用于以所述第一速度转动所述环形掩盖膜。

10.根据权利要求9所述的设备，其特征在于，所述掩盖膜运送模块包括：

第一主动辊与从动辊，所述第一主动辊以所述第一速度为线速度转动，所述第一主动辊与所述从动辊设置于所述环形掩盖膜内部以使所述环形掩盖膜转动。

11.根据权利要求1-3中任一项所述的设备，其特征在于，所述刻蚀装置包括：

导电辊、第一电极以及刻蚀槽，所述导电辊与所述第一电极设置于所述刻蚀槽内，所述刻蚀槽内具有电解质溶液；其中，所述导电辊与所述第一电极的极性相反，所述导电辊与曝光后的所述基材接触并将所述基材以所述第一速度运送至所述刻蚀槽内。

12.根据权利要求3所述的设备，其特征在于，所述清洗装置包括：

喷淋杆和清洗槽，所述喷淋杆用于向刻蚀后的所述基材喷淋清洗液体，所述清洗槽用于收集并排放清洗所述基材后的废液。

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