CN216902858U - 晶圆加工设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种晶圆加工设备。该晶圆加工设备包括前端控制装置、装载装置、连接件和传输装置；前端控制装置通过连接件与装载装置连接，传输装置设置于装载装置远离连接件的一侧，传输装置的周向上排布有至少一个反应腔室，反应腔室用于加工晶圆，传输装置用于输送晶圆，装载装置用于暂存晶圆，连接件用于供晶圆通过。本实用新型的晶圆加工设备通过设置传输装置便于在装载装置、传输装置、反应腔室和前端控制装置之间输送晶圆。在传输装置的周向上排布有至少一个反应腔室，便于对晶圆进行加工处理。通过设置连接件调整传输装置与前端控制装置之间的空间，进而便于对前端控制装置、传输装置以及装载装置的维护，且结构简单、便于实现和使用。

Description

晶圆加工设备

技术领域

本实用新型涉及半导体加工技术领域，尤其涉及一种晶圆加工设备。

背景技术

晶圆传输是半导体专用设备中的重要组成部分。芯片加工过程中，会对硅晶圆进行一系列的处理：绝对真空，化学腐蚀，高能等离子体撞击和强烈的紫外线辐射等等，经过数百道分散的加工步骤以后，硅晶圆才会被打磨成CPU、存储芯片和图形处理器等等电子器件。这些加工过程对环境要求很高，因此大多数工作都在密封真空室中进行，通过传输系统把晶圆从一个工艺腔室移到另一个工艺腔室。

一般地，晶圆传输系统包括传输平台、安装在传输平台上的装载腔室和设置于传输平台内的传输腔室等，传输腔室外挂有工艺腔室。现有的晶圆传输系统通常设有两个传输平台，可称之为一级传输平台和二级传输平台。晶圆从装载腔传入一级传输腔室，依工艺顺序放入一级传输腔室上相应的工艺模块中进行工艺，之后传输至二级传输腔室，依工艺顺序放入二级传输腔室上相应的工艺模块中进行工艺，工艺完成后，晶圆传回装载腔。但是，受制于装载腔室的限制，使得传输平台与前端之间的空间较小，无法满足设备的维护需求。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种晶圆加工设备，通过所述前端控制装置、所述装载装置、所述连接件和所述传输装置，能够实现所述前端控制装置与所述传输装置之间的空间调整，用以改善空间较小、无法维护的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供了一种晶圆加工设备，包括前端控制装置、装载装置、连接件和传输装置；所述前端控制装置通过所述连接件与所述装载装置连接，所述传输装置设置于所述装载装置远离所述连接件的一侧，所述传输装置的周向上排布有至少一个反应腔室，所述反应腔室用于加工所述晶圆，所述传输装置用于输送晶圆，所述装载装置用于暂存晶圆，所述连接件用于供晶圆通过。

本实用新型的晶圆加工设备的有益效果在于：通过设置所述前端控制装置便于对晶圆进行装载，以及便于通过外部设备对晶圆进行输送。通过设置所述传输装置便于在所述装载装置、所述传输装置、所述反应腔室和所述前端控制装置之间输送晶圆。在所述传输装置的周向上排布有至少一个反应腔室，便于对晶圆进行加工处理。通过设置所述连接件便于调整所述传输装置与所述前端控制装置之间的空间，进而便于对所述前端控制装置、所述传输装置以及所述装载装置的维护，且结构简单、便于实现和使用。

在一种可行的方案中，所述传输装置设置为N个，所述装载装置设置为M个，且任意相邻的两个所述传输装置通过所述装载装置连接，N、M为正整数。其有益效果在于：通过将所述传输装置和所述装载装置均设置为多个，便于实现在一个所述加工设备设置多个所述传输装置的排布，使得能够根据工艺需要设置足够多的反应腔室，满足工艺要求。

在一种可行的方案中，所述连接件设置为K个，任意相邻的两个所述传输装置之间设有所述连接件，K为正整数。其有益效果在于：通过在任意相邻的所述传输装置之间设置所述连接件，便于增加任意相邻的所述传输装置之间的维护空间，便于对任一个所述传输装置的维护。

在一种可行的方案中，所述传输装置的一侧预留有维护空间。其有益效果在于：在实现一个所述加工设备设置多个所述传输装置的前提下，在所述传输装置的一侧预留维护空间，便于对任一个所述传输装置的维护。

在一种可行的方案中，所述维护空间用于避让相邻的所述传输装置的反应腔室。其有益效果在于：通过所述维护空间避让相邻的所述传输装置上，便于多个所述传输装置的排布，便于任一个所述传输装置的维护。

在一种可行的方案中，所述传输装置的形状为多边形。其有益效果在于：这样设置便于多个所述传输装置的排布，便于所述传输装置上所述反应腔室的安装。

在一种可行的方案中，所述传输装置上的反应腔室距离所述前端控制装置的安全距离为La1；所述装载装置的长度为Lz1，所述连接件的长度为Li1，所述反应腔室的长度为Lp1，所述传输装置上的反应腔室与所述传输装置的夹角为

所述传输装置的反应腔室距离所述前端控制装置的最小距离为Ls1；

且Ls1≥La1。其有益效果在于：通过将所述传输装置的反应腔室距离所述前端控制装置的最小距离为Ls1设置为大于等于安全距离为La1，便于所述传输装置与所述前端控制装置的设置，便于所述反应腔室的设置。

在一种可行的方案中，任意相邻的两个所述传输装置上的反应腔室之间安全距离为La2；所述装载装置的长度为Lz2，所述连接件的长度为Li2，所述反应腔室的长度为Lp2，所述反应腔室与所述传输装置的夹角为

相邻的两个所述传输装置的反应腔室的最小距离为Ls2；当任意相邻的两个所述传输装置之间的连接件的数量为1时；

且Ls2≥La2；当任意相邻的两个所述传输装置之间的连接件的数量为2时；

且Ls2≥La2。其有益效果在于：通过将相邻的两个所述传输装置的反应腔室的最小距离为Ls2设置为大于等于安全距离为La2，便于任意相邻的两个所述传输装置的设置，便于任意相邻的两个所述传输装置上的反应腔室的设置。

在一种可行的方案中，所述反应腔室设有至少一个晶圆加工位置。其有益效果在于：通过在一个所述反应腔室设置至少一个晶圆加工位置，能够在一个腔室内对一组或多组晶圆进行加工，能够根据需要布局反应腔室，提升加工效率。

在一种可行的方案中，还包括若干第一门阀装置；各个所述第一门阀装置分别设置于各个所述反应腔室与所述传输装置之间，各个所述第一门阀装置分别用于控制各个对应的所述反应腔室与所述传输装置之间的启闭。其有益效果在于：通过设置所述第一门阀装置便于控制所述传输装置与所述反应腔室之间的连通状态，降低所述传输装置与所述反应腔室之间的相互影响。

在一种可行的方案中，还包括第一端盖；所述反应腔室与所述传输装置之间设有第一安装部和第二安装部，所述第一门阀装置设置于所述第一安装部或所述第二安装部，所述第一端盖设置于未设置所述第一门阀装置的所述第二安装部或所述第一安装部，所述第一端盖用于封堵所述第二安装部或所述第一安装部。其有益效果在于：通过设置所述第一安装部和第二安装部便于调整所述第一门阀装置的安装位置。

在一种可行的方案中，所述第一安装部设置于靠近所述传输装置的一侧，所述第二安装部设置于靠近所述反应腔室的一侧。其有益效果在于：一方面便于在所述应腔室与所述传输装置之间设置预热装置，另一方面便于延长所述第一门阀装置的使用寿命。

在一种可行的方案中，还包括第二端盖；所述反应腔室与所述传输装置之间设有镂空部，所述第二端盖设置于所述镂空部，所述第二端盖用于封堵所述镂空部，且所述第二端盖为透明材料制成。其有益效果在于：设置所述第二端盖便于观察所述反应腔室与所述传输装置之间的情况，便于对所述反应腔室和所述传输装置之间的位置进行清理。

在一种可行的方案中，还包括第二门阀装置；所述第二门阀装置设置于所述传输装置与所述装载装置之间和设置于所述前端控制装置与所述装载装置之间，所述第二门阀装置用于控制所述传输装置与所述装载装置之间和所述前端控制装置与所述装载装置之间的启闭。其有益效果在于：通过设置所述第二门阀装置便于控制所述传输装置与所述装载装置之间和设置于所述前端控制装置与所述装载装置之间的连通状态，同时也便于在所述装载装置处调整晶圆处于的真空或大气状态，便于抽真空的进行。

在一种可行的方案中，所述传输装置的形状为六边形。其有益效果在于：通过将于所述传输装置设置为六边形，使得所述传输装置的各个侧面能够分别连接所述前端控制装置、所述装载装置和/或至少一个所述反应腔室，能够提升所述传输装置与所述前端控制装置的空间利用率。

在一种可行的方案中，与连接至所述前端控制装置的传输装置相连的所述传输装置为六边形。其有益效果在于：将与连接至所述前端控制装置的传输装置相连的所述传输装置设置为六边形，便于后续所述传输装置的排布。

在一种可行的方案中，所述反应腔室设有喷淋组件和/或加热组件，所述喷淋组件用于对所述晶圆进行工艺加工，所述加热组件用于对所述晶圆进行加热。其有益效果在于：通过设置所述喷淋组件和/或加热组件，能够根据需要对所述晶圆进行加热或加工，使用方便。

在一种可行的方案中，所述连接件为可伸缩件。其有益效果在于：通过将所述连接件设置为可伸缩件，便于所述前端控制装置、所述装载装置和所述传输装置之间的对接，便于调整所述前端控制装置与所述传输装置之间和/或所述传输装置与所述传输装置之间的空间大小。

在一种可行的方案中，所述连接件的截面为矩形或梯形。其有益效果在于：这样设置便于晶圆在所述连接件中的运输，降低晶圆与所述连接件碰壁的情况的发生率。

附图说明

图1为本实用新型第一种实施例中晶圆加工设备的结构示意图；

图2为本实用新型第二种实施例中晶圆加工设备的结构示意图；

图3为本实用新型第三种实施例中晶圆加工设备的结构示意图；

图4为本实用新型第四种实施例中晶圆加工设备的结构示意图；

图5为本实用新型第五种实施例中晶圆加工设备的结构示意图；

图6为图5中A处的放大结构示意图；

图7为图5中B处的放大结构示意图；

图8为本实用新型第六种实施例中晶圆加工设备的结构示意图；

图9为本实用新型第一种实施例中反应腔室的部分结构示意图；

图10为本实用新型另一种实施例中反应腔室的结构示意图；

图11为本实用新型实施例中第一门阀装置安装在第一安装部的结构示意图；

图12为本实用新型实施例中第一门阀装置安装在第二安装部的结构示意图；

图13为本实用新型实施例中第二端盖安装在第一安装部的结构示意图。

图中标号：

1、前端控制装置；

2、装载装置；

3、连接件；

4、传输装置；401、维护空间；402、传输通道；

5、反应腔室；501、晶圆加工位置；

6、第一门阀装置；601、驱动器；602、闸板；603、阀壳；604、转接件；

7、第一端盖；701、第一安装部；702、第二安装部；

8、第二端盖；801、镂空部。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。除非另外定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本实用新型所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本文中使用的“包括”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。

针对现有技术存在的问题，本实用新型的实施例提供了一种晶圆加工设备。

图1为本实用新型第一种实施例中晶圆加工设备的结构示意图。

本实用新型的一些实施例中，参考图1，该晶圆加工设备包括前端控制装置1、装载装置2、连接件3和传输装置4；所述前端控制装置1通过所述连接件3与所述装载装置2连接，所述传输装置4设置于所述装载装置2远离所述连接件3的一侧，所述传输装置4的周向上排布有至少一个反应腔室5，所述反应腔室5用于加工所述晶圆，所述传输装置4用于输送晶圆，所述装载装置2用于暂存晶圆，所述连接件3用于供晶圆通过。

本实用新型的一些具体实施例中，所述前端控制装置1设有输送盒，所述输送盒用于承载晶圆，所述输送盒还用于两个或多个所述前端控制装置1之间的输送。即所述未加工的晶圆或加工后的晶圆能够在所述前端控制装置1内取放。所述传输装置4通过所述装载装置2和所述连接件3与所述前端控制装置1连接，且该所述连接件3设置于所述装载装置2与所述前端控制装置1之间。所述传输装置4中空设置，所述传输装置4的传输机构设置于所述中空处。所述反应腔室5设置于所述传输装置4的周侧，且所述反应腔室5至少设置为一个。所述装载装置2和所述反应腔室5均与所述中空处连通。所述传输装置4的传输装置4的传输机构能够在所述传输装置4与所述反应腔室5之间、在所述传输装置4与所述装载装置2、所述装载装置2与所述前端控制装置1之间进行晶圆的输送。

在一些实施例中，所述连接件3中空设置，所述传输装置4输送的晶圆或所述前端控制装置1内的晶圆可以从所述连接件3内通过。

使用时通过所述传输装置4的传输机构将前端控制装置1内的晶圆输送至反应腔室5内进行加工，加工完成之后再通过所述传输装置4的传输机构将晶圆输送至所述前端控制装置1内进行外部输送或存储。

值得说明的是，由于晶圆加工需要在真空环境内进行，且前端控制装置1与大气连通的前提下，需要在所述传输装置4与所述装载装置2之间和所述前端控制装置1与所述装载装置2之间设置所述第二门阀装置(图中未示)，控制所述传输装置4与所述装载装置2之间和所述前端控制装置1与所述装载装置2之间的连通状态，同时在所述装载装置2处配置抽真空机构进行抽真空动作。

图11为本实用新型实施例中第一门阀装置安装在第一安装部的结构示意图。

此外，参照图1和图11，为了避免所述反应腔室5与所述传输装置4的中空处之间的相互影响，需要在各个所述反应腔室5与所述传输装置4之间设置所述第一门阀装置6，对所述反应腔室5与所述传输装置4之间的通断进行控制。

图2为本实用新型第二种实施例中晶圆加工设备的结构示意图，图3为本实用新型第三种实施例中晶圆加工设备的结构示意图，图4为本实用新型第四种实施例中晶圆加工设备的结构示意图，图5为本实用新型第五种实施例中晶圆加工设备的结构示意图，图8为本实用新型第六种实施例中晶圆加工设备的结构示意图。

本实用新型的一些实施例中，参考图1至图5和图8，所述传输装置4设置为N个，所述装载装置2设置为M个，且任意相邻的两个所述传输装置4通过所述装载装置2连接，N、M为正整数。

本实用新型的一些具体实施例中，所述传输装置4和所述装载装置2均设置为多个，且所述传输装置4和所述装载装置2的数量不相等。具体的说，在任意相邻的所述传输装置4之间均设置为一个所述装载装置2时，由于所述传输装置4与所述前端控制装置1之间还设有一个所述装载装置2的缘故，所述装载装置2的数量会比所述传输装置4的数量多一个。

将所述传输装置4和所述装载装置2均设置为多个，能够在一个晶圆加工设备上设置多个传输装置4，且由于各个所述传输装置4均设置有反应腔室5的缘故，使得所述反应腔室5可以设置足够多，能够满足不同复杂程度的工艺需求。

本实用新型的一些实施例中，参考图1至图5和图8，所述连接件3设置为K个，任意相邻的两个所述传输装置4之间设有所述连接件3，K为正整数。

本实用新型的一些具体实施例中，在任意相邻的所述传输装置4之间设置所述连接件3，即任意相邻的所述连接件3通过所述装载装置2和所述连接件3进行连通，能够增加任意相邻的所述传输装置4之间的间距，保证任意相邻的传输装置4之间的维护空间401的大小。

在一些实施例中，当所述传输装置4设置为一个时，所述连接件3仅设置一个，即该连接件3设置于所述传输装置4与所述前端控制装置1之间。在另外一些实施例中，当所述传输装置4设置为两个时，所述连接件3设置为两个或三个，增设的所述连接件3设置于两个所述传输装置4之间。

在其他一些实施例中，所述连接件3可以设置于任一个所述装载装置2的一侧或两侧。即所述连接件3可以设置于所述传输装置4与所述传输装置4之间的所述装载装置2。此外，在所述装载装置2的一侧设置所述连接件3时，所述装载装置2的一侧通过所述连接件3与所述传输装置4连接，所述装载装置2的另一侧直接与所述传输装置4连接。在所述装载装置2的两侧均设置所述连接件3时，所述装载装置2的两侧均通过所述连接件3与所述传输装置4连接。

本实用新型的一些实施例中，参考图1至图5和图8，所述传输装置4的一侧预留有维护空间401。

本实用新型的一些具体实施例中，当所述传输装置4设置为多个时，在所述传输装置4的侧面预留空间，便于对该所述传输装置4的维护。

值得说明的是，当所述传输装置4设置为一个时，由于所述传输装置4与所述前端控制装置1之间设置有所述连接件3，所述连接件3的周围空间能够提供维护空间401。因此当所述传输装置4设置为一个时所述传输装置4的侧面可以预留所述维护空间401，也可以不预留所述维护空间401。

本实用新型的一些实施例中，参考图1至图5和图8，所述维护空间401用于避让相邻的所述传输装置4的反应腔室5。

本实用新型的一些具体实施例中，前一个所述传输装置4的维护空间401设置于靠近另一相邻的所述传输装置4的一侧，进而能够避让另一个或相邻的所述传输装置4的反应腔室5。这样便于多个传输装置4的排布。

本实用新型的一些实施例中，参考图1至图5和图8，所述传输装置4的形状为多边形。

本实用新型的一些具体实施例中，所述传输装置4设置为正多边形。由于晶圆在加工时需要经过若干的工艺步骤才能成型，因此需要将晶圆在不同的反应腔室5之间进行输送。将所述传输装置4设置为多边形，便于传输装置4的排布，便于合理利用空间。将所述传输装置4设置为正多边形，便于晶圆输送时转动角度的控制，便于输送速度的控制。

在一些实施例中，所述传输装置4的形状可以为四边形、五边形、七边形、八边形或其它形状。

在另外一些实施例中，也可以将所述传输装置4设置为不规则形状。

图6为图5中A处的放大结构示意图。

本实用新型的一些实施例中，参考图1至图6，所述传输装置4上的反应腔室5距离所述前端控制装置1的安全距离为La1；所述装载装置2的长度为Lz1，所述连接件3的长度为Li1，所述反应腔室5的长度为Lp1，所述传输装置4上的反应腔室5与所述传输装置4的夹角为

所述传输装置4的反应腔室5距离所述前端控制装置1的最小距离为Ls1；

且Ls1≥La1。

本实用新型的一些具体实施例中，所述安全距离La1为经验值。比如，所述安全距离La1可以设置为50cm。通常情况下，所述前端控制装置1、所述连接件3、所述装载装置2、和所述传输装置4设置于一条线上。所述装载装置2的长度方向指的是所述装载装置2向所述前端控制装置1靠近的方向，所述连接件3的长度方向与所述装载装置2的长度方向相同。所述反应腔室5的长度指的是所述反应腔室5垂直于其所在的所述传输装置4的侧面的方向，且该所述反应腔室5值得是理论情况下所述传输装置4侧面能够安装的距离所述前端控制装置1最近的反应腔室5，且该反应腔室5未设置于所述装载装置2连接的所述传输装置4侧面。所述反应腔室5与所述传输装置4的夹角

即上述理论情况下最近的所述反应腔室5与所述晶圆加工设备所在的线的夹角。当所述传输装置4为正多边形时，所述夹角

ρ为传输装置4的内角。据此可计算出，所述传输装置4的反应腔室5距离所述前端控制装置1的最小距离

将所述Ls1设置为大于或等于La1，即能够满足所述传输装置4与所述前端控制装置1之间的使用或维护需求。

图7为图5中B处的放大结构示意图。

本实用新型的一些实施例中，参考图1至图7，任意相邻的两个所述传输装置4上的反应腔室5之间安全距离为La2；所述装载装置2的长度为Lz2，所述连接件3的长度为Li2，所述反应腔室5的长度为Lp2，所述反应腔室5与所述传输装置4的夹角为

相邻的两个所述传输装置4的反应腔室5的最小距离为Ls2；当任意相邻的两个所述传输装置4之间的连接件3的数量为1时；

且Ls2≥La2；当任意相邻的两个所述传输装置4之间的连接件3的数量为2时；

且Ls2≥La2。

本实用新型的一些具体实施例中，所述安全距离La2为经验值。比如，所述安全距离La2可以设置为50cm。所述反应腔室5与所述传输装置4的夹角为

与上述所述夹角

同理。将所述安全距离为Ls2设置为大于或等于La2，即能够满足任意相邻的所述传输装置4之间的使用或维护需求。

在一些实施例中，由于设置三个或更多的所述连接件3的形式与设置两个所述连接件3的形式类似，在此不再进行赘述。

图9为本实用新型第一种实施例中反应腔室的部分结构示意图，图10为本实用新型另一种实施例中反应腔室的结构示意图。

本实用新型的一些实施例中，参考图1至图10，所述反应腔室5设有至少一个晶圆加工位置501。

本实用新型的一些具体实施例中，所述反应腔室5设有一个晶圆加工位置501。在另外一些实施例中，所述反应腔室5设有两个、三个、四个或更多晶圆加工位置501。

图12为本实用新型实施例中第一门阀装置安装在第二安装部的结构示意图，图13为本实用新型实施例中第二端盖安装在第一安装部的结构示意图。

本实用新型的一些实施例中，参考图1至图13，还包括第一端盖7；所述反应腔室5与所述传输装置4之间设有第一安装部701和第二安装部702，所述第一门阀装置6设置于所述第一安装部701或所述第二安装部702，所述第一端盖7设置于未设置所述第一门阀装置6的所述第二安装部702或所述第一安装部701，所述第一端盖7用于封堵所述第二安装部702或所述第一安装部701。所述第一安装部701设置于靠近所述传输装置4的一侧，所述第二安装部702设置于靠近所述反应腔室5的一侧。

本实用新型的一些具体实施例中，所述第一门阀装置6包括驱动器601和闸板602，所述反应腔室5与所述传输装置4之间设有传输通道402，闸板602固定设置于所述驱动器601上，驱动器601能够带动所述闸板602封堵所述传输通道402。所述第一安装部701和所述第二安装部702设置所述传输通道402上。且所述第一安装部701设置于靠近所述传输装置4的一侧，所述第二安装部702设置于靠近所述反应腔室5的一侧。使用时将所述第一门阀装置6设置于所述第一安装部701，并将所述第一端盖7盖合在所述第二安装部702，此时第一门阀装置6距离所述传输装置4较近。或者将所述第一门阀装置6设置于所述第二安装部702，并将所述第一端盖7盖合在所述第一安装部701，此时第一门阀装置6距离所述反应腔室5较近。

在一些实施例中，所述第一门阀装置6可以为无阀盒门阀和有阀盒门阀。通常情况下，所述无阀盒门阀设置于所述第一安装部701时，有阀盒门阀设置于所述第二安装部702。将所述无阀盒门阀设置于所述第一安装部701，使得所述无阀盒门阀距离反应腔室5更远，能够提高阀板的使用寿命。将所述有阀盒门阀设置于所述第二安装部702时，可以在所述有阀盒门阀上设置加热机构，便于对反应腔室5内的晶圆加热。

值得说明的是，所述有阀盒门阀相比于所述第一门阀装置6还包括阀壳603，所述闸板602滑动设置于所述阀壳603内。此外，当设置所述有阀盒门阀的门阀时，可以直接将所述阀壳603与传输通道402对接。此时阀壳603与所述传输通道402对接，并与反应腔室5和传输装置4连通，并且此时第一端盖7盖合在所述第一安装部701。

在一些实施例中，当设置所述无阀盒门阀时，所述第一端盖7盖合在所述第二安装部702。但是为了便于所述有阀盒门阀的安装，可以在所述第二安装部702设置设有通孔的转接件604代替所述第一端盖7。即当安装无阀盒门阀时，第二安装部702设置所述转接件604；当安装有阀盒门阀时，第一安装部701通过所述第一端盖7进行盖合。

本实用新型的一些实施例中，参考图1至图13，还包括第二端盖8；所述反应腔室5与所述传输装置4之间设有镂空部801，所述第二端盖8设置于所述镂空部801，所述第二端盖8用于封堵所述镂空部801，且所述第二端盖8为透明材料制成。

本实用新型的一些具体实施例中，所述镂空部801设置于所述传输通道402，所述第二端盖8可拆卸的设置于所述镂空部801，且所述第二端盖8为透明材料制成。通过所述第二端盖8能够观察所述传输通道402内的情况，便于使用。

本实用新型的一些实施例中，参考图1至图8，所述传输装置4的形状为六边形。

本实用新型的一些具体实施例中，与所述前端控制装置1连接的所述传输装置4设置为六边形。使用时，该传输装置4的一个侧面与所述前端控制装置1连接，剩余的五个侧面可以设置三个、四个或五个反应腔室5。当设置五个反应腔室5时，该所述传输装置4无需再连接其他的传输装置4。当设置四个反应腔室5时，可以将未设置所述反应腔室5的侧面作为所述维护空间401。当设置三个反应腔室5时，可以将未设置所述反应腔室5的两个侧面中的一个作为所述维护空间401，另一个连接其他的传输装置4。

本实用新型的一些实施例中，参考图1至图8，与连接至所述前端控制装置1的传输装置4相连的所述传输装置4为六边形。

本实用新型的一些具体实施例中，直接与所述前端控制装置1连接的所述传输装置4为第一传输装置4，间接与所述前端控制装置1连接的所述传输装置4依次为第二传输装置4、第三传输装置4、第四传输装置4等等。所述第二传输装置4的形状为六边形，该所述传输装置4的六个侧面中三个侧面设有反应腔室5，剩下的三个侧面中的一个通过一个所述装载装置2与第一传输装置4连通，另一个侧面通过另一个所述装载装置2与第三传输装置4连通，未设置所述反应腔室5和所述装载装置2的侧面空置出来留作所述维护空间401。

在一些实施例中，由于所述第二传输装置4仅与所述第一传输装置4连接，所以所述第二传输装置4可以仅设置一个所述装载装置2，所述第二传输装置4相比于所述第一传输装置4少设置了一个所述装载装置2，因此可以设置为四个所述反应腔室5和一个维护空间401。在另外一些实施例中，由于所述第二传输装置4设置于所述晶圆加工设备的最外侧，所以所述第二传输装置4的侧面也可以不预留所述维护空间401，即所述第二传输装置4可以设置五个所述反应腔室5。

在另外一些实施例中，第一传输装置4的维护空间401设置于与所述第二传输装置4相邻的侧面，且此时所述第一传输装置4的维护空间401能够避让第二传输装置4上的反应腔室5；同时，第二传输装置4的维护空间401设置于与所述第一传输装置4相邻的侧面，且此时所述第一传输装置4的维护空间401能够避让第一传输装置4上的反应腔室5。

本实用新型的一些实施例中，参考图1至图10，所述反应腔室5设有喷淋组件和/或加热组件，所述喷淋组件用于对所述晶圆进行工艺加工，所述加热组件用于对所述晶圆进行加热。

本实用新型的一些具体实施例中，在一个晶圆加工位置501可以同时设置所述喷淋组件和所述加热组件。在另外一些实施例中，也可以在一个晶圆加工位置501仅设置所述喷淋组件或所述加热组件。

本实用新型的一些实施例中，参考图1至图5，所述连接件3为可伸缩件。

本实用新型的一些具体实施例中，所述连接件3为可伸缩件，便于调整所述前端控制装置1与所述装载装置2之间的对接。同时，设置所述连接件3，也便于调整所述前端控制装置1与所述装载装置2之间的维护空间401。

在一些实施例中，在设置所述连接件3时，可以将所述连接件3占用的所述前端控制装置1与所述装载装置2之间的剩余空间作为维护空间401，此时所述传输装置4的侧面可以不再次设置维护空间401。

本实用新型的一些实施例中，参考图1至图10，所述连接件3的截面为矩形或梯形。

本实用新型的一些具体实施例中，所述连接件3的截面为矩形。在一些实施类中，所述连接件3的截面可以设置为方形、梯形、椭圆形或其他形状。在其他的一些实施例中，所述连接件3可以设置为规则形状或不规则形状。

虽然在上文中详细说明了本实用新型的实施方式，但是对于本领域的技术人员来说显而易见的是，能够对这些实施方式进行各种修改和变化。但是，应理解，这种修改和变化都属于权利要求书中所述的本实用新型的范围和精神之内。而且，在此说明的本实用新型可有其它的实施方式，并且可通过多种方式实施或实现。

Claims (19)

1.一种晶圆加工设备，其特征在于，包括前端控制装置、装载装置、连接件和传输装置；

所述前端控制装置通过所述连接件与所述装载装置连接，所述传输装置设置于所述装载装置远离所述连接件的一侧，所述传输装置的周向上排布有至少一个反应腔室，所述反应腔室用于加工所述晶圆，所述传输装置用于输送晶圆，所述装载装置用于暂存晶圆，所述连接件用于供晶圆通过。

2.根据权利要求1所述的晶圆加工设备，其特征在于，所述传输装置设置为N个，所述装载装置设置为M个，且任意相邻的两个所述传输装置通过所述装载装置连接，N、M为正整数。

3.根据权利要求2所述的晶圆加工设备，其特征在于，所述连接件设置为K个，任意相邻的两个所述传输装置之间设有所述连接件，K为正整数。

4.根据权利要求2所述的晶圆加工设备，其特征在于，所述传输装置的一侧预留有维护空间。

5.根据权利要求4所述的晶圆加工设备，其特征在于，所述维护空间用于避让相邻的所述传输装置的反应腔室。

6.根据权利要求1所述的晶圆加工设备，其特征在于，所述传输装置的形状为多边形。

7.根据权利要求1所述的晶圆加工设备，其特征在于，所述传输装置上的反应腔室距离所述前端控制装置的安全距离为La1；

所述装载装置的长度为Lz1，所述连接件的长度为Li1，所述反应腔室的长度为Lp1，所述传输装置上的反应腔室与所述传输装置的夹角为

所述传输装置的反应腔室距离所述前端控制装置的最小距离为Ls1；

且Ls1≥La1。

8.根据权利要求3所述的晶圆加工设备，其特征在于，任意相邻的两个所述传输装置上的反应腔室之间安全距离为La2；

所述装载装置的长度为Lz2，所述连接件的长度为Li2，所述反应腔室的长度为Lp2，所述反应腔室与所述传输装置的夹角为

相邻的两个所述传输装置的反应腔室的最小距离为Ls2；

当任意相邻的两个所述传输装置之间的连接件的数量为1时；

且Ls2≥La2；

当任意相邻的两个所述传输装置之间的连接件的数量为2时；

且Ls2≥La2。

9.根据权利要求1所述的晶圆加工设备，其特征在于，所述反应腔室设有至少一个晶圆加工位置。

10.根据权利要求1所述的晶圆加工设备，其特征在于，还包括若干第一门阀装置；

各个所述第一门阀装置分别设置于各个所述反应腔室与所述传输装置之间，各个所述第一门阀装置分别用于控制各个对应的所述反应腔室与所述传输装置之间的启闭。

11.根据权利要求10所述的晶圆加工设备，其特征在于，还包括第一端盖；

所述反应腔室与所述传输装置之间设有第一安装部和第二安装部，所述第一门阀装置设置于所述第一安装部或所述第二安装部，所述第一端盖设置于未设置所述第一门阀装置的所述第二安装部或所述第一安装部，所述第一端盖用于封堵所述第二安装部或所述第一安装部。

12.根据权利要求11所述的晶圆加工设备，其特征在于，所述第一安装部设置于靠近所述传输装置的一侧，所述第二安装部设置于靠近所述反应腔室的一侧。

13.根据权利要求10所述的晶圆加工设备，其特征在于，还包括第二端盖；

所述反应腔室与所述传输装置之间设有镂空部，所述第二端盖设置于所述镂空部，所述第二端盖用于封堵所述镂空部，且所述第二端盖为透明材料制成。

14.根据权利要求1所述的晶圆加工设备，其特征在于，还包括第二门阀装置；

所述第二门阀装置设置于所述传输装置与所述装载装置之间和设置于所述前端控制装置与所述装载装置之间，所述第二门阀装置用于控制所述传输装置与所述装载装置之间和所述前端控制装置与所述装载装置之间的启闭。

15.根据权利要求1所述的晶圆加工设备，其特征在于，所述传输装置的形状为六边形。

16.根据权利要求2所述的晶圆加工设备，其特征在于，与连接至所述前端控制装置的传输装置相连的所述传输装置为六边形。

17.根据权利要求1至16中任一项所述的晶圆加工设备，其特征在于，所述反应腔室设有喷淋组件和/或加热组件，所述喷淋组件用于对所述晶圆进行工艺加工，所述加热组件用于对所述晶圆进行加热。

18.根据权利要求1至16中任一项所述的晶圆加工设备，其特征在于，所述连接件为可伸缩件。

19.根据权利要求1至16中任一项所述的晶圆加工设备，其特征在于，所述连接件的截面为矩形或梯形。

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