CN216901005U - 一种光学铝反射膜 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种光学铝反射膜，其包括基材层、铝钕合金层和二氧化硅保护层，基材层、铝钕合金层和二氧化硅保护层依次层叠。该光学铝反射膜具有良好的耐腐蚀性，而且不会随使用时间而变色。

Description

一种光学铝反射膜

技术领域

本实用新型涉及光学材料领域，具体涉及一种光学铝反射膜。

背景技术

光学反射膜的应用十分广泛，包括交通运输、隔热保暖、液晶显示、半导体照明等领域。其中随着技术的发展，在液晶显示、半导体照明领域，例如液晶背光模块、光源背光面(LED、CCFL)、平板发光模块、超薄灯箱、水晶灯箱、汽车照明等方面的应用，对反射膜的要求也越来越高。反射膜可用于灯管和导光板下面，其作用是将透过导光板漏到下面的光线再反射回去，重新回到面板侧，从而达到减少光损失、增加光亮度的作用，反射膜反射率的高低会影响显示的亮度效果，反射膜反射率对于光学反射膜的应用至关重要。

光学反射膜一般包括基材层以及位于基材层上的反射层，基材层例如可以采用树脂薄膜或者板材，反射层常用的材料包括铝等。但是，现有的光学反射膜使用时间久了容易发黄，耐腐蚀性能较差。此外，现有的光学反射膜还存在遮蔽性和附着力有待进一步提高的问题。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型的目的是提供一种光学铝反射膜，该光学铝反射膜具有良好的耐腐蚀性，而且不会随使用时间而变色。

为实现本实用新型的目的，本实用新型提供了一种光学铝反射膜，其包括基材层、铝钕合金层和二氧化硅保护层，基材层、铝钕合金层和二氧化硅保护层依次层叠。

进一步的技术方案是，光学铝反射膜还包括无氧硅附着辅助层，基材层、无氧硅附着辅助层、铝钕合金层和二氧化硅保护层依次层叠。

进一步的技术方案是，基材层包括相对设置的光滑面和粗糙面，铝钕合金层和二氧化硅保护层设置在粗糙面所在侧。

进一步的技术方案是，铝钕合金层的厚度在70nm以上。

进一步的技术方案是，二氧化硅保护层的厚度在70nm以上。

进一步的技术方案是，无氧硅附着辅助层是在基材层上镀膜形成，镀膜功率在1kW以内。

进一步的技术方案是，光学铝反射膜的表面反射率大于88％。

进一步的技术方案是，铝钕合金层和二氧化硅保护层分别是通过镀膜形成。

与现有技术相比，本实用新型能够取得以下有益效果：

本实用新型的光学铝反射膜主要是利用铝钕合金层作为反射层，而不采用纯铝层，在铝中掺加钕可以起到好的抗腐蚀作用，使用时间久了不会发黄，而且在后段热处理时不会起凹凸物，能够减少镀膜工序。另外，本实用新型还在铝钕合金层表面覆盖二氧化硅保护层，更好地保护铝钕合金层。

进一步地，本实用新型的光学铝反射膜还进一步包括无氧硅附着辅助层，使得铝钕合金层能够良好地附着于基材层上，不会出现掉膜现象。进一步地，本实用新型的光学铝反射膜还进一步将铝钕合金层和二氧化硅保护层的厚度设置为70nm以上，提高反射膜的遮蔽性。

附图说明

图1是本实用新型光学铝反射膜第一实施例的结构图。

图2是本实用新型光学铝反射膜第二实施例的结构图。

以下结合附图以及具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。

具体实施方式

如图1至2所示，本实施例提供了一种光学铝反射膜，该光学铝反射膜适用于光反射场景，尤其适用于液晶显示、半导体照明领域。该光学铝反射膜主要包括基材层10、铝钕合金层20和二氧化硅保护层30。如图1所示，在本实用新型的第一实施例中，基材层10、铝钕合金层20和二氧化硅保护层30依次层叠，例如铝钕合金层20通过镀膜的方式镀在基材层10上，二氧化硅保护层30通过镀膜的方式镀在铝钕合金层20，形成基材层10-铝钕合金层20-二氧化硅保护层30依次连接的层状复合结构，通过镀膜的方式能够制得较薄的材料层、使得层间的结合紧密而无需采用其他结合例如粘合的方式。如图2所示，在本实用新型的更优选的第二实施例中，该光学铝反射膜还包括无氧硅附着辅助层40，基材层10、无氧硅附着辅助层40、铝钕合金层20和二氧化硅保护层30依次层叠，例如无氧硅附着辅助层40通过镀膜的方式镀在基材层10上，铝钕合金层20通过镀膜的方式镀在无氧硅附着辅助层40上，二氧化硅保护层30通过镀膜的方式镀在铝钕合金层20，形成基材层10-无氧硅附着辅助层40-铝钕合金层20-二氧化硅保护层30依次连接的层状复合结构。

其中，基材层10例如可以采用现有塑料、树脂或者其他材料的膜、片材或板材，具体地可以根据实际应用需要进行选择。优选地，基材层10包括相对设置的光滑面11和粗糙面12，铝钕合金层20、二氧化硅保护层30以及在第二实施例中的无氧硅附着辅助层40设置在粗糙面12所在侧，第一实施例中的铝钕合金层20或第二实施例中的无氧硅附着辅助层40可以直接与粗糙面12接触，例如直接镀在粗糙面12上。粗糙面12能够提高基材与相应镀层材料的结合力。粗糙面12可以通过在表面设置纹理来形成，用手摸略感粗糙即可。粗糙面12可以定义为基材层10的正面，光滑面11可以定义为基材层10的背面，在基材层10卷置时基材层10的正面即粗糙面12是卷内的面。在实际应用时，光滑面11所在侧为灯光侧。

铝钕合金层20可以是采用采用现有的铝钕合金靶材镀膜形成，例如可以是中国发明专利CN103184419B所公开的生产方法制备的钕合金靶材。本实施例在铝靶中掺加合适的钕(Nd)金属，而不选用纯铝靶，铝钕合金层20可以起到更好的抗腐蚀性，铝钕合金层20使用时间久了不会发黄，且在后段热处理时不会起凹凸物，能够减少镀膜工序。优选地，铝钕合金层20的厚度在70nm以上，提高光学反射膜的遮蔽性，在背面打灯光线散射时，不会看到有明显的光圈，针孔、砂眼也更少。

二氧化硅保护层30可以是采用采用现有的铝钕合金靶材镀膜形成，二氧化硅保护层30能够对铝钕合金层20起到保护作用。优选地，二氧化硅保护层30的厚度在70nm以上，对铝钕合金层20起到更好的保护作用，并进一步提高光学反射膜的遮光性。

无氧硅附着辅助层40设置在基材层10和铝钕合金层20之间，能够提高铝钕合金层20在基材层10上的附着力。单纯的铝膜或铝钕合金层20在基材层10上的附着力一般不好。本实施例在镀铝钕合金之前，底层先镀一层无氧硅，形成无氧硅附着辅助层40，可以大幅提升铝膜的附着力，镀膜面做百格测试用3M胶带拉扯不能有任何掉膜现象，且100℃水煮1小时后做百格测试也不会有任何掉膜现象。优选地，无氧硅附着辅助层40的镀膜过程例如利用无氧硅靶材在无氧氛围环境下进行，避免在无氧硅助层40与基材层10之间、无氧硅附着辅助层40与铝钕合金层20之间存在氧气。靶材功率优选在1kW以内，例如0.5kW～0.7kW，靶材功率在该范围内能够使得溅射速率适中，所得无氧硅附着辅助层40结构中的厚度更加均匀。

由上可见，本实施例提供了具有基材层10-铝钕合金层20-二氧化硅保护层30或基材层10-无氧硅附着辅助层40-铝钕合金层20-二氧化硅保护层30的层状结构的光学铝反射膜，制造工艺简单，适合批量生产，所得产品抗腐蚀性好，不易氧化变色，遮蔽性、附着力、膜层均匀一致等技术指标良好，实测反射率可达90％。

最后需要强调的是，以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并不用于限制本实用新型。凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种光学铝反射膜，其特征在于包括基材层、铝钕合金层和二氧化硅保护层，所述基材层、所述铝钕合金层和所述二氧化硅保护层依次层叠。

2.根据权利要求1所述的一种光学铝反射膜，其特征在于还包括无氧硅附着辅助层，所述基材层、所述无氧硅附着辅助层、所述铝钕合金层和所述二氧化硅保护层依次层叠。

3.根据权利要求1或2所述的一种光学铝反射膜，其特征在于所述基材层包括相对设置的光滑面和粗糙面，所述铝钕合金层和所述二氧化硅保护层设置在所述粗糙面所在侧。

4.根据权利要求1或2所述的一种光学铝反射膜，其特征在于所述铝钕合金层的厚度在70nm以上。

5.根据权利要求1或2所述的一种光学铝反射膜，其特征在于所述二氧化硅保护层的厚度在70nm以上。

6.根据权利要求2所述的一种光学铝反射膜，其特征在于所述无氧硅附着辅助层是在所述基材层上镀膜形成，镀膜功率在1kW以下。

7.根据权利要求1或2所述的一种光学铝反射膜，其特征在于所述光学铝反射膜的表面反射率大于88％。

8.根据权利要求1或2所述的一种光学铝反射膜，其特征在于所述铝钕合金层和所述二氧化硅保护层分别是通过镀膜形成。

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