CN2938142Y - 一种反射膜 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种反射膜，其膜系结构为：基材层/N1/N2/N1/Ag/Al，其中介质层N1相对于介质层N2具有较高的折射率，反射面为前表面结构，所述基材层为PET薄膜或者玻璃，所述材料层N1是TiO2、Si3N4、Ta2O5、ZrO2、ZAO或ITO薄膜，所述材料层N2是SiO2或MgF2薄膜。本实用新型提供了一种能使反射光谱的能量分布更接近于光源的能量分布的反射膜。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种光反射膜。
背景技术
在LCD背光膜组及其它平板显示器件中，为了增加光源能量的利用率或者由于光学性能的需要，都要用到反射薄膜。现有的反射薄膜通常用玻璃或PET薄膜等作为基材，并在基材一侧采用真空蒸发技术和磁控溅射技术沉积约100纳米—2000纳米的Al或者Ag薄膜，利用Al和Ag金属薄膜的光学反射特性制成反射膜。
上述现有技术存在的不足在于：(1)Al反射薄膜的光谱特性在整个可见光波段比较偏低。(2)尽管Ag反射薄膜在可见光波段的反射率优于Al薄膜，但Ag反射薄膜的光谱特性在400纳米—450纳米段又有些偏低。(3)以上两种反射薄膜光谱曲线在可见光波段内都有比较大的波动性，造成反射光颜色失真。特别是Ag反射薄膜在400纳米—450纳米之间的反射率与对可见光的反射率有较大差异，造成反射光谱能量分布与光源能谱分布存在较大差异，这给后续光学的设计带来困难。
发明内容
本实用新型的目的意在克服上述现有技术的不足，提供一种能使反射光谱的能量分布更接近于光源的能量分布的反射膜。
实现上述目的的技术方案：
一种反射膜，其膜系结构为：基材层/N1/N2/N1/Ag/Al，其中介质层N1相对于介质层N2具有较高的折射率，反射面为前表面结构。
所述基材层为PET薄膜或者玻璃。
所述材料层N1是TiO2、Si3N4、Ta2O5、ZrO2、ZAO或ITO薄膜。
所述材料层N2是SIO2或MgF2薄膜。
所述Ag层的厚度为30-50nm，Al的厚度为80-200nm。
所述材料层N1的厚度为50-80nm。
所述材料层N2的厚度为90nm。
采用上述技术方案，本实用新型有益的技术效果在于：由于采用金属银和金属铝共同作为金属反射层，利用金属银在可见光短波段有较高反射率的特性，而金属铝在可见光波段基本没有色散现象，对金属银反射膜在短波段是很好的补充，这样有效地减少地反射光谱的色散现象，加上N1、N2介质层，利用多层光学膜理论，可以提高整个膜系的反射率，使可见光(400nm-800nm)的反射曲线变得相当平缓(参见图2)，并维持相当高的反射率，从而使反射光谱的能量分布更接近于光源的能量分布。
附图说明
图1是一种反射膜的膜系结构图。
图2是图1反射膜的反射曲线。
具体实施方式
一种反射膜，如图1所示，其膜系结构为：基材层/N1/N2/N1/Ag/Al，其中基材为PET薄膜或者玻璃，N1为相对高折射率的材料，比如TiO2、Si3N4、Ta2O5、ZrO2、ZAO或ITO等薄膜，N1的厚度为50-80nm，N2为相对较低折射率的材料，比如SIO2或MgF2等，N2的厚度约为90nm，Ag的厚度为30-50nm，Al的厚度为80-200nm。
膜系结构中，N1、N2组合膜层同时改善基材和Ag的附着力。
N1、N2通常采用电子束蒸发或者采用直流和中频磁控溅镀技术沉积。
图2给出了本实施例反射膜的反射曲线。在可见光(400nm-800nm)段的反射率在95-97.5％之间，显示出相当高的反射率特性，而且反射曲线相当平缓。充分表明，本实用新型的反射光谱的能量分布更接近于光源的能量分布。
Claims (7)
1、一种反射膜，其特征在于膜系结构为：基材/N1/N2/N1/Ag/A1，其中介质层N1相对于介质层N2具有较高的折射率，反射面为前表面结构。
2、根据权利要求1所述的反射膜，其特征在于：所述基材为PET薄膜或者玻璃。
3、根据权利要求1所述的反射膜，其特征在于：所述材料层N1是TiO2、Si3N4、Ta2O5、ZrO2、ZAO或ITO薄膜。
4、根据权利要求1所述的反射膜，其特征在于：所述材料层N2是SiO2或MgF2薄膜。
5、根据权利要求1-4任意一项所述的反射膜，其特征在于：所述Ag层的厚度为30-50nm，A1的厚度为80-200nm。
6、根据权利要求5所述的反射膜，其特征在于：所述材料层N1的厚度为50-80nm。
7、根据权利要求6所述的反射膜，其特征在于：所述材料层N2的厚度为90nm。
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2006
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