TWI828475B - 用於阻擋紅外線的抗反射塗層及含有其的顯示裝置 - Google Patents
用於阻擋紅外線的抗反射塗層及含有其的顯示裝置 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI828475B TWI828475B TW111148098A TW111148098A TWI828475B TW I828475 B TWI828475 B TW I828475B TW 111148098 A TW111148098 A TW 111148098A TW 111148098 A TW111148098 A TW 111148098A TW I828475 B TWI828475 B TW I828475B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- layer
- reflective coating
- composite layer
- refractive
- refractive composite
- Prior art date
Links
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 title claims abstract description 17
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title abstract description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title abstract description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title abstract description 5
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims abstract description 65
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 claims abstract description 25
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 153
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 claims description 91
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 61
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 21
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Inorganic materials O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims description 17
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 16
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 15
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 15
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 14
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 6
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 5
- 239000011573 trace mineral Substances 0.000 description 5
- 235000013619 trace mineral Nutrition 0.000 description 5
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JAONJTDQXUSBGG-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dizinc;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].[Zn+2].[Zn+2] JAONJTDQXUSBGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
本發明提供了一種用於阻擋紅外線的抗反射塗層及含有其的顯示裝置，其包括：一氧化保護層、一抗折射複合層以及一可見光抗反射層，該抗折射複合層設置在該氧化保護層上，該可見光抗反射層設置在該抗折射複合層上，其中該抗反射塗層在370~780nm的波長範圍內的反射率為0~1%，而在780~2500nm的波長範圍內的反射率為3~80%。
Description
本發明係關於一種抗反射塗層的技術領域，特別是關於一種用於阻擋紅外線及增強可見光的透射率的抗反射塗層及含有其的顯示裝置。
隨著科技的進步，發展出各式各樣的顯示裝置，更成為人們生活上不可或缺的用品，具有顯示螢幕的產品為人們生活帶來了便利，除了手機、智慧型手錶等個人電子裝置外，戶外宣傳看板及電子公車站牌等戶外顯示裝置也日益增加，以提供動態繽紛的多媒體播放效果。
然而，傳統的顯示螢幕在陽光底下，由於環境光比顯示螢幕亮，因此，會產生強烈的反光，使得使用者必須把顯示螢幕的亮度調到最大，才能觀看到顯示螢幕的顯示內容，往往十分耗電，並且造成顯示裝置發生過熱的現象，此問題在戶外顯示裝置中更為嚴重，來自太陽的輻射能照射的熱能再加上顯示螢幕在高亮度運作時的發出的熱能，往往造成戶外顯示裝置的內部溫度高達80度，導致戶外顯示裝置過熱而短路及損壞。此外，陽光中的紅外線也會穿透戶外顯示裝置的內部，造成內部元件損壞，加速元件的老化，減少顯示裝置的使用壽命。
綜觀前述，本發明之發明者思索並設計一種抗反射塗層，以期針對習知技術之缺失加以改善，進而增進產業上之實施利用。
有鑑於此，為了解決上述先前技術中存在的問題，本發明提供了一種用於阻擋紅外線的抗反射塗層，其包括：一抗折射複合層；一氧化保護層，設置在抗折射複合層上；以及一可見光抗反射層，設置在氧化保護層上；其中抗反射塗層在370~780nm的波長範圍內的反射率為0~1%，而在780~2500nm的波長範圍內的反射率為3~80%。
較佳地，抗反射塗層在370~780nm的波長範圍內的透射率為90~100%。
較佳地，抗反射塗層在780~2500nm的波長範圍內的反射率為3~80%，而透射率為0~60%。
較佳地，可見光抗反射層包括二氧化矽。
較佳地，抗折射複合層包括一第一抗折射複合層及/或至少一第二抗折射複合層，至少一第二抗折射複合層設置在第一抗折射複合層的一表面。
較佳地，氧化保護層、抗折射複合層及可見光抗反射層的一厚度比為19.40~20.60：T：43.65~46.35，其中T=A+n×B，A為第一抗折射複合層的一厚度，B為第二抗折射複合層的一厚度，n為整數。
較佳地，第一抗折射複合層由上往下依次包括：一第一摻鋁氧化鋅層、一金屬層、一第二摻鋁氧化鋅層及一五氧化二鈮層，並且在第一抗折射複合層中的第一摻鋁氧化鋅層、金屬層、第二摻鋁氧化鋅層及五氧化二鈮層的一厚度比為4.85~5.15：10.67~11.33：4.85~5.15：30.07~31.93。
較佳地，每一至少一第二抗折射複合層由上往下依次包括：一第一摻鋁氧化鋅層、一金屬層、一第二摻鋁氧化鋅層及一五氧化二鈮層，並且每一第二抗折射複合層中的第一摻鋁氧化鋅層、金屬層、第二摻鋁氧化鋅層及五氧化二鈮層的一厚度比為4.85~5.15：10.67~11.33：4.85~5.15：56.26~59.74。
此外，本發明還提供了一種顯示裝置，其包括：一基板；以及一第一抗反射塗層，第一抗反射塗層為如上所述的抗反射塗層，並且設置在基板的一表面上。
較佳地，顯示裝置進一步包括：一第二抗反射塗層，第二抗反射塗層為如上所述的抗反射塗層，並且設置在基板的另一表面上。
本發明的有益功效在於本發明的用於阻擋紅外線的抗反射塗層通過氧化保護層、抗折射複合層及可見光抗反射層以特定的折射率及厚度層疊，以達到所需的光學折射，在可見光的波長範圍內增加透射率且降低反射率，而在紅外線的波長範圍內降低透射率且增加反射率。因此，本發明的用於阻擋紅外線的抗反射塗層提高了螢幕發射出的可見光的強度，並且提高演色性指數(Color Rendering Index，CRI)，減少在陽光等強光底下所需的亮度，降低耗電量及所產生的熱能。此外，本發明的用於阻擋紅外線的抗反射塗層阻擋了紅外線照射到螢幕的內部，並且將陽光中的32-48%的熱輻射反射出去，避免內部元件
受到紅外線照射而損壞，並且降低了陽光所導致的熱能吸收，進而增加使用壽命及降低了使用成本。
以下將以具體的實施例配合所附的圖式詳加說明本發明的技術特徵，以使所屬技術領域具有通常知識者可易於瞭解本發明的目的、技術特徵、及其優點。
1:顯示裝置
10:抗反射塗層
20:第一抗反射塗層
30:第二抗反射塗層
100:抗折射複合層/第一抗折射複合層
101、201、301、401:第一摻鋁氧化鋅層
102、202、302、402:金屬層
103、203、303、403:第二摻鋁氧化鋅層
104、204、304、404:五氧化二鈮層
200:第二抗折射複合層
300:第三抗折射複合層
400:第四抗折射複合層
500:氧化保護層
600:可見光抗反射層
700:基板
為了更清楚地說明本發明實施例的技術方案，下面將對本發明實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面所描述的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對於所屬技術領域中具有通常知識者來講，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
第1圖係本發明的第一實施例的用於阻擋紅外線的抗反射塗層的示意圖。
第2圖係本發明的第二實施例的用於阻擋紅外線的抗反射塗層的示意圖。
第3圖係本發明的第三實施例的用於阻擋紅外線的抗反射塗層的示意圖。
第4圖係本發明的第四實施例的用於阻擋紅外線的抗反射塗層的示意圖。
第5圖係本發明的第五實施例的應用了第1圖至第4圖的抗反射塗層的顯示裝置的示意圖。
第6圖係本發明的第六實施例的應用了第1圖至第4圖的抗反射塗層的顯示裝置的示意圖。
第7圖係本發明的用於阻擋紅外線的抗反射塗層在不同波長時的反射率的比較圖。
第8圖係本發明的用於阻擋紅外線的抗反射塗層在不同波長時的反射率的比較圖。
本發明的優點、特徵以及達到的技術方法將參照例示性實施例及所附圖式進行更詳細地描述而更容易理解，且本發明可以不同形式來實現，故不應被理解僅限於此處所陳述的實施例，相反地，對所屬技術領域中具有通常知識者而言，所提供的實施例將使本揭露更加透徹與全面且完整地傳達本發明的範疇，且本發明將僅為所附加的申請專利範圍所定義。
應當理解的是，儘管術語「第一」、「第二」等在本發明中可用於描述各種元件、部件、區域、區段、層及/或部分，但是這些元件、部件、區域、區段、層及/或部分不應受這些術語的限制。這些術語僅用於將一個元件、部件、區域、區段、層及/或部分與另一個元件、部件、區域、區段、層及/或部分區分開。
除非另有定義，本發明所使用的所有術語(包括技術和科學術語)具有與本發明所屬技術領域的通常知識者通常理解的相同含義。將進一步理解的是，諸如在通常使用的字典中定義的那些術語應當被解釋為具有與它們在相關技術和本發明的上下文中的含義一致的定義，並且將不被解釋為理想化或過度正式的意義，除非本文中明確地這樣定義。
請一併參閱第1圖至第4圖，第1圖係本發明的第一實施例的用於阻擋紅外線的抗反射塗層的示意圖，第2圖係本發明的第二實施例的用於阻擋紅外線的抗反射塗層的示意圖，第3圖係本發明的第三實施例的用於阻擋紅外線的
抗反射塗層的示意圖，第4圖係本發明的第四實施例的用於阻擋紅外線的抗反射塗層的示意圖。
本發明的一種用於阻擋紅外線的抗反射塗層10，其包括：抗折射複合層100、200、300、400、氧化保護層500及可見光抗反射層600。氧化保護層500設置在抗折射複合層100、200、300、400上，可見光抗反射層600設置在氧化保護層500上。
抗折射複合層100、200、300、400可以設置至少一層，如第1圖所示，在第一實施例中，抗反射塗層僅具有一抗折射複合層100。如第2圖所示，在第二實施例中，抗反射塗層具有第一抗折射複合層100及第二抗折射複合層200。如第3圖所示，在第三實施例中，抗反射塗層具有第一抗折射複合層100、第二抗折射複合層200及第三抗折射複合層300，在第四實施例中，抗反射塗層具有第一抗折射複合層100、第二抗折射複合層200、第三抗折射複合層300及第四抗折射複合層400。
抗折射複合層100、200、300、400由上往下依次包括：第一摻鋁氧化鋅(Al-doped ZnO，AZO)層101、201、301、401，金屬層102、202、302、402，第二摻鋁氧化鋅層103、203、303、403及五氧化二鈮層104、204、304、404進行層疊而形成。
第一摻鋁氧化鋅層101、201、301、401及第二摻鋁氧化鋅層103、203、303、403由鋁鋅氧化物(AZO)(包含氧化鋅(ZnO)作為主要成分和Al或Al2O3作為微量元素)構成。ZnO：Al2O3的比率處於大約90~99.9：0.1~10的範圍內，但是並不局限於此。第一摻鋁氧化鋅層101、201、301、401的成分可以與第二摻鋁氧化鋅層103、203、303、403的成分相同或不同。此外，第一抗折射複合
層100、第二抗折射複合層200、第三抗折射複合層300及第四抗折射複合層400中的第一摻鋁氧化鋅層101、201、301、401及第二摻鋁氧化鋅層103、203、303、403的成分可以互相相同或不同。
金屬層102、202、302、402形成在第二摻鋁氧化鋅層103、203、303、403上，金屬層102、202、302、402由包含銀或大約90wt% Ag的銀合金構成。銀具有較高的柔性和導電性，且在薄膜形成過程期間保持其導電性，銀其他金屬相比成本較低且具有較低的可見光吸收率。第一抗折射複合層100、第二抗折射複合層200、第三抗折射複合層300及第四抗折射複合層400中的金屬層102、202、302、402的成分可以互相相同或不同。
五氧化二鈮層104、204、304、404係藉由電漿放射監測器(PEM)控制之反應性濺鍍而沉積而成，其在例如包括各具有約80~450sccm與120sccm流速之氬(Ar)與氧的大氣中，使用鈮(Nb)鈀材來進行。五氧化二鈮層104、204、304、404可以僅含有五氧化二鈮(Nb2O5)、或五氧化二鈮(Nb2O5)加上微量元素，該微量元素可以是Ti、Cr、Zr、Bi、Al或B。第一抗折射複合層100、第二抗折射複合層200、第三抗折射複合層300及第四抗折射複合層400中的五氧化二鈮層104、204、304、404的成分可以互相相同或不同。
氧化保護層500在增強薄膜強度上扮演重要的角色，氧化保護層500是由五氧化二鈮或五氧化二鈮(Nb2O5)加上微量元素構成，該微量元素可以是Ti、Cr、Zr、Bi、Al或B，氧化保護層500可以與五氧化二鈮層104、204、304、404的製程相同，但厚度不同，以在減少對整體光學的影響的情況下保護抗折射複合層100、200、300、400。
可見光抗反射層600是由二氧化矽構成，其係藉使用矽鈀材，而在包括各具有約150~400sccm與120sccm流速之Ar與氧的大氣下，沉積於氧化保護層500上。
本發明的一種用於阻擋紅外線的抗反射塗層10的各元件層的參數如表1所示：
表1中的以上參數及厚度比皆含有±3%的範圍，舉例而言，氧化保護層500的物理厚度為20.00nm，即氧化保護層500的物理厚度的範圍為19.40~20.60nm，又如可見光抗反射層600的物理厚度為45.00nm，即可見光抗反射層600的物理厚度的範圍為43.65~46.35nm，如此類推，為了說明書的簡潔起見，本文不重覆敘述於此。
因此，如第1圖至第4圖中所示之抗反射塗層的多層結構係經由前述之製程步驟而形成，各層的厚度係被最適化，以提供特定的光學反射及折射。
請一併參閱第5圖至第6圖，第5圖係本發明的第五實施例的應用了第1圖至第4圖的抗反射塗層的顯示裝置的示意圖，第6圖係本發明的第六實施例的應用了第1圖至第4圖的抗反射塗層的顯示裝置的示意圖。
本發明進一步提供了一種顯示裝置1，在第一實施例中，顯示裝置1包括：基板700以及第一抗反射塗層20，第一抗反射塗層20為如上所述的抗反射塗層10，並且設置在基板700的表面上。
此外，在第二實施例中，顯示裝置1包括：基板700、第一抗反射塗層20及第二抗反射塗層30，第一抗反射塗層20及第二抗反射塗層30為如上所述的抗反射塗層10，第一抗反射塗層20設置在基板700的表面上，而第二抗反射塗層設置在基板700的另一表面上。
在本發明的實施例中，基板700為玻璃，但本發明不限於此。基板700的材料可以為玻璃或柔性基板，基板700可經過表面處理，例如：對基板700的表面進行拋光，使得基板700的RMS(平方根值)粗糙度為1~10埃米(Å)，其峰谷表面粗糙度為20~150埃米。柔性基板包括但不限於：聚乙烯對苯二酸鹽(PET)、丙烯樹脂等聚合物。
為了簡潔說明，在第5圖至第6圖中使用了第4圖的第四實施例的抗反射塗層10作為示例，本發明並不局限於此，即第一抗反射塗層20及第二抗反射塗層30可以為相同或不同的結構，第一抗反射塗層20及第二抗反射塗層30可以分別為如第1圖至第4圖所示的第一實施例、第二實施例、第三實施例或第四實施例的用於阻擋紅外線的抗反射塗層10中的任一個。
本發明的顯示裝置1的其它元件可根據需求選用如習知的顯示裝置等相同的元件，例如：液晶顯示器(LCD，Liquid Crystal Display)裝置、場放射
顯示器(FED，Field Emission Display)裝置、電漿顯示器面板(PDP，Plasma Display Panel)及有機發光二極體(OLED，Organic Light Emitting Diode)顯示裝置，本發明所屬領域中具有通常知識者可以根據習知的顯示裝置進行選用相應的元件來實施，本發明不局限於此。
請參閱第7圖，第7圖係本發明的用於阻擋紅外線的抗反射塗層在不同波長時的反射率的比較圖，其中歸一化紅外線太陽輻射的曲線示出了沒有設置本發明的抗反射塗層的傳統顯示裝置在陽光照射時的各波長的反射率，本發明的抗反射塗層的曲線示出了設置了本發明的抗反射塗層10的顯示裝置1在陽光照射時的各波長的反射率。
光譜(300~2500nm)的反射率及透射率的測量方法如下：
通過Hitachi光譜儀U-4100儀器發射出波長為300到2500nm的光，以測量根據本發明的第三實施例所製造的抗反射塗層10在波長範圍300~2500nm內的反射率及透射率，並通過CIE標準光源D65的CIE色度適配的相對輻射效率測量透射輻射通量(反射輻射通量)，來獲得反射率及透射率。
其中：τe為太陽光透射率，ρe為太陽光反射率，τ(λ)為光譜透射率(測量值)，ρ(λ)為光譜反射率(測量值)，Eλ為直接輻照相對太陽光輻射值的標準光譜分佈，請參照Hitachi光譜儀U-4100儀器內建之軟體及操作手冊。
如第7圖所示，歸一化紅外線太陽幅射的曲線代表本實施例中所使用的太陽光的光譜，相較之下，沒有設置本發明的抗反射塗層的傳統顯示裝置在可見光的波長範圍(370~780nm)呈現6%以上的反射率，造成傳統顯示裝置在陽光下呈現背光且難以觀看的現象，此外，在紅外線的波長範圍(780~2500nm)內的反射率為平均低於20%的反射率，造成紅外線等較高能量的電磁波穿透傳統顯示裝置的內部，對內部元件造成損傷。相反，設置了本發明的抗反射塗層10的顯示裝置1在可見光的波長範圍(370~780nm)呈現2%的反射率，增強了顯示裝置的發光效率，提高了螢幕發射出的可見光的強度，並且提高演色性指數(Color Rendering Index，CRI)，減少在陽光等強光底下所需的亮度，降低耗電量及所產生的熱能。此外，在紅外線的波長範圍(780~2500nm)內為平均約65%的反射率，阻擋了紅外線照射到螢幕的內部，並且將陽光中的32-48%的熱輻射反射出去，避免內部元件受到紅外線照射而損壞，並且降低了陽光所導致的熱能吸收，進而增加使用壽命及降低了使用成本。
請參閱第8圖，第8圖係本發明的用於阻擋紅外線的抗反射塗層在不同波長時的反射率的比較圖，其中比較例為沒有設置本發明的可見光抗反射層的抗反射塗層，而實施例為設置了本發明的可見光抗反射層的抗反射塗層。
如第8圖所示，其實驗結果如表2所示，相較於沒有設置本發明的可見光抗反射層500的抗反射塗層10的比較例，設置了本發明的可見光抗反射層500的抗反射塗層10的實施例在可見光的波長範圍(370~780nm)的反射率明顯地從2.49%降低至0.38%，增強了顯示裝置1的發光效率及演色性指數(Color Rendering Index，CRI)，更進一步地降低耗電量及所產生的熱能。
[表2]：
本發明的有益功效在於本發明的用於阻擋紅外線的抗反射塗層通過氧化保護層、抗折射複合層及可見光抗反射層以特定的折射率及厚度層疊，以達到所需的光學折射，在可見光的波長範圍內增加透射率且降低反射率，而在紅外線的波長範圍內降低透射率且增加反射率。因此，本發明的用於阻擋紅外線的抗反射塗層提高了螢幕發射出的可見光的強度，並且提高演色性指數(Color Rendering Index，CRI)，減少在陽光等強光底下所需的亮度，降低耗電量及所產生的熱能。此外，本發明的用於阻擋紅外線的抗反射塗層阻擋了紅外線照射到螢幕的內部，並且將陽光中的32-48%的熱輻射反射出去，避免內部元件受到紅外線照射而損壞，並且降低了陽光所導致的熱能吸收，進而增加使用壽命及降低了使用成本。
以上所述僅為舉例性，而非為限制性者。任何未脫離本發明之精神與範疇，而對其進行之等效修改或變更，均應包含於後附之申請專利範圍中。
10:抗反射塗層
100:抗折射複合層/第一抗折射複合層
101、201、301、401:第一摻鋁氧化鋅層
102、202、302、402:金屬層
103、203、303、403:第二摻鋁氧化鋅層
104、204、304、404:五氧化二鈮層
200:第二抗折射複合層
300:第三抗折射複合層
400:第四抗折射複合層
500:氧化保護層
600:可見光抗反射層
Claims (10)
- 一種用於阻擋紅外線的抗反射塗層，其包括：一抗折射複合層；一氧化保護層，設置在該抗折射複合層上；以及一可見光抗反射層，設置在該氧化保護層上；其中該抗折射複合層包括一第一抗折射複合層及至少一第二抗折射複合層，該第一抗折射複合層係設置於一基板上，且該至少一第二抗折射複合層設置在該第一抗折射複合層的一表面；其中該氧化保護層、該抗折射複合層及該可見光抗反射層的一厚度比為19.40~20.60：T：43.65~46.35，其中T=A+n×B，A為該第一抗折射複合層的厚度，B為該第二抗折射複合層的厚度，n為整數。
- 如請求項1所述之抗反射塗層，其中該抗反射塗層在該370~780nm的波長範圍內的透射率為90~100%。
- 如請求項1所述之抗反射塗層，其中該抗反射塗層在780~2500nm的波長範圍內的反射率為3~80%，而透射率為0~60%。
- 如請求項1所述之抗反射塗層，其中該可見光抗反射層包括二氧化矽。
- 如請求項1所述之抗反射塗層，其中該抗折射複合層在370~780nm的波長範圍內的反射率為0~1%。
- 如請求項5所述之抗反射塗層，其中該抗反射塗層在370~780nm的波長範圍內的反射率為約0.38%。
- 如請求項1所述之抗反射塗層，其中該第一抗折射複合層由上往下依次包括：一第一摻鋁氧化鋅層、一金屬層、一第二摻鋁氧化鋅層及一五氧化二鈮層，並且在該第一抗折射複合層中的該第一摻鋁氧化鋅層、該金屬層、該第二摻鋁氧化鋅層及該五氧化二鈮層的一厚度比為4.85~5.15：10.67~11.33：4.85~5.15：30.07~31.93。
- 如請求項1所述之抗反射塗層，其中每一該至少一第二抗折射複合層由上往下依次包括：一第一摻鋁氧化鋅層、一金屬層、一第二摻鋁氧化鋅層及一五氧化二鈮層，並且每一該第二抗折射複合層中的該第一摻鋁氧化鋅層、該金屬層、該第二摻鋁氧化鋅層及該五氧化二鈮層的一厚度比為4.85~5.15：10.67~11.33：4.85~5.15：56.26~59.74。
- 一種顯示裝置，其包括：一基板；以及一第一抗反射塗層，該第一抗反射塗層係為如請求項1至8中任一項所述之抗反射塗層，並且設置在該基板的一表面上。
- 如請求項9所述之顯示裝置，其進一步包括：一第二抗反射塗層，該第二抗反射塗層係如請求項1至8中任一項所述之抗反射塗層，並且設置在該基板的另一表面上。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW111148098A TWI828475B (zh) | 2022-12-14 | 2022-12-14 | 用於阻擋紅外線的抗反射塗層及含有其的顯示裝置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW111148098A TWI828475B (zh) | 2022-12-14 | 2022-12-14 | 用於阻擋紅外線的抗反射塗層及含有其的顯示裝置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TWI828475B true TWI828475B (zh) | 2024-01-01 |
Family
ID=90458980
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW111148098A TWI828475B (zh) | 2022-12-14 | 2022-12-14 | 用於阻擋紅外線的抗反射塗層及含有其的顯示裝置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| TW (1) | TWI828475B (zh) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018110017A1 (ja) * | 2016-12-14 | 2018-06-21 | コニカミノルタ株式会社 | 光学製品 |
| US11378727B2 (en) * | 2017-12-19 | 2022-07-05 | Ptot (Suzhou) Inc. | Absorption type near infrared filter |
-
2022
- 2022-12-14 TW TW111148098A patent/TWI828475B/zh active
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018110017A1 (ja) * | 2016-12-14 | 2018-06-21 | コニカミノルタ株式会社 | 光学製品 |
| US11378727B2 (en) * | 2017-12-19 | 2022-07-05 | Ptot (Suzhou) Inc. | Absorption type near infrared filter |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN102714281B (zh) | 黑色有机发光二极管器件 | |
| JPWO2007013269A1 (ja) | 反射膜用積層体 | |
| US8867320B2 (en) | Timepiece cover glass and timepiece | |
| TW412640B (en) | Light absorption antireflective body and method of producing the same | |
| US7189460B2 (en) | High reflectance mirror | |
| US10816703B2 (en) | Near infrared reflective coatings | |
| JPWO2009131206A1 (ja) | 低反射ガラスおよびディスプレイ用保護板 | |
| WO2000063924A1 (fr) | Substrat transparent presentant un revetement multicouche antireflet conducteur, ecran tactile utilisant ce substrat transparent, et dispositif electronique utilisant ledit ecran tactile | |
| US11054559B2 (en) | Reflective transparent screen having metal alloy thin film and concavo-convex structure | |
| CN103884122B (zh) | 一种太阳能光热转换集热器透明热镜及其制备方法 | |
| JP2001209038A (ja) | 液晶表示素子用基板 | |
| Sun et al. | Improving the color gamut of a liquid-crystal display by using a bandpass filter | |
| JP2011138135A (ja) | 透明導電膜及びそれを含むディスプレイフィルタ | |
| TWI828475B (zh) | 用於阻擋紅外線的抗反射塗層及含有其的顯示裝置 | |
| JP2006010930A (ja) | 高反射鏡 | |
| JP4428152B2 (ja) | 高反射鏡 | |
| WO2013088836A1 (ja) | 反射防止部材 | |
| KR20110009857A (ko) | 액정 표시 장치 및 반사 방지층의 제조 방법 | |
| CN105609661B (zh) | Oled显示器及显示模组 | |
| Ni et al. | Transparent and high infrared reflection film having sandwich structure of SiO2/Al: ZnO/SiO2 | |
| KR950020948A (ko) | 화상표시장치 | |
| JP2005250229A (ja) | 高反射鏡 | |
| JP2006010929A (ja) | 高反射鏡 | |
| CN216901005U (zh) | 一种光学铝反射膜 | |
| WO2011122152A1 (ja) | 電磁波遮蔽膜及び電磁波遮蔽部材 |