CN216727996U - 一种ic用掩膜版半自动滴胶装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及半导体掩膜版制造技术领域，公开了一种IC用掩膜版半自动滴胶装置，包括：光刻胶瓶体，所述光刻胶瓶体用于盛放光刻胶；过滤组件，用于对所述光刻胶里的大颗粒杂质进行过滤，所述过滤组件的输入口与所述光刻胶瓶体通过出液管连通，所述过滤组件的输出口通过后端管路与滴嘴连通；旋转组件，用于旋转所述后端管路，以改变所述滴嘴的位置。本实用新型在光刻胶瓶体的后端增加了过滤机构，将光刻胶原材中超过规格的大颗粒杂质过滤掉，避免原材带来的缺陷。

Description

一种IC用掩膜版半自动滴胶装置

技术领域

本实用新型涉及半导体掩膜版制造技术领域，具体涉及一种IC用掩膜版半自动滴胶装置。

背景技术

掩膜版又称光掩膜版、光罩(Photo mask)，由石英或苏打玻璃作为基板衬底，先在玻璃基板上镀上一层金属铬层，然后在铬层上面涂覆光刻胶使其成为一种感光材料，把已设计好的电路图形通过电子激光设备使光刻胶感光，被曝光的区域通过显影、蚀刻在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模母版。近年来国内新型显示面板产量逐年增加，芯片半导体市场逐渐转向内需，因而对掩膜版的需求量也越来越大。

在半导体芯片制造过程中，通过利用掩膜版将图形转移到Wafer(晶圆)上。而在掩膜版的制造过程中，涂覆光刻胶是非常重要且关键的一步，光刻胶的涂布是先在掩膜版上滴上光刻胶，然后高速旋转得到一层膜厚均匀的感光材料。在掩膜版的生产过程对无尘环境及操作过程中particle的控制有着严格的要求。如果在滴胶的过程中引入大量的particle，则在旋涂完成后掩膜版整版都会存在大量的涂胶缺陷，导致涂胶失败，造成材料、时间的损耗，增加成本。

因此为了避免光刻胶中的大颗粒杂质滴入掩膜版上，设计一种半自动滴胶装置来解决以上述问题。

实用新型内容

本实用新型提供一种IC用掩膜版半自动滴胶装置，解决了在小版涂胶过程中，光刻胶中的大颗粒杂质落在掩膜版上。

本实用新型通过下述技术方案实现：

一种IC用掩膜版半自动滴胶装置，包括：

光刻胶瓶体，所述光刻胶瓶体用于盛放光刻胶；

过滤组件，用于对所述光刻胶里的大颗粒杂质进行过滤，所述过滤组件的输入口与所述光刻胶瓶体通过出液管连通，所述过滤组件的输出口通过后端管路与滴嘴连通；

旋转组件，用于旋转所述后端管路，以改变所述滴嘴的水平位置。

作为优化，所述光刻胶瓶体的顶部可拆卸连接有光刻胶瓶盖，贯穿所述光刻胶瓶盖的上表面设有进气管和出液管，所述进气管的进气端连接有供气装置。

作为优化，所述供气装置包括但不限于为气泵。

作为优化，所述进气管上设有电磁阀。

作为优化，所述过滤组件包括过滤壳体，所述过滤壳体内设置有用于过滤大颗粒杂质的滤芯，所述过滤壳体的输入口连接有出液管，所述过滤壳体的输出口连接有第一连接管。

作为优化，所述旋转组件包括竖向设置的固定支架，所述固定支架的侧面水平设置有支撑板，所述支撑板的上表面转动设置有旋钮，所述支撑板内设置有密封轴承，所述密封轴承与所述旋钮同轴设置，所述后端管路呈“L”型，且所述后端管路远离所述滴嘴的一端穿过所述旋钮的侧壁通过所述密封轴承与所述第一连接管连接。

作为优化，所述光刻胶瓶盖与所述光刻胶瓶体的连接方式包括但不限于为螺纹连接。

作为优化，所述后端管路与滴嘴可拆卸连接。

作为优化，所述滴嘴与所述后端管路螺纹连接或者所述滴嘴插接在所述后端管路上。

作为优化，所述光刻胶瓶盖与所述出液管和进气管一体成型。

本实用新型与现有技术相比，具有如下的优点和有益效果：

1.本实用新型的一种IC用掩膜版半自动滴胶装置，通过将光刻胶瓶盖和出液管和进气管设计为一体的装置，因此可以直接利用供应商的光刻胶瓶体来供胶，不需要再将供应商的光刻胶转移到buffer(缓存桶)中，从而避免光刻胶转移过程中particle的引入，且光刻胶切换方便高效；

2.本实用新型在光刻胶瓶体的后端增加了过滤机构，将光刻胶原材中超过规格的大颗粒杂质过滤掉，避免原材带来的缺陷；

3.本实用新型中的后端管路通过支撑板中的密封轴承与第一连接管连接，可以实现水平自由旋转，当需要滴胶时将后端管路旋转到固定滴胶位置即可，在不需要滴胶时将管路旋转到收纳位置；

4.本实用新型设计可拆卸滴嘴，方便清洗，实现滴胶过程中滴嘴的洁净度；

5.本实用新型结构简单、操作方便、使用灵活，实现了量产功能。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本实用新型实施例的进一步理解，构成本申请的一部分，并不构成对本实用新型实施例的限定。在附图中：

图1为本实用新型所述的一种IC用掩膜版半自动滴胶装置的立体结构示意图；

图2为图1的主视图；

图3为本实用新型所述的一种IC用掩膜版半自动滴胶装置结合涂胶机和掩膜版以后的结构示意图；

图4为旋转组件处的结构示意图。

附图中标记及对应的零部件名称：

1-光刻胶瓶体，2-光刻胶瓶盖，3-进气管，4-出液管，5-过滤壳体，6-固定支架，6a-支撑板，7-旋钮，8-后端管路，9-滴嘴，10-涂胶机，11-掩膜版，12-密封轴承，13-第一连接管。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下面结合实施例和附图，对本实用新型作进一步的详细说明，本实用新型的示意性实施方式及其说明仅用于解释本实用新型，并不作为对本实用新型的限定。

实施例1

本实施例1提供一种IC用掩膜版半自动滴胶装置，如图1-图4所示，包括：

光刻胶瓶体1，所述光刻胶瓶体1用于盛放光刻胶；

过滤组件，用于对所述光刻胶里的大颗粒杂质进行过滤，所述过滤组件的输入口与所述光刻胶瓶体1通过出液管4连通，所述过滤组件的输出口通过后端管路8与滴嘴9连通；

旋转组件，用于旋转所述后端管路8，以改变所述滴嘴9的水平位置。

本实施例中，所述光刻胶瓶体1的顶部可拆卸连接有光刻胶瓶盖2，贯穿所述光刻胶瓶盖2的上表面设有进气管3和出液管4，所述进气管3的进气端连接有供气装置。进气管在光刻胶瓶体内的高度高于出液管的高度，这样光刻胶药液在浸没出液管的底部的同时，不会浸没进气管的底部。

在光刻胶瓶盖2设计有两个开孔分别设置进气管和出液管，一个作为进气使用，提供瓶体内高压，一个作为出液使用，在气压的作用下药液被送往滤芯中，通过滤芯的作用将光刻胶原材中超过规格的大颗粒杂质给过滤掉，然后光刻胶被压送到滴嘴处。

本实施例中，所述供气装置包括但不限于为气泵(图中为表示)。

本实施例中，所述进气管3上设有电磁阀(图中为表示)。

本实施例中，所述过滤组件包括过滤壳体5，所述过滤壳体5内设置有用于过滤大颗粒杂质的滤芯，所述过滤壳体5的输入口连接有出液管4，所述过滤壳体5的输出口连接有第一连接管13。

本实施例中，所述旋转组件包括竖向设置的固定支架6，所述固定支架6的侧面水平设置有支撑板6a，所述支撑板6a的上表面转动设置有旋钮7，所述支撑板6a内设置有密封轴承12，所述密封轴承12与所述旋钮7同轴设置，所述后端管路8呈“L”型，且所述后端管路8远离所述滴嘴9的一端穿过所述旋钮7的侧壁通过所述密封轴承7与所述第一连接管13连接。

滴嘴与后端管路安装在支撑板上，后端管路可以在水平方向实现自由旋转，在需要滴胶的时候将后端管路旋转到固定位置，从而保证滴嘴与掩膜版的中心位置重合，实现光刻胶在掩膜版上滴胶的均匀性。

本实施例中，所述光刻胶瓶盖2与所述光刻胶瓶体1的连接方式包括但不限于为螺纹连接。

本实施例中，所述后端管路8与滴嘴9可拆卸连接。滴嘴采用不锈钢材质制成，可与后端管路可以实现自由拆卸功能，方便长时间未进行滴胶后光刻胶在滴嘴处凝固情况下的排胶与清洗。

本实施例中，所述滴嘴9与所述后端管路8螺纹连接或者所述滴嘴9插接在所述后端管路8上。

本实施例中，所述光刻胶瓶盖2与所述出液管4和进气管3一体成型。

固定支架可以设置在底板上，在使用本实用新型的半自动滴胶装置时，涂胶机、光刻胶瓶体均可以放置在此底板上。

本实用新型的实现原理如下：

选择装有需要涂布的胶型的光刻胶瓶体，光刻胶瓶体为供应商提供，光刻胶瓶体的顶部自带外螺纹，例如参考“深圳市科时达电子科技有限公司”的GES 1040光刻胶，光刻胶瓶盖的内侧设有内螺纹，使得可光刻胶瓶盖可以与光刻胶瓶体螺纹连接，而光刻胶瓶盖的大小与光刻胶瓶体的顶部匹配设置，并将光刻胶瓶体与光刻胶瓶盖连接上，在光刻胶管路后安装好带有对应型号滤芯的过滤组件，并在后端管路8上安装好滴嘴9，过滤壳体与第一连接管以及出液管可以通过插接的方式连接，这样方便对过滤壳体进行拆卸，以方便更换带有其他滤芯的过滤壳体。

在涂胶机10的转盘平台上加载好需要涂胶的掩膜版11，并通过旋钮7将滴嘴9旋转到固定位置，使滴嘴保持在掩膜版正上方。完成以上步骤后，设定好气泵的气压以设定好进气管内的气压，通过电磁阀控制气路开关，光刻胶瓶内在气压的作用下，光刻胶药液会被压送到滤芯5，通过滤芯5将光刻胶原材进行过滤，然后通过滴嘴将光刻胶滴在掩膜版上，滴胶完成后将后端管路8移动到安全位置，避免与涂胶机腔体盖开合之间的干涉，最后涂胶机根据设定的旋转参数进行旋转涂胶，涂胶完成后将掩膜版取出送至烘烤箱进行烘烤。

本实用新型装置可以方便实现不同胶型的涂胶，在更换不同胶型时，可以通过清水清洗出液管、第一连接管和后端管路，高效快速；更为主要的是可以避免人手工滴胶过程中身上带入的particle(灰尘颗粒)，过滤掉光刻胶原材中可以影响涂胶效果的大杂质颗粒，从而包装涂胶的良率，降低涂胶的缺陷。

以上所述的具体实施方式，对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本实用新型的具体实施方式而已，并不用于限定本实用新型的保护范围，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种IC用掩膜版半自动滴胶装置，其特征在于，包括：

光刻胶瓶体(1)，所述光刻胶瓶体(1)用于盛放光刻胶；

过滤组件，用于对所述光刻胶里的大颗粒杂质进行过滤，所述过滤组件的输入口与所述光刻胶瓶体(1)通过出液管(4)连通，所述过滤组件的输出口通过后端管路(8)与滴嘴(9)连通；

旋转组件，用于旋转所述后端管路(8)，以改变所述滴嘴(9)的水平位置。

2.根据权利要求1所述的一种IC用掩膜版半自动滴胶装置，其特征在于，所述光刻胶瓶体(1)的顶部可拆卸连接有光刻胶瓶盖(2)，贯穿所述光刻胶瓶盖(2)的上表面设有进气管(3)和出液管(4)，所述进气管(3)的进气端连接有供气装置。

3.根据权利要求2所述的一种IC用掩膜版半自动滴胶装置，其特征在于，所述供气装置包括但不限于为气泵。

4.根据权利要求2或3所述的一种IC用掩膜版半自动滴胶装置，其特征在于，所述进气管(3)上设有电磁阀。

5.根据权利要求1所述的一种IC用掩膜版半自动滴胶装置，其特征在于，所述过滤组件包括过滤壳体(5)，所述过滤壳体(5)内设置有用于过滤大颗粒杂质的滤芯，所述过滤壳体(5)的输入口连接有出液管(4)，所述过滤壳体(5)的输出口连接有第一连接管(13)。

6.根据权利要求5所述的一种IC用掩膜版半自动滴胶装置，其特征在于，所述旋转组件包括竖向设置的固定支架(6)，所述固定支架(6)的侧面水平设置有支撑板(6a)，所述支撑板(6a)的上表面转动设置有旋钮(7)，所述支撑板(6a)内设置有密封轴承(12)，所述密封轴承(12)与所述旋钮(7)同轴设置，所述后端管路(8)呈“L”型，且所述后端管路(8)远离所述滴嘴(9)的一端穿过所述旋钮(7)的侧壁通过所述密封轴承(12)与所述第一连接管(13)连接。

7.根据权利要求2所述的一种IC用掩膜版半自动滴胶装置，其特征在于，所述光刻胶瓶盖(2)与所述光刻胶瓶体(1)的连接方式包括但不限于为螺纹连接。

8.根据权利要求1所述的一种IC用掩膜版半自动滴胶装置，其特征在于，所述后端管路(8)与滴嘴(9)可拆卸连接。

9.根据权利要求8所述的一种IC用掩膜版半自动滴胶装置，其特征在于，所述滴嘴(9)与所述后端管路(8)螺纹连接或者所述滴嘴(9)插接在所述后端管路(8)上。

10.根据权利要求2所述的一种IC用掩膜版半自动滴胶装置，其特征在于，所述光刻胶瓶盖(2)与所述出液管(4)和进气管(3)一体成型。

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