CN216538036U - 一种半导体研磨液供给装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种半导体研磨液供给装置，属于研磨设备技术领域，包括外箱体，所述外箱体的上端设置有散热组件；所述散热组件包括电机一、转动辊二、散热风扇二、传送带、水冷散热组件、散热风扇一和转动辊一，其中，所述外箱体的上端设置有电机一，所述电机一的下端设置有转动辊一，所述转动辊一的下端设置有散热风扇一，所述转动辊一的表面设置有传送带，所述传送带的另一端设置有转动辊二，本实用新型通过设置了散热组件，该组件可以对供给装置进行散热降温，避免电气箱和控制泵长时间的使用产生的热量无法及时排出的问题，通过设置水冷散热组件，可以配合散热风扇进行双重降温，从而提升装置的散热效率。

Description

一种半导体研磨液供给装置

技术领域

本实用新型属于研磨设备技术领域，具体涉及一种半导体研磨液供给装置。

背景技术

研磨是在硅晶体切片后，对硅晶片表面的第一次机械加工。研磨硅晶片的目的是去除硅晶片表面的切片刀痕和凹凸不平，使表面加工损伤平整均匀，在化学腐蚀过程中，其表面腐蚀速率即可均匀一致。使用研磨机研磨被加工的单晶硅、多晶硅和其它化合物半导体材料的晶片时，一般采用中性或弱酸性的研磨液，研磨液的组分一般包括润滑剂、分散剂等。目前用于硅晶片的研磨液，大多采用美国生产的多氨19-C磨削液。

中国专利申请号为202021470889.7公开了一种半导体外环研磨设备的研磨液自动供给输送装置，其设置的供给输送装置长时间的使用电气箱和控制泵积攒的热量不易排出，从而影响设备的正常运行；其设置的存储桶搅拌组件对于研磨液的搅拌效率差，无法清理底部积攒的研磨液晶体。

实用新型内容

为解决上述背景技术中提出的问题。本实用新型提供了一种半导体研磨液供给装置，具有供给装置散热效率好以及研磨液搅拌效率高的特点。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种半导体研磨液供给装置，包括外箱体，所述外箱体的上端设置有散热组件；所述散热组件包括电机一、转动辊二、散热风扇二、传送带、水冷散热组件、散热风扇一和转动辊一，其中，所述外箱体的上端设置有电机一，所述电机一的下端设置有转动辊一，所述转动辊一的下端设置有散热风扇一，所述转动辊一的表面设置有传送带，所述传送带的另一端设置有转动辊二，所述转动辊二的下端设置有散热风扇二，所述外箱体的内部靠近散热风扇二和散热风扇一的位置设置有水冷散热组件。

优选的，所述外箱体的上端通过卡扣卡接的方式固定设置有防尘网。

优选的，所述水冷散热组件包括水箱、抽液管、水泵、进液管、回液管和冷凝管，其中，所述外箱体的侧边设置有水箱，所述水箱的一端设置有抽液管，所述抽液管的另一端设置有水泵，所述水泵的另一端设置有进液管，所述进液管的另一端设置有冷凝管，所述冷凝管的另一端设置有回液管。

优选的，所述水箱和水泵的侧边设置有固定板，所述固定板通过螺栓与外箱体固定连接。

优选的，所述外箱体的内部设置有搅拌组件；所述搅拌组件包括转动杆一、存储桶、蜗轮、蜗杆、搅拌杆、电机二、毛刷和转动杆二，其中，所述外箱体的内部设置有存储桶，所述存储桶的侧边设置有电机二，所述电机二的另一端设置有转动杆一，所述转动杆一的侧边设置有搅拌杆，所述转动杆一的中心位置表面设置有蜗杆，所述蜗杆的侧边设置有蜗轮，所述蜗轮的内部贯穿设置有转动杆二，所述转动杆二的下端设置有毛刷。

优选的，所述转动杆一和转动杆二的另一端均通过轴承与存储桶转动连接。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、本实用新型通过设置了散热组件，该组件可以对供给装置进行散热降温，避免电气箱和控制泵长时间的使用产生的热量无法及时排出的问题，通过设置水冷散热组件，可以配合散热风扇进行双重降温，从而提升装置的散热效率。

2、本实用新型通过设置了搅拌组件，该组件可以在对研磨液搅拌的同时，通过蜗杆带动蜗轮转动，从而带动毛刷对存储桶底部的研磨液结晶体进行清洁，从而提升研磨液的搅拌效率。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型散热组件的结构示意图；

图3为本实用新型水冷散热组件的结构示意图；

图4为本实用新型搅拌组件的结构示意图；

图5为本实用新型蜗轮位置的结构示意图；

图中：1、外箱体；2、散热组件；21、电机一；22、转动辊二；23、散热风扇二；24、传送带；25、水冷散热组件；251、固定板；252、水箱；253、抽液管；254、水泵；255、进液管；256、回液管；257、冷凝管；26、散热风扇一；27、转动辊一；3、搅拌组件；31、转动杆一；32、存储桶；33、蜗轮；34、蜗杆；35、搅拌杆；36、电机二；37、毛刷；38、转动杆二。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

实施例1

请参阅图1-5，本实用新型提供以下技术方案：一种半导体研磨液供给装置，包括外箱体1，外箱体1的上端设置有散热组件2；散热组件2包括电机一21、转动辊二22、散热风扇二23、传送带24、水冷散热组件25、散热风扇一26和转动辊一27，其中，外箱体1的上端设置有电机一21，电机一21的下端设置有转动辊一27，转动辊一27的下端设置有散热风扇一26，转动辊一27的表面设置有传送带24，传送带24的另一端设置有转动辊二22，转动辊二22的下端设置有散热风扇二23，外箱体1的内部靠近散热风扇二23和散热风扇一26的位置设置有水冷散热组件25。

具体的，外箱体1的上端通过卡扣卡接的方式固定设置有防尘网，

通过采用上述技术方案，可以避免外界灰尘进入供给装置内部。

具体的，水冷散热组件25包括水箱252、抽液管253、水泵254、进液管 255、回液管256和冷凝管257，其中，外箱体1的侧边设置有水箱252，水箱 252的一端设置有抽液管253，抽液管253的另一端设置有水泵254，水泵254 的另一端设置有进液管255，进液管255的另一端设置有冷凝管257，冷凝管257 的另一端设置有回液管256，

通过采用上述技术方案，可以进一步提升装置的散热效率。

具体的，水箱252和水泵254的侧边设置有固定板251，固定板251通过螺栓与外箱体1固定连接，

通过采用上述技术方案，可以方便对水箱252和水泵254进行安装和拆卸。

本实施例在使用时，当需要对供给装置进行散热时，打开水泵254，水泵 254通过抽液管253将水箱252中的冷却液抽出，再经由进液管255流经冷凝管 257的内部，从而实现对供给装置的降温，最终冷却液经由回液管256流回水箱 252中，从而实现对冷却液的循环利用，再打开电机一21，电机一21带动转动辊一27转动，转动辊一27转动带动散热风扇一26转动，转动辊一27转动同时带动传送带24转动，传送带24转动带动转动辊二22转动，转动辊二22转动带动散热风扇二23转动，通过散热风扇一26、散热风扇二23和冷凝管257 的配合使用，从而加速对供给装置的降温工作；

实施例2

本实施例与实施例1的不同之处在于：外箱体1的内部设置有搅拌组件3；搅拌组件3包括转动杆一31、存储桶32、蜗轮33、蜗杆34、搅拌杆35、电机二36、毛刷37和转动杆二38，其中，外箱体1的内部设置有存储桶32，存储桶32的侧边设置有电机二36，电机二36的另一端设置有转动杆一31，转动杆一31的侧边设置有搅拌杆35，转动杆一31的中心位置表面设置有蜗杆34，蜗杆34的侧边设置有蜗轮33，蜗轮33的内部贯穿设置有转动杆二38，转动杆二38的下端设置有毛刷37，

通过采用上述技术方案，可以实现对研磨液的搅拌工作。

具体的，转动杆一31和转动杆二38的另一端均通过轴承与存储桶32转动连接，

通过采用上述技术方案，可以避免蜗轮33和蜗杆34齿轮啮合错位。

本实施例在使用时，打开电机二36，电机二36带动转动杆一31转动，转动杆一31转动带动搅拌杆35对存储桶32内部的研磨液进行搅拌，同时转动杆一31转动带动蜗杆34转动，蜗杆34转动带动蜗轮33转动，蜗轮33转动带动转动杆二38转动，转动杆二38转动带动毛刷37将存储桶32底部的研磨液晶体进行清理，从而提升搅拌组件3对研磨液的搅拌效率。

本实用新型的工作原理及使用流程：本实用新型在使用时，当需要对供给装置进行散热时，打开水泵254，水泵254通过抽液管253将水箱252中的冷却液抽出，再经由进液管255流经冷凝管257的内部，从而实现对供给装置的降温，最终冷却液经由回液管256流回水箱252中，从而实现对冷却液的循环利用，再打开电机一21，电机一21带动转动辊一27转动，转动辊一27转动带动散热风扇一26转动，转动辊一27转动同时带动传送带24转动，传送带24转动带动转动辊二22转动，转动辊二22转动带动散热风扇二23转动，通过散热风扇一26、散热风扇二23和冷凝管257的配合使用，从而加速对供给装置的降温工作；打开电机二36，电机二36带动转动杆一31转动，转动杆一31转动带动搅拌杆35对存储桶32内部的研磨液进行搅拌，同时转动杆一31转动带动蜗杆34转动，蜗杆34转动带动蜗轮33转动，蜗轮33转动带动转动杆二38转动，转动杆二38转动带动毛刷37将存储桶32底部的研磨液晶体进行清理，从而提升搅拌组件3对研磨液的搅拌效率。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (6)

1.一种半导体研磨液供给装置，包括外箱体(1)，其特征在于：所述外箱体(1)的上端设置有散热组件(2)；

所述散热组件(2)包括电机一(21)、转动辊二(22)、散热风扇二(23)、传送带(24)、水冷散热组件(25)、散热风扇一(26)和转动辊一(27)，其中，所述外箱体(1)的上端设置有电机一(21)，所述电机一(21)的下端设置有转动辊一(27)，所述转动辊一(27)的下端设置有散热风扇一(26)，所述转动辊一(27)的表面设置有传送带(24)，所述传送带(24)的另一端设置有转动辊二(22)，所述转动辊二(22)的下端设置有散热风扇二(23)，所述外箱体(1)的内部靠近散热风扇二(23)和散热风扇一(26)的位置设置有水冷散热组件(25)。

2.根据权利要求1所述的一种半导体研磨液供给装置，其特征在于：所述外箱体(1)的上端通过卡扣卡接的方式固定设置有防尘网。

3.根据权利要求1所述的一种半导体研磨液供给装置，其特征在于：所述水冷散热组件(25)包括水箱(252)、抽液管(253)、水泵(254)、进液管(255)、回液管(256)和冷凝管(257)，其中，所述外箱体(1)的侧边设置有水箱(252)，所述水箱(252)的一端设置有抽液管(253)，所述抽液管(253)的另一端设置有水泵(254)，所述水泵(254)的另一端设置有进液管(255)，所述进液管(255)的另一端设置有冷凝管(257)，所述冷凝管(257)的另一端设置有回液管(256)。

4.根据权利要求3所述的一种半导体研磨液供给装置，其特征在于：所述水箱(252)和水泵(254)的侧边设置有固定板(251)，所述固定板(251)通过螺栓与外箱体(1)固定连接。

5.根据权利要求1所述的一种半导体研磨液供给装置，其特征在于：所述外箱体(1)的内部设置有搅拌组件(3)；所述搅拌组件(3)包括转动杆一(31)、存储桶(32)、蜗轮(33)、蜗杆(34)、搅拌杆(35)、电机二(36)、毛刷(37)和转动杆二(38)，其中，所述外箱体(1)的内部设置有存储桶(32)，所述存储桶(32)的侧边设置有电机二(36)，所述电机二(36)的另一端设置有转动杆一(31)，所述转动杆一(31)的侧边设置有搅拌杆(35)，所述转动杆一(31)的中心位置表面设置有蜗杆(34)，所述蜗杆(34)的侧边设置有蜗轮(33)，所述蜗轮(33)的内部贯穿设置有转动杆二(38)，所述转动杆二(38)的下端设置有毛刷(37)。

6.根据权利要求5所述的一种半导体研磨液供给装置，其特征在于：所述转动杆一(31)和转动杆二(38)的另一端均通过轴承与存储桶(32)转动连接。

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