CN221288837U - 一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置 - Google Patents
一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置Info
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Abstract
本实用新型涉及一种清洗装置，属于碳化硅晶加工技术领域，具体是一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置，包括固定架，固定架的内侧壁靠近底端的位置固定安装有安装架，固定架的内部顶部壁面固定安装有调节气缸，还包括；驱动电机，定位架，内圈；连接架，喷水框，清洗海绵；安装板，放置板；本实用新型，将需要进行清洗的碳化硅晶片放置在放置板的顶部，通过驱动电机驱动内圈转动使多个放置板依次经过清洗剂上料装置、喷水框和烘干风机的底部，使清洗海绵能够对碳化硅晶片完成自动化清洗，提高清洗效率；解决了现有的清洗时间长，效率低的问题。
Description
技术领域
本实用新型涉及碳化硅晶加工技术领域，特别是一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置。
背景技术
碳化硅晶片的主要应用领域有LED固体照明和高频率器件，该材料具有高出传统硅数倍的禁带、漂移速度、击穿电压、热导率、耐高温等优良特性，在高温、高压、高频、大功率、光电、抗辐射、微波性等电子应用领域和航天、军工、核能等极端环境应用有着不可替代的优势，碳化硅晶片在加工时需要进行研磨，研磨之后晶片表面会残留大量的粉末和化学制剂，需要进行清洗，以便于后续的使用。
公开号为CN216504318U中国专利，公开的一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置，包括清洗箱，还包括移动抽出机构、冲洗机构和擦洗机构，所述移动抽出机构固定安装在清洗箱内部，所述移动抽出机构顶部固定安装有固定机构。
上述现有技术方案中，将碳化硅晶片放置在固定机构的顶部，然后通过移动抽出机构将固定机构移动至冲洗机构的底端，使冲洗机构对碳化硅晶片进行清洗，但是每次只能对单个碳化硅晶片进行清洗，清洗时间长，效率低。
实用新型内容
为了解决上述技术问题，本实用新型提出了一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置，将需要进行清洗的碳化硅晶片放置在放置板的顶部，通过驱动电机驱动内圈转动使多个放置板依次经过清洗剂上料装置、喷水框和烘干风机的底部，使清洗海绵能够对碳化硅晶片完成自动化清洗，提高清洗效率。
实现本实用新型目的的技术解决方案为：一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置，包括固定架，固定架的内侧壁靠近底端的位置固定安装有安装架，固定架的内部顶部壁面固定安装有调节气缸，还包括；
驱动电机，所述驱动电机固定安装在安装架的顶部壁面上，驱动电机的输出端固定安装有定位架，定位架的侧壁固定安装有内圈；
连接架，所述连接架固定安装在调节气缸的底部壁面上，连接架的侧壁靠近后端的位置固定安装有喷水框，喷水框的底部壁面连接有清洗海绵；
安装板，所述安装板共有多个，多个安装板等距固定安装在内圈的外侧壁上，安装板的顶部壁面通过轴承转动安装有放置板。
在某些实施例中，所述喷水框的前侧壁面固定安装有清洗剂上料装置和烘干风机。
在某些实施例中，所述放置板的顶部壁面固定安装有缓冲海绵。
在某些实施例中，所述固定架的内侧壁固定安装有套在放置板外部的外圈。
在某些实施例中，所述外圈的内侧壁和多个放置板的侧壁均圆周等距固定安装有多个联动齿，放置板上的联动齿和外圈内部的联动齿相互啮合。
在某些实施例中，所述清洗剂上料装置和烘干风机均与连接架固定连接。
本实用与现有技术相比，其显著优点是：
其一：本实用新型，将需要进行清洗的碳化硅晶片放置在放置板的顶部，通过驱动电机驱动内圈转动使多个放置板依次经过清洗剂上料装置、喷水框和烘干风机的底部，使清洗海绵能够对碳化硅晶片完成自动化清洗，提高清洗效率；解决了现有的清洗时间长，效率低的问题。
其二：本实用新型，因为放置板转动安装在安装板的顶部，当驱动电机的输出端带动安装板转动时，所以放置板上的联动齿和外圈上的联动齿相互啮合，会使放置板带动放置板顶部的碳化硅晶片一起自转，提高清洗海绵对碳化硅晶片的清理范围，提高了清理效果。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步解释：
图1是本实用新型碳化硅晶片研磨后的清洗装置主视图；
图2是本实用新型外圈主视图；
图3是本实用新型外圈剖视图；
图4是本实用新型喷水框仰视图。
附图标记说明：
1、固定架；2、安装架；3、外圈；4、内圈；5、定位架；6、驱动电机；7、喷水框；8、清洗剂上料装置；9、烘干风机；10、蓄水箱；11、调节气缸；12、连接架；13、安装板；14、放置板；15、缓冲海绵；16、清洗海绵；17、联动齿。
具体实施方式
下面对本实用新型进行详细说明，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型通过改进在此提供一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置，本实用新型的技术方案是：
如图1-图4所示，一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置，包括固定架1，固定架1的内侧壁靠近底端的位置固定安装有安装架2，固定架1的内部顶部壁面固定安装有调节气缸11，还包括驱动电机6，连接架12，安装板13；所述驱动电机6固定安装在安装架2的顶部壁面上，驱动电机6的输出端固定安装有定位架5，定位架5的侧壁固定安装有内圈4；内圈4和定位架5优先选择焊接在一起；所述连接架12固定安装在调节气缸11的底部壁面上，连接架12的侧壁靠近后端的位置固定安装有喷水框7，喷水框7的前侧壁面固定安装有清洗剂上料装置8和烘干风机9，清洗剂上料装置8和烘干风机9均与连接架12固定连接，喷水框7的底部壁面连接有清洗海绵16；清洗剂上料装置8的底部设置有控制清洗剂上料装置8开关的接近传感器，清洗海绵16优先选择魔术贴固定在喷水框7的底部壁面；所述安装板13至少有四个，四个安装板13等距固定安装在内圈4的外侧壁上，安装板13的顶部壁面通过轴承转动安装有放置板14；四个安装板13优先选择与内圈4一体成型；通过将需要进行清洗的碳化硅晶片放置在放置板14的顶部，通过调节气缸11调节连接架12的位置，使清洗海绵16能够与碳化硅晶片的侧壁贴合，通过利用驱动电机6输出端的转动，使碳化硅晶片向清洗剂上料装置8靠近，通过清洗剂上料装置8上的接近传感器将清洗剂洒在碳化硅晶片的顶部，随着内圈4的持续转动，碳化硅晶片与清洗海绵16的侧壁贴合，蓄水箱10内部的水将清洗海绵16浸湿，利用清洗海绵16和碳化硅晶片之间的摩擦，对碳化硅晶片进行清洗，通过喷水框7持续的出水，将碳化硅晶片上的清洗剂洗净，随后在内圈4的转动下处在烘干风机9的底部，使烘干风机9对碳化硅晶片进行烘干，烘干之后放置板14在驱动电机6输出端的转动下移动至放置碳化硅晶片的位置，此时将清洗过的碳化硅晶片取出，并再放置需要清洗的碳化硅晶片，全程自动化，且由于放置板14共有多个，所以可以同时对多个碳化硅晶片进行清理，提高了清洗效率。
如图1-图3所示，在一实施例中，为了保证碳化硅晶片的位置稳定，放置板14的顶部壁面固定安装有缓冲海绵15；缓冲海绵15优先选择卡接在放置板14的顶部壁面上；通过在放置板14的顶部壁面上设置缓冲海绵15，使放置板14对碳化硅晶片的底部进行保护，同时当碳化硅晶片与清洗海绵16接触时，清洗海绵16挤压碳化硅晶片，使碳化硅晶片陷入缓冲海绵15的内部，保证碳化硅晶片的位置稳定，避免碳化硅晶片掉落的情况发生。
如图1-图3所示，在一实施例中，为了提高清洗效果，固定架1的内侧壁固定安装有套在放置板14外部的外圈3，外圈3的内侧壁和多个放置板14的侧壁均圆周等距固定安装有多个联动齿17，放置板14上的联动齿17和外圈3内部的联动齿17相互啮合；因为放置板14转动安装在安装板13的顶部，当驱动电机6的输出端带动安装板13转动时，所以放置板14上的联动齿17和外圈3上的联动齿17相互啮合，会使放置板14带动放置板14顶部的碳化硅晶片一起自转，提高清洗海绵16对碳化硅晶片的清理范围，提高了清理效果。
具体的工作方法是：通过将需要进行清洗的碳化硅晶片放置在放置板14的顶部，通过调节气缸11调节连接架12的位置，使清洗海绵16能够与碳化硅晶片的侧壁贴合，通过利用驱动电机6输出端的转动，使碳化硅晶片向清洗剂上料装置8靠近，通过清洗剂上料装置8上的接近传感器将清洗剂洒在碳化硅晶片的顶部，随着内圈4的持续转动，碳化硅晶片与清洗海绵16的侧壁贴合，蓄水箱10内部的水将清洗海绵16浸湿，利用清洗海绵16和碳化硅晶片之间的摩擦，对碳化硅晶片进行清洗，通过喷水框7持续的出水，将碳化硅晶片上的清洗剂洗净，随后在内圈4的转动下处在烘干风机9的底部，使烘干风机9对碳化硅晶片进行烘干，烘干之后放置板14在驱动电机6输出端的转动下移动至放置碳化硅晶片的位置，此时将清洗过的碳化硅晶片取出，并在放置需要清洗的碳化硅晶片，全程自动化，且由于放置板14共有多个，所以可以同时对多个碳化硅晶片进行清理，提高了清洗效率。
本实用新型方案所公开的技术手段不仅限于上述技术手段所公开的技术手段，还包括由以上技术特征等同替换所组成的技术方案。本实用新型的未尽事宜，属于本领域技术人员的公知常识。
Claims (6)
1.一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置，包括固定架(1)，固定架(1)的内侧壁靠近底端的位置固定安装有安装架(2)，固定架(1)的内部顶部壁面固定安装有调节气缸(11)，其特征在于：还包括；
驱动电机(6)，所述驱动电机(6)固定安装在安装架(2)的顶部壁面上，驱动电机(6)的输出端固定安装有定位架(5)，定位架(5)的侧壁固定安装有内圈(4)；
连接架(12)，所述连接架(12)固定安装在调节气缸(11)的底部壁面上，连接架(12)的侧壁靠近后端的位置固定安装有喷水框(7)，喷水框(7)的底部壁面连接有清洗海绵(16)；
安装板(13)，所述安装板(13)共有多个，多个安装板(13)等距固定安装在内圈(4)的外侧壁上，安装板(13)的顶部壁面通过轴承转动安装有放置板(14)。
2.根据权利要求1所述的一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置，其特征在于：所述喷水框(7)的前侧壁面固定安装有清洗剂上料装置(8)和烘干风机(9)。
3.根据权利要求1所述的一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置，其特征在于：所述放置板(14)的顶部壁面固定安装有缓冲海绵(15)。
4.根据权利要求1所述的一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置，其特征在于：所述固定架(1)的内侧壁固定安装有套在放置板(14)外部的外圈(3)。
5.根据权利要求4所述的一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置，其特征在于：所述外圈(3)的内侧壁和多个放置板(14)的侧壁均圆周等距固定安装有多个联动齿(17)，放置板(14)上的联动齿(17)和外圈(3)内部的联动齿(17)相互啮合。
6.根据权利要求2所述的一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置，其特征在于：所述清洗剂上料装置(8)和烘干风机(9)均与连接架(12)固定连接。
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN221288837U true CN221288837U (zh) | 2024-07-09 |
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|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant |