CN216501116U - 一种新型基底表面清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种新型基底表面清洗装置，涉及半导体工艺技术领域，包括主体，所述主体的内部开设有清洗槽，且清洗槽的内侧顶部连接有转盘，所述转盘的底部安装有电动机，且转盘的顶部连接有滤筒，所述主体的上方安装有盖板，且盖板的两侧均连接有套板，凹槽，所述凹槽开设在盖板的一端两侧，且盖板的正面中部安装有限位板，所述凹槽的内部插接有基底放置框。本实用新型中，通过设置有电动伸缩杆、盖板及基底放置框的作用下，使得操作员在进行基底清洗工作时，通过启动电动伸缩杆，将基底放置框在主体的内部进行上、下运动工作，有利于提高装置安全性，避免在放置或取拿半导体基底时，手部触碰溶剂，影响身体健康。

Description

一种新型基底表面清洗装置

技术领域

本实用新型涉及半导体工艺技术领域，尤其涉及一种新型基底表面清洗装置。

背景技术

半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料，半导体在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明、大功率电源转换等领域都有应用，半导体器件的集成度越来越高，对基底表面的清洗要求也越来也越高。

现有的半导体基底一般是在容器内，使用较强腐蚀性和氧化性溶剂，如H2SO4、H2O2、DHF等溶剂，对基底表面的杂质粒子进行清洗工作，半导体基底完成清洗工作后，需要操作员手动将放置框从容器中取出，极容易导致操作员的手部触碰到化学溶剂，影响操作员的身体健康。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有的半导体基底一般是在容器内，使用较强腐蚀性和氧化性溶剂，如H2SO4、H2O2、DHF等溶剂，对基底表面的杂质粒子进行清洗工作，半导体基底完成清洗工作后，需要操作员手动将放置框从容器中取出，极容易导致操作员的手部触碰到化学溶剂，影响操作员的身体健康的缺点，而提出的一种新型基底表面清洗装置。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种新型基底表面清洗装置，包括：

主体，所述主体的内部开设有清洗槽，且清洗槽的内侧顶部连接有转盘，所述转盘的底部安装有电动机，且转盘的顶部连接有滤筒，所述主体的上方安装有盖板，且盖板的两侧均连接有套板；

凹槽，所述凹槽开设在盖板的一端两侧，且盖板的正面中部安装有限位板，所述凹槽的内部插接有基底放置框，且基底放置框的侧面安装有横杆，所述横杆的两端均连接有阻尼旋转块，且横杆的外壁安装有延长板；

放置槽，所述放置槽开设在主体的外壁两侧，且放置槽的内部安装有电动伸缩杆，所述电动伸缩杆的外部与套板的内部相连接，且套板的顶部两侧均安装有照明灯，所述照明灯的顶部与盖板的底部相连接，所述主体的外部一侧开设有出液口。

优选的，所述转盘通过电动机与主体构成旋转结构，且转盘的外部设置有保护套。

优选的，所述滤筒通过螺栓与转盘构成可拆卸结构，且滤筒的直径大于基底放置框的直径。

优选的，所述基底放置框通过凹槽与盖板构成活动结构，且基底放置框的顶部设置有两组L型板。

优选的，所述盖板通过电动伸缩杆与主体构成升降结构，且盖板的宽度大于主体的宽度。

优选的，所述延长板通过焊接与横杆构成一体化结构，且横杆与基底放置框之间为活动连接。

综上所述，由于采用了上述技术方案，本实用新型的有益效果是：

1、本实用新型中，通过设置有电动伸缩杆、盖板及基底放置框的作用下，使得操作员在进行基底清洗工作时，通过启动电动伸缩杆，将基底放置框在主体的内部进行上、下运动工作，有利于提高装置安全性，避免在放置或取拿半导体基底时，手部触碰溶剂，影响身体健康。

2、本实用新型中，通过设置有横杆、延长板及阻尼旋转块的作用下，使得操作员根据需要清洗的半导体基底的数量，转动基底放置框两侧的横杆及延长板，选择将半导体基底竖直或横向插入基底放置框的内部，有利于提高装置的实用性，减少溶剂的浪费。

附图说明

图1为本实用新型中整体内部结构示意图；

图2为本实用新型中侧面结构示意图；

图3为本实用新型中基地放置框的侧面结构示意图。

图例说明：

1、主体；2、电动机；3、转盘；4、滤筒；5、清洗槽；6、基底放置框；7、盖板；8、凹槽；9、限位板；10、放置槽；11、电动伸缩杆；12、套板；13、照明灯；14、阻尼旋转块；15、横杆；16、延长板；17、出液口。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。

参照图1-3，一种新型基底表面清洗装置，包括主体1，主体1的内部开设有清洗槽5，且清洗槽5的内侧顶部连接有转盘3，转盘3通过电动机2与主体1构成旋转结构，且转盘3的外部设置有保护套，通过电动机2带动转盘3旋转，使得转盘3上的滤筒4在清洗槽5内进行高速旋转工作，搅动清洗槽5内的溶剂，提高半导体基底的清洗工作效率，转盘3的底部安装有电动机2，且转盘3的顶部连接有滤筒4，滤筒4通过螺栓与转盘3构成可拆卸结构，且滤筒4的直径大于基底放置框6的直径，当完成半导体基底的清洗工作后，通过拧松滤筒4内部的螺栓，将滤筒4与转盘3拆分，从清洗槽5内单独取出滤筒4，对滤筒4内部的杂质统一进行清理工作，主体1的上方安装有盖板7，且盖板7的两侧均连接有套板12，盖板7通过电动伸缩杆11与主体1构成升降结构，且盖板7的宽度大于主体1的宽度，通过启动电动伸缩杆11的作用，带动盖板7及基底放置框6，在清洗槽5内进行上、下运动工作，有利于提高半导体基底浸入及取出溶剂内的速度；

凹槽8，凹槽8开设在盖板7的一端两侧，且盖板7的正面中部安装有限位板9，凹槽8的内部插接有基底放置框6，且基底放置框6的侧面安装有横杆15，基底放置框6通过凹槽8与盖板7构成活动结构，且基底放置框6的顶部设置有两组L型板，当完成半导体基底的清洗工作后，将基底放置框6与盖板7分离，便于快速将基底放置框6与主体1进行拆分，提高基底的取出工作效率，横杆15的两端均连接有阻尼旋转块14，且横杆15的外壁安装有延长板16，延长板16通过焊接与横杆15构成一体化结构，且横杆15与基底放置框6之间为活动连接，通过设置有横杆15及延长板16的作用，便于操作员根据需要清洗的半导体基底的数量，通过阻尼旋转块14，转动横杆15及延长板16，若数量多，则通过转动基底放置框6两侧的横杆15，使得横杆15上的延长板16向上收起，便于操作员将半导体基底，竖直插入基底放置框6内，若数量较少，则将延长板16转至与基底放置框6呈平行，将半导体基底横向放入基底放置框6内，有利于提高装置的实用性；

放置槽10，放置槽10开设在主体1的外壁两侧，且放置槽10的内部安装有电动伸缩杆11，便于通过机械运动，将基底放置框6从溶剂中移出，进行溶剂液体的沥干工作，电动伸缩杆11的外部与套板12的内部相连接，且套板12的顶部两侧均安装有照明灯13，便于照射在基底的表面，方便操作员观察基底表面的杂质是否清理干净，照明灯13的顶部与盖板7的底部相连接，主体1的外部一侧开设有出液口17，便于将溶剂从主体1内部先行流出。

工作原理：使用时，首先通过操作员根据需要清洗的半导体基底的数量，转动基底放置框6两侧的横杆15及延长板16，选择将半导体基底竖直或横向插入基底放置框6的内部，然后，通过基底放置框6顶部的L型板，插入盖板7的凹槽8内，并且，转动限位板9，提高基底放置框6的稳定性，再次，将较强腐蚀性和氧化性溶剂倒入清洗槽5内，通过电动伸缩杆11，带动半导体基底向下运动，浸入溶剂中进行表面清洗操作，并且，通过启动电动机2，带动滤筒4在溶剂中进行旋转工作，搅动溶剂高速旋转，提高基底表面的清洁效率，同时，通过盖板7上的照明灯13，观察基底表面的污垢是否脱离基底板面，最后，当完成半导体基底的清洗工作后，通过出液口17，将清洗槽5内的溶剂流出，而后，将沥干溶剂液体的基底放置框6从盖板7移出，并且，拧松滤筒4内的螺栓，将滤筒4从清洗槽5内移出，对内部清洗出得杂质，进行处理工作。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种新型基底表面清洗装置，其特征在于，包括：

主体(1)，所述主体(1)的内部开设有清洗槽(5)，且清洗槽(5)的内侧顶部连接有转盘(3)，所述转盘(3)的底部安装有电动机(2)，且转盘(3)的顶部连接有滤筒(4)，所述主体(1)的上方安装有盖板(7)，且盖板(7)的两侧均连接有套板(12)；

凹槽(8)，所述凹槽(8)开设在盖板(7)的一端两侧，且盖板(7)的正面中部安装有限位板(9)，所述凹槽(8)的内部插接有基底放置框(6)，且基底放置框(6)的侧面安装有横杆(15)，所述横杆(15)的两端均连接有阻尼旋转块(14)，且横杆(15)的外壁安装有延长板(16)；

放置槽(10)，所述放置槽(10)开设在主体(1)的外壁两侧，且放置槽(10)的内部安装有电动伸缩杆(11)，所述电动伸缩杆(11)的外部与套板(12)的内部相连接，且套板(12)的顶部两侧均安装有照明灯(13)，所述照明灯(13)的顶部与盖板(7)的底部相连接，所述主体(1)的外部一侧开设有出液口(17)。

2.根据权利要求1所述的一种新型基底表面清洗装置，其特征在于：所述转盘(3)通过电动机(2)与主体(1)构成旋转结构，且转盘(3)的外部设置有保护套。

3.根据权利要求1所述的一种新型基底表面清洗装置，其特征在于：所述滤筒(4)通过螺栓与转盘(3)构成可拆卸结构，且滤筒(4)的直径大于基底放置框(6)的直径。

4.根据权利要求1所述的一种新型基底表面清洗装置，其特征在于：所述基底放置框(6)通过凹槽(8)与盖板(7)构成活动结构，且基底放置框(6)的顶部设置有两组L型板。

5.根据权利要求1所述的一种新型基底表面清洗装置，其特征在于：所述盖板(7)通过电动伸缩杆(11)与主体(1)构成升降结构，且盖板(7)的宽度大于主体(1)的宽度。

6.根据权利要求1所述的一种新型基底表面清洗装置，其特征在于：所述延长板(16)通过焊接与横杆(15)构成一体化结构，且横杆(15)与基底放置框(6)之间为活动连接。

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