CN208240627U - 一种半导体圆晶清洗装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种半导体圆晶清洗装置，包括清洗箱，所述清洗箱内中间放置有半导体圆晶，所述半导体圆晶下方设置有滚轮，所述清洗箱内底部一端固定连接第一电机，所述清洗箱内底部另一端固定连接出液口，所述第一电机动力输出端通过皮带与靠近第一电机的滚轮转动连接，所述半导体圆晶两侧设置有清洗棒，所述清洗棒一端固定连接第二电机，所述清洗棒另一端通过齿轮转动连接，所述半导体圆晶两侧上方固定连接进液管，所述进液管下方固定连接喷头。本实用新型使得半导体圆晶能更加全面充分的清洗，提高了清洗质量和清洗效率，降低了成本。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体制造技术领域，具体为一种半导体圆晶清洗装置。
背景技术
现在的圆晶制造过程中，圆晶表面会附着各种有机化合物、金属杂质和微粒等，而圆晶表面的清洁度是影响半导体器件可靠性的重要因素之一，如果不对其清洗会大大降低半导体器件的性能和合格率，所以在半导体器件制造过程中，有20％的步骤为对圆晶的清洗，去除依附于圆晶表面上的有机化合物、金属杂质和微粒等污染物，提高半导体器件的性能和合格率。现有的很多清洗装置的清洗质量不高，清洗效率底下，增大成本。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种半导体圆晶清洗装置，以解决上述背景技术中提出的清洗质量不高，效率低的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种半导体圆晶清洗装置，包括清洗箱，所述清洗箱内中间放置有半导体圆晶，所述半导体圆晶下方设置有滚轮，所述清洗箱内底部一端固定连接第一电机，所述清洗箱内底部另一端固定连接出液口，所述第一电机动力输出端通过皮带与靠近第一电机的滚轮转动连接，所述半导体圆晶两侧设置有清洗棒，所述清洗棒一端固定连接第二电机，所述清洗棒另一端通过齿轮转动连接，所述半导体圆晶两侧上方固定连接进液管，所述进液管下方固定连接喷头。
优选的，所述滚轮设置有三个，所述滚轮中间内凹，三个所述滚轮呈品字形分布。
优选的，所述清洗棒外侧设置有毛刷。
优选的，所述进液管外接清洗液。
优选的，所述喷头设置有三个。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
1、该半导体圆晶清洗装置，通过设置三个滚轮，可将半导体圆晶托起固定，通过第一电机带动滚轮使半导体圆晶转动，使得半导体圆晶能更加全面充分的清洗，提高清洗效率。
2、该半导体圆晶清洗装置，通过设置两个清洗棒相向旋转洗刷，提高了清洗质量和清洗效率，降低了成本。
3、该半导体圆晶清洗装置，通过两侧设置三个喷头喷出清洗液，使清洗液与半导体圆晶接触更全面，提高半导体圆晶的清洗效率。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图；
图2为本实用新型结构侧视图。
图中：1清洗箱、2半导体圆晶、3滚轮、4第一电机、5出液口、6清洗棒、7第二电机、8齿轮、9进液管、10喷头。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
本实用的描述中，需要说明的是，术语“竖直”、“上”、“下”、“水平”等指示的方位或者位置关系为基于附图所示的方位或者位置关系，仅是为了便于描述本实用和简化描述，而不是指示或者暗示所指的装置或者元件必须具有特定的方位，以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用的限制。此外，“第一”、“第二”、“第三”、“第四”仅用于描述目的，而不能理解为指示或者暗示相对重要性。
本实用的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限制，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接，可以是机械连接，也可以是电连接，可以是直接连接，也可以是通过中间媒介相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用中的具体含义。
请参阅图1-2，本实用新型提供一种技术方案：一种半导体圆晶清洗装置，包括清洗箱1，所述清洗箱1内中间放置有半导体圆晶2，所述半导体圆晶2下方设置有滚轮3，所述滚轮3设置有三个，所述滚轮3中间内凹，三个所述滚轮3呈品字形分布，所述清洗箱1内底部一端固定连接第一电机4，所述滚轮3，可将半导体圆晶2托起固定，通过第一电机4带动滚轮使半导体圆晶2转动，使得半导体圆晶2能更加全面充分的清洗，提高清洗效率,所述清洗箱1内底部另一端固定连接出液口5，所述第一电机4动力输出端通过皮带与靠近第一电机4的滚轮3转动连接，所述半导体圆晶2两侧设置有清洗棒6，所述清洗棒6外侧设置有毛刷，所述两个清洗棒6相向旋转洗刷，提高了清洗质量和清洗效率，降低了成本，所述清洗棒6一端固定连接第二电机7，所述清洗棒6另一端通过齿轮8转动连接，所述半导体圆晶2两侧上方固定连接进液管9，所述进液管9外接清洗液，所述进液管9下方固定连接喷头10，所述喷头10设置有三个，所述两侧设置三个喷头10喷出清洗液，使清洗液与半导体圆晶接触更全面，提高半导体圆晶的清洗效率。
工作原理：在使用时，将半导体圆晶2放入清洗箱1内的三个滚轮3上，启动第一电机4和第二电机7，喷头10喷出清洗液带半导体圆晶2上，第一电机4带动滚轮3转动，滚轮3带动半导体圆晶2转动，第二电机7带动清洗棒6转动，通过两个齿轮8使得两个清洗棒6相向转动对半导体圆晶进行清洗。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (5)
1.一种半导体圆晶清洗装置，包括清洗箱(1)，其特征在于：所述清洗箱(1)内中间放置有半导体圆晶(2)，所述半导体圆晶(2)下方设置有滚轮(3)，所述清洗箱(1)内底部一端固定连接第一电机(4)，所述清洗箱(1)内底部另一端固定连接出液口(5)，所述第一电机(4)动力输出端通过皮带与靠近第一电机(4)的滚轮(3)转动连接，所述半导体圆晶(2)两侧设置有清洗棒(6)，所述清洗棒(6)一端固定连接第二电机(7)，所述清洗棒(6)另一端通过齿轮(8)转动连接，所述半导体圆晶(2)两侧上方固定连接进液管(9)，所述进液管(9)下方固定连接喷头(10)。
2.根据权利要求1所述的一种半导体圆晶清洗装置，其特征在于：所述滚轮(3)设置有三个，所述滚轮(3)中间内凹，三个所述滚轮(3)呈品字形分布。
3.根据权利要求1所述的一种半导体圆晶清洗装置，其特征在于：所述清洗棒(6)外侧设置有毛刷。
4.根据权利要求1所述的一种半导体圆晶清洗装置，其特征在于：所述进液管(9)外接清洗液。
5.根据权利要求1所述的一种半导体圆晶清洗装置，其特征在于：所述喷头(10)设置有三个。
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| CN201820783245.XU CN208240627U (zh) | 2018-05-24 | 2018-05-24 | 一种半导体圆晶清洗装置 |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110369390A (zh) * | 2019-07-05 | 2019-10-25 | 上海提牛机电设备有限公司 | 一种陶瓷盘360度旋装置 |
| CN113035742A (zh) * | 2021-02-10 | 2021-06-25 | 江苏亚电科技有限公司 | 一种半导体制造用晶圆清洗回收装置 |
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2018
- 2018-05-24 CN CN201820783245.XU patent/CN208240627U/zh active Active
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