CN216495117U - 清洁装置的抹布机构及具有其的清洁装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型具体涉及一种清洁装置的抹布机构及具有其的清洁装置。本实用新型旨在解决现有清洁装置无法根据具体的清洁环境有效控制抹布升降的技术问题。为此目的，本实用新型提供了一种清洁装置的抹布机构，抹布机构包括：驱动轴，驱动轴上下滑动地设置于清洁装置的底部；抹布组件，抹布组件设置于驱动轴的底端；与清洁装置的控制器电连接的驱动装置，驱动装置的枢转轴设置有齿轮，齿轮通过齿条与驱动轴连接，控制器控制驱动装置通过齿轮和齿条驱动驱动轴和抹布组件升降。本实用新型提供的抹布机构能够通过驱动装置和齿轮齿条机构控制抹布组件的升降，使清洁装置能够根据具体的清洁环境有效控制抹布的升降，减少带水的抹布组件打湿地毯的现象。

Description

清洁装置的抹布机构及具有其的清洁装置

技术领域

本实用新型涉及清洁设备技术领域，具体涉及一种清洁装置的抹布机构及具有其的清洁装置。

背景技术

本部分提供的仅仅是与本公开相关的背景信息，其并不必然是现有技术。

为了更好地满足家庭的清洁需求，拖地机器人等清洁装置逐渐走进人们的家庭。目前，拖地机器人大都采用圆盘式旋转抹布，圆盘式旋转抹布对地板和瓷砖的清洁效果比较好。但是，带水的抹布会打湿地毯，这就造成拖地机对地毯区域的清洁效果较差，或者在用户不知情的情况下出现拖地机打湿地毯的现象，需要用户对地毯进行二次清理，降低了用户的使用体验。或者在清洁装置遇到地毯时只能绕着走，或者需要用户手动取下托地盘后再将清洁装置放在地毯，极大地降低了用户的使用体验。

实用新型内容

本实用新型旨在至少在一定程度上解决现有清洁装置无法根据具体的清洁环境有效控制抹布升降的技术问题。

为了实现上述目的，本实用新型的第一方面提供了一种清洁装置的抹布机构，抹布机构包括：驱动轴，驱动轴上下滑动地设置于清洁装置的底部；抹布组件，抹布组件设置于驱动轴的底端；与清洁装置的控制器电连接的驱动装置，驱动装置的枢转轴设置有齿轮，齿轮通过齿条与驱动轴连接，控制器控制驱动装置通过齿轮和齿条驱动驱动轴和抹布组件升降。

本实用新型提供的抹布机构能够通过驱动装置和齿轮齿条机构控制抹布组件的升降，使清洁装置能够根据具体的清洁环境有效控制抹布的升降，减少带水的抹布组件打湿地毯的现象。

具体地，齿轮和齿条机构将驱动装置的枢转运动转化为直线运动，以此来驱动抹布组件上升或者下降，当驱动装置通过枢转轴和齿轮驱动齿条上升时，抹布组件上升并与待清洁面分离，当驱动装置通过枢转轴和齿轮驱动齿条下降时，抹布组件下降并与待清洁面接触，以此达到控制抹布组件与待清洁面接触或分离的目的。

另外，根据本实用新型上述清洁装置的抹布机构还可以具有如下附加的技术特征：

根据本实用新型的一个实施例，驱动轴的顶端设置有抬升片，齿条的顶面设置为与抬升片的底面配合的倾斜抬升面，齿条在移动过程中通过倾斜抬升面与抬升片的配合驱动驱动轴升降。

根据本实用新型的一个实施例，齿条的一个侧面设置成与齿轮配合的啮合齿，齿条上与啮合齿相对的另一个侧面设置成齿条移动方向一致的导向结构。

根据本实用新型的一个实施例，导向结构包括靠近齿条的另一个侧面设置的导向槽板，齿条的另一个侧面设置有与导向槽板配合的导轨。

根据本实用新型的一个实施例，导向槽板延伸至抬升片的下方，且抬升片与导向槽板之间形成滑动间隙，齿条设置于滑动间隙并分别与导向槽板和抬升片接触。

根据本实用新型的一个实施例，抹布机构还包括设置于清洁装置的底部的齿轮箱，驱动轴设置于齿轮箱并能够沿齿轮箱上下滑动。

根据本实用新型的一个实施例，驱动轴位于齿轮箱内部的轴段套设有弹性元件，弹性元件与齿轮箱连接，弹性元件能够与驱动装置配合驱动驱动轴升降，且驱动轴能够通过弹性元件上下浮动。

根据本实用新型的一个实施例，抹布组件包括转动盘和设置于转动盘的底部的抹布，抹布组件通过转动盘设置于驱动轴的底端，齿轮箱通过驱动轴驱动抹布组件转动。

根据本实用新型的一个实施例，抹布机构还包括设置于清洁装置的底部的底板，底板设置有与驱动轴配合的升降口，驱动轴的底端的抹布组件在升降口处伸出底板的外部。

本实用新型的第二方面还提供了一种清洁装置，清洁装置包括根据本实用新型的第一方面的清洁装置的抹布机构，清洁装置根据所处的待清洁面的类型控制抹布组件的升降。

附图说明

通过阅读下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本实用新型的限制。而且在整个附图中，用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中：

图1为本实用新型一个实施例的清洁装置的结构示意图；

图2为图1所示清洁装置拆除上盖后的结构示意图；

图3为图2所示清洁装置的局部结构示意图；

图4为本实用新型一个实施例的抹布机构的结构示意图。

其中，附图标记如下：

1000、清洁装置；

100、抹布机构；

10、抹布组件；11、转动盘；12、抹布；

20、驱动轴；21、螺母；22、抬升片；23、轴承；231、轴承槽；24、弹性元件；

30、驱动装置；31、电机；32、齿轮；33、齿条；34、导向槽板；35、齿轮箱；351、轴套；

200、机体；210、底板；211、升降口；220、驱动电机。

具体实施方式

下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施方式。虽然附图中显示了本公开的示例性实施方式，然而应当理解，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施方式所限制。相反，提供这些实施方式是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。需要说明的是，本实用新型通过可转动的抹布组件对清洁装置以及抹布机构进行阐述只是本实用新型的优选实施例，并不是对本实用新型清洁装置和抹布机构保护范围的限制，例如，本实用新型的抹布组件还可以为不可转动的结构或者可沿待清洁面移动的结构，这种调整属于本实用新型清洁装置以及抹布机构的保护范围。

应理解的是，文中使用的术语仅出于描述特定示例实施方式的目的，而无意于进行限制。除非上下文另外明确地指出，否则如文中使用的单数形式“一”、“一个”以及“所述”也可以表示包括复数形式。术语“包括”、“包含”以及“具有”是包含性的，并且因此指明所陈述的特征、元件和/或部件的存在，但并不排除存在或者添加一个或多个其它特征、元件、部件、和/或它们的组合。

在本实用新型的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体式连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域技术人员而言，可根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

为了便于描述，可以在文中使用空间相对关系术语来描述如图中示出的一个元件或者特征相对于另一元件或者特征的关系，这些相对关系术语例如为“外”、“内”、“顶部”、“底部”、“端”、“侧”、“上”等。这种空间相对关系术语意于包括除图中描绘的方位之外的在使用或者操作中机构的不同方位。例如，如果在图中的机构翻转，那么描述为“在其它元件或者特征下面”或者“在其它元件或者特征下方”的元件将随后定向为“在其它元件或者特征上面”或者“在其它元件或者特征上方”。因此，示例术语“在……下方”可以包括在上和在下的方位。机构可以另外定向(旋转90度或者在其它方向)并且文中使用的空间相对关系描述符相应地进行解释。

如图1至图4所示，根据本申请的实施例，本申请的第一方面提供了一种清洁装置1000的抹布机构100，清洁装置1000可以为拖动机、拖动机机器人或者洗拖一体机，为了方便对清洁装置1000以及抹布机构100进行阐述，本申请通过拖地机器人以及拖地机器人的抹布机构100进行阐述，抹布机构100包括抹布组件10、驱动轴20和驱动装置30，驱动轴20上下滑动地设置于清洁装置1000的底部，抹布组件10设置于驱动轴20的底端，驱动装置30与清洁装置1000的控制器电连接，驱动装置30的枢转轴设置有齿轮32，齿轮32通过齿条33与驱动轴20连接，控制器控制驱动装置30通过齿轮32和齿条33驱动驱动轴20和抹布组件10升降。

本实用新型提供的清洁装置的抹布机构100能够通过驱动装置30、齿轮32和齿条33控制抹布组件10的升降，从而使清洁装置能够根据具体的清洁环境有效控制抹布组件10的升降，可以减少带水的抹布组件10打湿地毯的现象，而且通过此抹布机构100可自动地升降抹布组件10，有效地提高了扫地机器人等清洁装置1000的适用性，减少用户的人为干预，解放了用户的双手，提高了用户的使用体验。

具体地，如图3和图4所示，驱动装置30包括电机31，电机31的枢转轴上设置有齿轮32，齿轮32通过齿条33驱动驱动轴20，齿轮齿条机构将电机31的枢转运动转化为直线运动，以此来驱动抹布组件10上升或者下降，当电机31通过枢转轴和齿轮32驱动齿条33上升时，抹布组件10上升并与待清洁面分离，当电机31通过枢转轴和齿轮32驱动齿条33下降时，抹布组件10下降并与待清洁面接触，以此达到控制抹布组件10与待清洁面接触或分离的目的。

根据本申请的实施例，在清洁装置1000的清洁过程中，如果检测到清洁装置1000底部的待清洁面为地板面或者瓷砖地面，清洁装置1000能够通过驱动装置30驱动抹布组件10下降并与待清洁面接触，清洁装置1000能够通过抹布组件10清洁地板面或者瓷砖地面上的灰尘等杂质；如果检测到清洁装置1000底部的待清洁面为地毯时，清洁装置1000能够通过驱动装置30驱动抹布组件10上升并与待清洁面分离，此时，清洁装置1000仅依靠底部的毛刷等清洁部件清理地毯上附着的灰尘和毛发等杂质，以此减少抹布组件10打湿或者损坏地毯的现象。

另外，本申请的实施例并未对齿条33与驱动轴20之间的连接关系和连接结构进行限定，是因为可以在综合考虑清洁装置的内部空间、驱动方向顺畅性以及受力均衡的基础上，合理布置齿条33与驱动轴20之间的相对位置关系。例如，齿条33可以沿驱动轴20的轴向方向设置于驱动轴20上，通过齿条33的直线运动直接带动驱动轴20沿轴向升降，还可以将齿条33设置为与驱动轴20的轴向垂直，在齿条33移动的过程中，通过齿条33上的倾斜推面驱动驱动轴20沿轴向做升降运动，这些结构均能达到控制驱动轴20沿轴向升降的目的，且均属于本申请实施例的保护范围。

如图3和图4所示，具体地，根据本实用新型的一个实施例，驱动轴20的顶端设置有抬升片22以及对抬升片22进行限位的螺母21，齿条33的顶面设置为与抬升片22的底面配合的倾斜抬升面，齿条33在移动过程中通过倾斜抬升面与抬升片22的配合驱动驱动轴20升降。

在本实施例中，当驱动轴20和抹布组件10处于初始状态时，抬升片22搭在齿条33的倾斜抬升面的低位，当电机驱动齿条33运动时，倾斜抬升面的高位逐渐运动至抬升片22的下方，倾斜抬升面的高位将抬升片22抬起的同时驱动轴20上升，驱动轴20提升的同时带动抹布组件10上升至脱离待清洁面的位置。

具体地，为了提高齿条33与抬升片22之间相互作用的稳定可靠性，本申请的实施例还提出了将齿条33的端部设置有与驱动轴20配合的U形槽，U形槽的两侧分叉分别位于驱动轴20的两侧，且两侧分叉的顶部均设置有倾斜抬升面，通过两侧分叉的两个倾斜抬升面作用于抬升片22，可以增加齿条33与抬升片22的接触面积，使齿条33与抬升片22之间受力均衡，减少应力集中的现象。

为了进一步提高齿条33与抬升片22之间相互作用的稳定可靠性，还可以将抬升片22的底部设置为与齿条33的倾斜抬升面配合的倾斜面，且抬升片22底部的倾斜面的倾斜度与倾斜抬升面的倾斜度相同，从而在齿条33推动抬升片22的过程中提高两者相对运动的顺畅性，减少两者之间出现卡阻现象。

如图3和图4所示，根据本实用新型的一个实施例，齿条33的一个侧面设置成与齿轮32配合的啮合齿，齿条33上与啮合齿相对的另一个侧面设置成齿条33移动方向一致的导向结构。

在本实施例中，通过将啮合齿设置于齿条33的侧面，相对于将啮合齿设置于齿条33的顶部而言，能够减少对齿条33的整体长度的要求，因为将啮合齿设置于齿条33的顶部需要避开顶部的倾斜抬升面，因此会增加齿条33的整体长度。

另外，为了减少齿条33在运动过程中出现偏移现象，在齿条33的另一个侧面设置成齿条33移动方向一致的导向结构，导向结构与齿轮32在齿条33运动过程中对齿条33进行两侧限位和导向，以此减少齿条33在运动过程中出现偏移现象，导向结构可以设置为导向柱或者导向槽板34，当导向结构设置为导向柱时，齿条33设置有与导向柱配合导向孔。

如图3和图4所示，根据本实用新型的一个实施例，当导向结构设置为导向槽板34时，齿条33设置有与导向槽板34配合的导轨。

在本实施例中，导向槽板34不仅能够对齿条33起到左右限位的作用，还能对齿条33起到上下限位的作用，以此减少齿条33在运动的过程中可能出现的跳动现象，导轨设置于齿条33的另一个侧面，且导轨与齿条33之间设置有阻挡条，通过阻挡条的阻挡来减少导轨在导向槽板34的导向槽内部出现偏移现象。进一步地，导向槽板34或者导轨设置有滚珠，以此达到导向槽板34与导轨之间的滚动摩擦，以此减小导轨与导向槽板34之间的摩擦阻力。

如图3和图4所示，进一步地，当导向结构设置为导向槽板34时，根据本实用新型的一个实施例，导向槽板34延伸至抬升片22的下方，且抬升片22与导向槽板34之间形成滑动间隙，齿条33设置于滑动间隙并分别与导向槽板34与抬升片22接触。

在本实施例中，导向槽板34延伸至抬升片22的下方并对齿条33起到支撑作用，且齿条33在导向槽板34的顶部滑动，如果齿条33在滑动的过程中出现磨损，直接更换导向槽板34和齿条33即可，方便维护和更换，降低了使用成本。

如图3和图4所示，根据本实用新型的一个实施例，抹布机构100还包括设置于清洁装置1000的底部的齿轮箱35，驱动轴20设置于齿轮箱35并沿齿轮箱35上下滑动。

在本实施例中，抹布组件10包括转动盘11、设置于转动盘11的底部的抹布12以及驱动转动盘11的齿轮箱35，齿轮箱35与驱动电机220驱动连接，在清洁装置的工作过程中，驱动电机220通过齿轮箱35驱动转动盘11和抹布12转动，同时，清洁装置1000的水箱向抹布组件10供水，抹布组件10对待清洁面进行清洁。

进一步地，齿轮箱35的箱壳设置有轴承槽231和设置于轴承槽231的轴承23，轴承槽231能够对驱动轴20进行导向，可以减少驱动装置30驱动驱动轴20和抹布组件10的过程中驱动轴20和抹布组件10出现偏斜现象，以此提高驱动装置30驱动驱动轴20和抹布组件10过程中抹布组件10的平稳性。

进一步地，驱动轴20与齿轮箱35间隙配合且两者之间设置有润滑油，以此降低驱动轴20与齿轮箱35之间的摩擦阻力，提高驱动轴20与齿轮箱35之间的滑动顺畅性。进一步地，轴承槽231内的轴承23还可以设置为套设至驱动轴的直线轴承，以此提高驱动轴20与齿轮箱35之间的滑动顺畅性，降低驱动轴20与齿轮箱35之间的摩擦阻力。

如图3和图4所示，根据本实用新型的一个实施例，驱动轴20位于齿轮箱35内部的轴段套设有弹性元件24，弹性元件24与齿轮箱35连接，弹性元件24能够与驱动装置30配合驱动驱动轴20升降，且驱动轴20能够通过弹性元件24上下浮动。

在本实施例中，当需要将抹布组件10下降至与待清洁面接触时，控制器控制驱动装置30驱动齿条33使齿条33的倾斜抬升面的低位位于抬升片22的下方，此时，抹布组件10能够通过弹性元件24的弹性力驱动下降至初始位置与待清洁面接触，以此解决抹布组件10通过自身重力下降缓慢或者下降过程容易出现卡阻的技术问题。

具体地，弹性元件11可以为套设至驱动轴20的弹簧，弹簧可以设置为连接驱动轴20与齿轮箱35的顶部之间，当抹布组件10处于与待清洁面接触初始状态时，弹簧处于自然状态，或者处于轻微压缩状态，从而使抹布组件10能够紧贴待清洁面，并能够通过弹簧具备上下浮动能力，在待清洁面上设置有障碍物的情况下，抹布组件10通过弹簧向上升方向回弹来越过障碍物，以此提高抹布机构100的避障能力。

如图3和图4所示，根据本实用新型的一个实施例，抹布机构100还包括设置于清洁装置1000的底部的底板210，底板210设置有与驱动轴20配合的升降口211，驱动轴20的底端的抹布组件10在升降口处伸出底板210的外部。

在本实施例中，抹布组件10能够在升降口211处下降至初始位置与地板等待清洁面接触，还能够在升降口211处上升至底板210的上方与地毯等待清洁面分离。具体地，转动盘10和抹布11在升降的过程中，既可以一直位于底板210下方的位置，还可以设置有上升位置通过升降口211升至底板210的上方，下降位置通过升降口211升至底板210的下方。为了减小升降口211的尺寸，本申请的实施例提出了转动盘10和抹布11在升降的过程中一直位于底板210下方的位置，并将升降口211设置为与驱动轴20配合，以此减小外部杂质进入齿轮箱35内磨损齿轮的现象。

如图3和图4所示，根据本实用新型的一个实施例，齿轮箱35设置有伸出升降口211外并与升降口211密封配合的轴套351，驱动轴20贯穿轴套351连接齿轮箱35与转动盘11，驱动轴20的端部设置有与转动盘11连接的磁性连接头，齿轮箱35通过驱动轴20驱动转动盘11和抹布12在清洁装置1000的工作过程中旋转，以此达到清理待清洁面的目的，为了减少驱动轴20在升降口211处出现磨损现象，本申请的实施例提出了在驱动轴20外套设有与升降口211配合的轴套351，通过轴套351对驱动轴20起到保护作用。进一步地，为了减少待清洁面上的灰尘等杂质通过升降口211进入齿轮箱35内磨损齿轮的现象，本申请的实施例还提出了在升降口211设置有密封件，通过密封件密封轴套351与升降口211之间的缝隙。

需要说明的是，上述实施例只是通过一个抹布组件10阐述抹布机构100的结构、工作原理和技术效果，但是，并不是对抹布机构100中抹布组件10的数量限制，例如，根据本申请的其他实施例，还可以将抹布机构100设置为包括多个抹布组件10，抹布机构包括与多个抹布组件10一一对应的多个驱动装置30，底板210设置有与多个抹布组件10一一配合的多个升降口211，清洁装置1000的控制器能够通过驱动装置30驱动多个抹布组件10同时升降，以此提高抹布机构100的使用体验，这种结构上的调整属于本申请实施例的保护范围。

本实用新型的第二方面还提供了一种清洁装置1000，清洁装置1000包括根据本实用新型的第一方面的清洁装置1000的抹布机构100，抹布机构100设置于机体200的底部，清洁装置1000根据所处的待清洁面的类型控制抹布机构100的升降。

在本实施例中，本实用新型提供的清洁装置1000清洁过程中，如果检测到清洁装置1000底部的待清洁面为地板面或者瓷砖地面，清洁装置1000能够通过驱动装置30驱动抹布组件10下降至与待清洁面接触，清洁装置1000能够通过抹布组件10清洁地板面或者瓷砖地面上的灰尘等；如果检测到清洁装置1000底部的待清洁面为地毯时，清洁装置1000能够通过驱动装置30驱动抹布组件10上升至与待清洁面分离，清洁装置1000能够依靠底部的毛刷等清洁部件清理地毯上附着的灰尘和毛发等杂质，以此减少抹布组件10打湿或者损坏地毯的现象。

具体地，抹布机构100或者清洁装置1000设置有与控制器电连接的检测传感器，检测传感器可选为超声波传感器，在清洁装置1000的过程中，检测传感器向待清洁面发射超声波信号并接收待清洁面反射的超声波信号，控制器对反射的超声波信号进行分析来确定待清洁面的类型，当待清洁面为地板时，清洁装置1000控制抹布组件10下降至与待清洁面接触，同时，驱动电机220驱动转盘11和抹布12转动，清洁装置1000的水箱向抹布组件10供水，抹布组件10对待清洁面进行清洁；当待清洁面为地毯时，清洁装置1000控制抹布组件10上升至与待清洁面分离，同时，驱动电机220停止驱动转盘11和抹布12转动，清洁装置1000的水箱与抹布组件10之间的控制阀断开，水箱停止向抹布组件10供水，抹布组件10处于待工状态。

需要说明的是，本实施例只是对清洁装置1000上与本申请的改进点有关的结构进行了阐述，并不代表清洁装置1000不具备其他结构，例如，本申请实施例中的清洁装置1000还包括设置于清洁装置1000的底部的滚轮和毛刷，以及根据待清洁面的类型控制滚轮和毛刷的工作模式，以及控制清洁装置1000及时避开毛毯等待清洁面移动，以及罩设驱动装置30的上盖，上盖能够对驱动装置30起到防护作用，减少清洁装置1000内的部件与驱动装置30发生干涉现象，以及减少灰尘等杂质落入至驱动装置30磨损驱动装置30的现象。这些结构和实施方式均属于本申请的保护范围，在此不再进行详细赘述。

以上，仅为本申请较佳的具体实施方式，但本申请的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本申请的保护范围之内。因此，本申请的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种清洁装置的抹布机构，其特征在于，所述抹布机构包括：

驱动轴，所述驱动轴上下滑动地设置于所述清洁装置的底部；

抹布组件，所述抹布组件设置于所述驱动轴的底端；

与所述清洁装置的控制器电连接的驱动装置，所述驱动装置的枢转轴设置有齿轮，所述齿轮通过齿条与所述驱动轴连接，所述控制器控制所述驱动装置通过所述齿轮和所述齿条驱动所述驱动轴和所述抹布组件升降。

2.根据权利要求1所述的清洁装置的抹布机构，其特征在于，所述驱动轴的顶端设置有抬升片，所述齿条的顶面设置为与所述抬升片的底面配合的倾斜抬升面，所述齿条在移动过程中通过所述倾斜抬升面与所述抬升片的配合驱动所述驱动轴升降。

3.根据权利要求2所述的清洁装置的抹布机构，其特征在于，所述齿条的一个侧面设置成与所述齿轮配合的啮合齿，所述齿条上与所述啮合齿相对的另一个侧面设置成所述齿条移动方向一致的导向结构。

4.根据权利要求3所述的清洁装置的抹布机构，其特征在于，所述导向结构包括靠近所述齿条的所述另一个侧面设置的导向槽板，所述齿条的所述另一个侧面设置有与所述导向槽板配合的导轨。

5.根据权利要求4所述的清洁装置的抹布机构，其特征在于，所述导向槽板延伸至所述抬升片的下方，且所述抬升片与所述导向槽板之间形成滑动间隙，所述齿条设置于所述滑动间隙并分别与所述导向槽板和所述抬升片接触。

6.根据权利要求1所述的清洁装置的抹布机构，其特征在于，所述抹布机构还包括设置于所述清洁装置的底部的齿轮箱，所述驱动轴设置于所述齿轮箱并能够沿所述齿轮箱上下滑动。

7.根据权利要求6所述的清洁装置的抹布机构，其特征在于，所述驱动轴位于所述齿轮箱内部的轴段套设有弹性元件，所述弹性元件与所述齿轮箱连接，所述弹性元件能够与所述驱动装置配合驱动所述驱动轴升降，且所述驱动轴能够通过所述弹性元件上下浮动。

8.根据权利要求6所述的清洁装置的抹布机构，其特征在于，所述抹布组件包括转动盘和设置于所述转动盘的底部的抹布，所述抹布组件通过所述转动盘设置于所述驱动轴的底端，所述齿轮箱通过所述驱动轴驱动所述抹布组件转动。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的清洁装置的抹布机构，其特征在于，所述抹布机构还包括设置于所述清洁装置的底部的底板，所述底板设置有与所述驱动轴配合的升降口，所述驱动轴的底端的所述抹布组件在所述升降口处伸出所述底板的外部。

10.一种清洁装置，其特征在于，所述清洁装置包括根据权利要求1至9中任一项所述的清洁装置的抹布机构，所述清洁装置根据所处的待清洁面的类型控制所述抹布组件的升降。

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