CN216454824U - 清洁装置的抹布机构及具有其的清洁装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型具体涉及一种清洁装置的抹布机构及具有其的清洁装置。本实用新型旨在解决现有清洁装置无法根据具体的清洁环境有效控制抹布升降的技术问题。为此目的，本实用新型提供了一种清洁装置的抹布机构，抹布机构包括：导轨，导轨沿竖向设置于清洁装置的底部；抹布组件，抹布组件可上下滑动地设置于导轨；与清洁装置的控制器电连接的直线驱动装置，直线驱动装置的输出端的顶部设置有斜坡，抹布组件的底部设置有与斜坡配合的滚轮，控制器通过直线驱动装置驱动斜坡相对滚轮移动的方式控制抹布组件沿导轨升降。本实用新型提供的抹布机构能够通过直线驱动装置的输出端的斜坡与抹布组件的滚轮配合来控制抹布组件的升降，提高抹布升降过程中的顺畅性。

Description

清洁装置的抹布机构及具有其的清洁装置

技术领域

本实用新型涉及清洁设备技术领域，具体涉及一种清洁装置的抹布机构及具有其的清洁装置。

背景技术

本部分提供的仅仅是与本公开相关的背景信息，其并不必然是现有技术。

为了更好地满足家庭的清洁需求，拖地机器人等清洁装置逐渐走进人们的家庭。目前，拖地机器人大都采用圆盘式旋转抹布，圆盘式旋转抹布对地板和瓷砖的清洁效果比较好。但是，带水的抹布会打湿地毯，这就造成拖地机器人对地毯区域的清洁效果较差，或者在用户不知情的情况下出现拖地机器人打湿地毯的现象，需要用户对地毯进行二次清理，降低了用户的使用体验。

实用新型内容

本实用新型旨在至少在一定程度上解决现有清洁装置无法根据具体的清洁环境有效控制抹布升降的技术问题。

为了实现上述目的，本实用新型的第一方面提供了一种清洁装置的抹布机构，抹布机构包括：导轨，导轨沿竖向设置于清洁装置的底部；抹布组件，抹布组件上下滑动地设置于导轨；与清洁装置的控制器电连接的直线驱动装置，直线驱动装置的输出端的顶部设置有斜坡，抹布组件的底部设置有与斜坡配合的滚轮，控制器通过直线驱动装置驱动斜坡相对滚轮移动的方式控制抹布组件沿导轨升降。

本实用新型提供的清洁装置的抹布机构能够通过直线驱动装置的输出端的斜坡与抹布组件的滚轮配合来控制抹布组件的升降，不仅可以使清洁装置能够根据具体的清洁环境有效控制抹布的升降，减少带水的抹布组件打湿地毯的现象，还可以通过斜坡与滚轮的配合提高抹布组件的升降顺滑性，减少抹布组件的升降过程中出现卡阻现象。

具体地，在斜坡与滚轮的相对运动过程中，当斜坡运动至斜坡的高位与滚轮接触时，可以达到推动滚轮以及抹布组件上升的目的，当斜坡运动至斜坡的低位与滚轮接触时，滚轮以及抹布组件能够回落至初始的下降位置，另外，通过斜坡与滚轮的配合，可以在直线驱动装置与抹布组件之间形成滚动摩擦，以此减小滚轮和抹布组件在上升过程中的摩擦阻力。

另外，根据本实用新型上述清洁装置的抹布机构还可以具有如下附加的技术特征：

根据本实用新型的一个实施例，直线驱动装置包括电机、齿轮和齿条，齿轮设置于电机的枢转轴，齿条的侧壁与齿轮啮合，斜坡设置于齿条的顶部。

根据本实用新型的一个实施例，斜坡的底部和顶部均设置有放置台，且斜坡与放置台之间设置有弧形过渡角。

根据本实用新型的一个实施例，抹布组件包括转动盘、设置于转动盘的底部的抹布以及驱动转动盘的驱动装置，滚轮设置于驱动装置的底部。

根据本实用新型的一个实施例，抹布机构还包括设置于清洁装置的底部的底板，底板设置有与抹布组件配合的升降口，转动盘和抹布在升降口处伸出底板的外部。

根据本实用新型的一个实施例，底板设置有与齿条的底部接触的滑轮，电机驱动齿条沿滑轮滑动。

根据本实用新型的一个实施例，底板上设置有沿升降口的周向分布的多个导轨，抹布组件的周边设置有与多个导轨一一配合的多个滑轨。

根据本实用新型的一个实施例，导轨套设有与滑轨连接的弹性元件，弹性元件与直线驱动装置配合驱动滑轨沿导轨升降，且滑轨能够通过弹性元件沿导轨上下浮动。

根据本实用新型的一个实施例，抹布机构包括多个抹布组件，抹布机构还包括与多个抹布组件一一配合的多个直线驱动装置。

本实用新型的第二方面还提供了一种清洁装置，清洁装置包括根据本实用新型的第一方面的清洁装置的抹布机构，清洁装置根据所处的待清洁面的类型控制抹布组件的升降。

附图说明

通过阅读下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本实用新型的限制。而且在整个附图中，用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中：

图1为本实用新型一个实施例的抹布机构的局部结构示意图；

图2为图1所示抹布机构的局部侧视图；

图3为图1所示抹布机构的俯视图；

图4为图1所示抹布机构中抹布组件的仰视图。

其中，附图标记如下：

100、抹布机构；

10、导轨；11、弹性元件；

20、抹布组件；21、驱动电机；22、齿轮箱；23、滚轮；24、支撑板；25、驱动轴；26、滑轨；

30、直线驱动装置；31、齿条；32、齿条；33、滑块；331、斜坡；332、放置台；

40、底板；41、滑轮。

具体实施方式

下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施方式。虽然附图中显示了本公开的示例性实施方式，然而应当理解，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施方式所限制。相反，提供这些实施方式是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。需要说明的是，本实用新型通过可转动的抹布组件对清洁装置以及抹布机构进行阐述只是本实用新型的优选实施例，并不是对本实用新型清洁装置和抹布机构保护范围的限制，例如，本实用新型的抹布组件还可以为不可转动的结构或者可沿待清洁面移动的结构，这种调整属于本实用新型清洁装置以及抹布机构的保护范围。

应理解的是，文中使用的术语仅出于描述特定示例实施方式的目的，而无意于进行限制。除非上下文另外明确地指出，否则如文中使用的单数形式“一”、“一个”以及“所述”也可以表示包括复数形式。术语“包括”、“包含”以及“具有”是包含性的，并且因此指明所陈述的特征、元件和/或部件的存在，但并不排除存在或者添加一个或多个其它特征、元件、部件、和/或它们的组合。

在本实用新型的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体式连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域技术人员而言，可根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

为了便于描述，可以在文中使用空间相对关系术语来描述如图中示出的一个元件或者特征相对于另一元件或者特征的关系，这些相对关系术语例如为“外”、“内”、“顶部”、“底部”、“端”、“侧”、“上”等。这种空间相对关系术语意于包括除图中描绘的方位之外的在使用或者操作中机构的不同方位。例如，如果在图中的机构翻转，那么描述为“在其它元件或者特征下面”或者“在其它元件或者特征下方”的元件将随后定向为“在其它元件或者特征上面”或者“在其它元件或者特征上方”。因此，示例术语“在……下方”可以包括在上和在下的方位。机构可以另外定向(旋转90度或者在其它方向)并且文中使用的空间相对关系描述符相应地进行解释。

如图1至图4所示，根据本申请的实施例，本申请的第一方面提供了一种清洁装置的抹布机构100，清洁装置可以为拖地机、拖地机器人或者拖洗一体机，为了方便对清洁装置以及抹布机构100进行阐述，本申请通过拖地机器人以及拖地机器人的抹布机构100进行阐述，抹布机构100包括导轨10、抹布组件20和直线驱动装置30，导轨10沿竖向设置于清洁装置的底部，抹布组件20可上下滑动地设置于导轨10，直线驱动装置30的输出端的顶部设置有斜坡331，抹布组件20的底部设置有与斜坡331配合的滚轮23，控制器通过直线驱动装置30驱动斜坡331相对滚轮23移动的方式控制抹布组件20沿导轨10升降。

本实用新型提供的清洁装置的抹布机构100能够通过直线驱动装置30的输出端的斜坡331与抹布组件20的滚轮23配合来控制抹布组件20的升降，不仅可以使清洁装置能够根据具体的清洁环境有效控制抹布组件20的升降，减少带水的抹布组件20打湿地毯的现象，还可以通过斜坡331与滚轮23的配合提高抹布组件20的升降顺滑性，减少抹布组件20在升降过程中出现卡阻现象。

具体地，在斜坡331与滚轮23的相对运动过程中，当斜坡331运动至斜坡331的高位与滚轮23接触时，可以达到推动滚轮23以及抹布组件20上升的目的，当斜坡331运动至斜坡331的低位与滚轮23接触时，滚轮23以及抹布组件20能够回落至初始的下降位置，另外，通过斜坡331与滚轮23的配合，可以在直线驱动装置30与抹布组件20之间形成滚动摩擦，以此减小滚轮23和抹布组件20在上升过程中的摩擦阻力。

根据本申请的实施例，在清洁装置的清洁过程中，如果检测到清洁装置底部的待清洁面为地板面或者瓷砖地面，清洁装置能够通过直线驱动装置30驱动斜坡331运动至斜坡331的低位与抹布组件20的滚轮23接触，从而使抹布组件20能够下降回落至与待清洁面接触，清洁装置能够通过抹布组件20清洁地板面或者瓷砖地面上的灰尘等杂质；如果检测到清洁装置底部的待清洁面为地毯时，清洁装置能够通过直线驱动装置30驱动斜坡331运动至斜坡331的高位与滚轮23接触，通过斜坡331的高位推动滚轮23以及抹布组件20上升至与待清洁面分离，此时，清洁装置仅依靠底部的毛刷等清洁部件清理地毯上附着的灰尘和毛发等杂质，以此减少抹布组件20打湿或者损坏地毯的现象。

进一步地，如图2所示，本申请的实施例提出了通过导轨10对抹布组件20进行导向，可以减少直线驱动装置30驱动抹布组件20的过程中抹布组件20出现偏沉或者一侧翘起的现象，以此提高直线驱动装置30驱动抹布组件20过程中抹布组件20的平稳性。

需要说明的是，本申请的实施例并未对直线驱动装置30的具体结构进行限定，是因为直线驱动装置30可以设置为气压驱动装置、液压驱动装置、蜡马达或者电机与传动机构组合而成的组合机构，下面通过具体的实施例阐述直线驱动装置30以及直线驱动装置30与抹布组件20之间的相对运动关系。

如图1所示，根据本实用新型的一个实施例，直线驱动装置30包括电机(图中未示出)、齿轮31和齿条32，齿轮31设置于电机的枢转轴，齿条32的侧壁与齿轮31啮合，斜坡331设置于齿条32的顶部。

在本实施例中，电机的枢转轴上设置有齿轮31，齿轮31通过齿条32驱动与齿条32一体成型的滑块33做直线往复运动，从而使滑块33顶部的斜坡331的高位或者低位与抹布组件20的滚轮23对应，齿轮齿条机构将电机的枢转运动转化为滑块33和斜坡331的直线运动，通过斜坡331的直线运动来驱动滚轮23以及抹布组件10的升降。具体地，直线驱动装置30驱动斜坡331运动至斜坡331的高位与滚轮23接触，通过斜坡331的高位推动滚轮23以及抹布组件20上升至与待清洁面分离，直线驱动装置30驱动斜坡331运动至斜坡331的高位与滚轮23分离，抹布组件20能够在导轨10上利用自身重力或者弹性元件(下面进行详细阐述)的弹性力下降至与待清洁面接触的初始位置。

如图1所示，根据本实用新型的一个实施例，斜坡331的底部和顶部均设置有放置台332，且斜坡331与放置台332之间设置有弧形过渡角。

在本实施例中，放置台332的台面形成大致水平的支撑面，用于支撑滚轮23和抹布组件20，斜坡331的底部和顶部的放置台332分别对应抹布组件20的两种状态：当抹布组件20处于下降状态并与待清洁面接触时，抹布组件20的滚轮23位于斜坡331底部的放置台332，以此提高抹布组件20的工作稳定性，减少抹布组件20在工作过程中出现晃动现象；当抹布组件20处于上升状态并与待清洁面分离时，抹布组件20的滚轮23位于斜坡331顶部的放置台332，以此提高抹布组件20的稳定性，减少抹布组件20出现晃动现象。

根据本实用新型的一个实施例，抹布组件20包括转动盘、设置于转动盘的底部的抹布以及驱动转动盘的驱动装置，滚轮23设置于驱动装置的底部。

在本实施例中，驱动装置包括驱动电机21和齿轮箱22和驱动轴25，驱动电机21的枢转轴与齿轮箱22连接，齿轮箱22的齿轮系与驱动轴25连接，驱动轴25的底端设置有与转动盘连接的磁性连接头，在清洁装置的工作过程中，驱动电机21通过齿轮箱22驱动转动盘和抹布转动，同时，清洁装置的水箱向抹布组件供水，抹布组件20对待清洁面进行清洁。

本申请的实施例通过将转动盘、抹布、齿轮箱22、驱动电机21、驱动轴25以及线路板等组件模块化，并将齿轮箱22和驱动电机21设置于支撑板24上，然后通过直线驱动装置30的斜坡331作用于支撑板24底部的滚轮23达到驱动整个抹布组件20升降的目的，不仅结构简单可靠，还节省了清洁装置的内部空间。

如图1和图4所示，根据本实用新型的一个实施例，驱动装置的底部设置有相对驱动装置的质心对称分布的多个滚轮23，斜坡331的宽度方向沿多个滚轮23的分布方向延伸。

在本实施例中，通过将多个滚轮23设置为相对驱动装置的质心对称分布，可以减少直线驱动装置30通过滚轮23驱动抹布组件20的过程中抹布组件20出现偏沉或者一侧翘起的现象，以此提高直线驱动装置30驱动抹布组件20过程中抹布组件20的平稳性。

如图2和图3所示，根据本实用新型的一个实施例，抹布机构100还包括设置于清洁装置的底部的底板40，底板40设置有与抹布组件20配合的升降口，转动盘和抹布在升降口处伸出底板40的外部，导轨10竖直设置于升降口的周边。

在本实施例中，抹布组件20能够在升降口处下降至初始位置与地板等待清洁面接触，还能够在升降口处上升至底板40的上方与地毯等待清洁面分离。具体地，转动盘和抹布在升降的过程中，既可以一直位于底板40下方的位置，还可以设置有上升位置并通过升降口升至底板40的上方，下降位置则通过升降口升至底板40的下方。为了减小升降口的尺寸，本申请的实施例提出了转动盘和抹布在升降的过程中一直位于底板40下方的位置，并将升降口设置为与驱动轴25配合，以此减小外部杂质进入齿轮箱22内磨损齿轮的现象。

进一步地，将导轨10设置于升降口的周边，可以减少导轨10占用抹布组件20的升降空间，导轨10可以设置为凹型槽板，抹布组件20设置有与凹型槽板配合的凸型滑轨，凹型槽板与凸型滑轨间隙配合且两者之间设置有润滑油，导轨10还可以设置为导向柱，抹布组件20设置有套设至导向柱并与导向柱配合的滑管，滑管与导向柱间隙配合且两者之间设置有润滑油，以此降低抹布组件20与导轨10之间的摩擦阻力，提高抹布组件20与滑轨26之间的滑动顺畅性。进一步地，抹布组件20还可以通过直线轴承套设至导向柱，以此提高抹布组件20的滑轨26与导轨10之间的滑动顺畅性，降低抹布组件20与导轨10之间的摩擦阻力。

为了进一步提高齿条32的滑动顺畅性，本申请的实施例还提出了在底板40上设置有与齿条32的底部接触的滑轮41，直线驱动装置30驱动齿条32沿滑轮41滑动，通过滑轮41使齿条32与底板40之间形成滚动摩擦，减少两者之间的摩擦阻力。进一步地，齿条32上与啮合齿相对的另一侧面设置有导向槽，底板40上设置有与导向槽配合的导向轨，通过导向槽与导向轨的配合减少齿条32在滑动的过程中出现偏移现象。

如图2和图3所示，根据本实用新型的一个实施例，底板40上设置有沿升降口的周向分布的多个导轨10，抹布组件20的周边设置有与多个导轨10一一配合的多个滑轨26。

在本实施例中，通过在抹布组件20上设置有与多个导轨10配合的多个滑轨26，可以使抹布组件20的周边多处均承受导向力，以此提高抹布组件20的升降平稳性，减少抹布组件20在升降过程中出现向一侧发生偏移的现象。进一步地，为了减少多个导轨10与多个滑轨26之间出现过定位的现象，将对应的导轨10与滑轨26之间设置为间隙配合，或者将导轨10和/或滑轨26设置为可调节的结构。

如图2和图3所示，根据本实用新型的一个实施例，导轨10还套设有与滑轨26连接的弹性元件11，弹性元件11与直线驱动装置30配合驱动滑轨26沿导轨10升降，且滑轨26能够通过弹性元件11沿导轨10上下浮动。

在本实施例中，当需要将抹布组件20下降至与待清洁面接触时，控制器控制直线驱动装置30驱动斜坡331使斜坡331的高位与滚轮23分离，此时，抹布组件20能够通过弹性元件11的弹性力驱动下降至初始位置与待清洁面接触，以此减少抹布组件20通过自身重力下降缓慢或者下降过程容易出现卡阻的现象。

具体地，以导轨10设置为导向柱，滑轨26设置为滑管为例，弹性元件11可以为套设至导向柱的弹簧，弹簧可以设置为连接滑管与导向柱的顶部之间，当抹布组件20处于与待清洁面接触初始状态时，弹簧处于自然状态，或者在斜坡331的支撑力下处于轻微压缩状态，从而使抹布组件20能够紧贴待清洁面，并能够通过弹簧具备上下浮动能力，在待清洁面上设置有障碍物的情况下，抹布组件20通过弹簧向上升方向回弹来越过障碍物，以此提高抹布机构100的避障能力。

进一步地，将弹簧设置为连接滑管与导向柱的顶部之间只是本申请的优选实施例，并不是对弹簧的放置位置的限制，例如，根据本申请的实施例，还可以将弹簧设置为连接滑管与导向柱的底部之间，当抹布组件20处于与待清洁面分离的上升状态时，弹簧处于拉伸状态，当斜坡331的高位与滚轮23分离后，抹布组件20能够在弹簧的拉力作用下与待清洁面接触来清理待清洁面。

进一步地，为了减少驱动轴25在升降口处出现磨损现象，本申请的实施例提出了在驱动轴25外套设有与升降口配合的轴套，通过轴套对驱动轴25起到保护作用，为了减少待清洁面上的灰尘等杂质通过升降口进入齿轮箱22内磨损齿轮的现象，本申请的实施例还提出了在升降口设置有密封件，通过密封件密封轴套与升降口之间的缝隙。

根据本实用新型的一个实施例，抹布机构100还包括罩设抹布组件20和导轨10的盖体，盖体的内部设置成容纳抹布组件20和导轨10的容纳室。盖体能够对抹布组件20和导轨10起到防护作用，减少清洁装置内的部件与抹布组件20和导轨10发生干涉现象，以及减少灰尘等杂质落入至导轨10磨损导轨10的现象。

需要说明的是，上述实施例只是通过一个抹布组件20阐述抹布机构100的结构、工作原理和技术效果，但是，并不是对抹布机构100中抹布组件20的数量限制，例如，根据本申请的其他实施例，还可以将抹布机构100设置为包括多个抹布组件20，抹布机构100包括与多个抹布组件20一一配合的多个直线驱动装置30，底板40设置有与多个抹布组件20一一配合的多个升降口，清洁装置的控制器能够通过多个直线驱动装置30驱动多个抹布组件20同时升降，以此提高抹布机构100的使用体验，这种结构上的调整属于本申请实施例的保护范围。

本实用新型的第二方面还提供了一种清洁装置，清洁装置包括根据本实用新型的第一方面的清洁装置的抹布机构100，清洁装置根据所处的待清洁面的类型控制抹布机构100的升降。

在本实施例中，本实用新型提供的清洁装置清洁过程中，如果检测到清洁装置底部的待清洁面为地板面或者瓷砖地面，清洁装置能够通过直线驱动装置30驱动抹布组件20下降至与待清洁面接触，清洁装置能够通过抹布组件20清洁地板面或者瓷砖地面上的灰尘等；如果检测到清洁装置底部的待清洁面为地毯时，清洁装置能够通过直线驱动装置30驱动抹布组件20上升至与待清洁面分离，清洁装置能够依靠底部的毛刷等清洁部件清理地毯上附着的灰尘和毛发等杂质，以此减少抹布组件20打湿或者损坏地毯的现象。

具体地，抹布机构100或者清洁装置设置有与控制器电连接的检测传感器，检测传感器可选为超声波传感器，在清洁装置的过程中，检测传感器向待清洁面发射超声波信号并接收待清洁面反射的超声波信号，控制器对反射的超声波信号进行分析来确定待清洁面的类型，当待清洁面为底板40时，清洁装置控制抹布组件20下降至与待清洁面接触，同时，驱动电机21驱动转动盘和抹布转动，清洁装置的水箱向抹布组件20供水，抹布组件20对待清洁面进行清洁；当待清洁面为地毯时，清洁装置控制抹布组件20上升至与待清洁面分离，同时，驱动电机21停止驱动转动盘和抹布转动，清洁装置的水箱与抹布组件20之间的控制阀断开，水箱停止向抹布组件20供水，抹布组件20处于待工状态。

需要说明的是，本实施例只是对清洁装置上与本申请的改进点有关的结构进行了阐述，并不代表清洁装置不具备其他结构，例如，本申请实施例中的清洁装置还包括设置于清洁装置的底部的滚轮和毛刷，以及根据待清洁面的类型控制滚轮和毛刷的工作模式，以及控制清洁装置及时避开毛毯等待清洁面移动，这些结构和实施方式均属于本申请的保护范围，在此不再进行详细赘述。

以上，仅为本申请较佳的具体实施方式，但本申请的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本申请的保护范围之内。因此，本申请的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种清洁装置的抹布机构，其特征在于，所述抹布机构包括：

导轨，所述导轨沿竖向设置于所述清洁装置的底部；

抹布组件，所述抹布组件可上下滑动地设置于所述导轨；

与所述清洁装置的控制器电连接的直线驱动装置，所述直线驱动装置的输出端的顶部设置有斜坡，所述抹布组件的底部设置有与所述斜坡配合的滚轮，所述控制器通过所述直线驱动装置驱动所述斜坡相对所述滚轮移动的方式控制所述抹布组件沿所述导轨升降。

2.根据权利要求1所述的清洁装置的抹布机构，其特征在于，所述直线驱动装置包括电机、齿轮和齿条，所述齿轮设置于所述电机的枢转轴，所述齿条的侧壁与所述齿轮啮合，所述斜坡设置于所述齿条的顶部。

3.根据权利要求1所述的清洁装置的抹布机构，其特征在于，所述斜坡的底部和顶部均设置有放置台，且所述斜坡与所述放置台之间设置有弧形过渡角。

4.根据权利要求2所述的清洁装置的抹布机构，其特征在于，所述抹布组件包括转动盘、设置于所述转动盘的底部的抹布以及驱动所述转动盘的驱动装置，所述滚轮设置于所述驱动装置的底部。

5.根据权利要求4所述的清洁装置的抹布机构，其特征在于，所述抹布机构还包括设置于所述清洁装置的底部的底板，所述底板设置有与所述抹布组件配合的升降口，所述转动盘和所述抹布在所述升降口处伸出所述底板的外部。

6.根据权利要求5所述的清洁装置的抹布机构，其特征在于，所述底板设置有与所述齿条的底部接触的滑轮，所述电机驱动所述齿条沿所述滑轮滑动。

7.根据权利要求5所述的清洁装置的抹布机构，其特征在于，所述底板上设置有沿所述升降口的周向分布的多个所述导轨，所述抹布组件的周边设置有与多个所述导轨一一配合的多个滑轨。

8.根据权利要求7所述的清洁装置的抹布机构，其特征在于，所述导轨套设有与所述滑轨连接的弹性元件，所述弹性元件与所述直线驱动装置配合驱动所述滑轨沿所述导轨升降，且所述滑轨能够通过所述弹性元件沿所述导轨上下浮动。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的清洁装置的抹布机构，其特征在于，所述抹布机构包括多个所述抹布组件，所述抹布机构还包括与多个所述抹布组件一一配合的多个所述直线驱动装置。

10.一种清洁装置，其特征在于，所述清洁装置包括根据权利要求1至9中任一项所述的清洁装置的抹布机构，所述清洁装置根据所处的待清洁面的类型控制所述抹布组件的升降。

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