CN216179541U - 一种二相流抛光设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种二相流抛光设备，包括支撑架、抛光盆组件、纵向升降机构、横向移动机构及磁吸盘旋转机构，所述磁吸盘旋转机构包括电机及磁吸盘，所述磁吸盘通过限位件连接在所述电机上，所述纵向升降机构包括若干动力元件、底板以及电机固定座，所述电机通过所述限位件连接在所述电机固定座上，所述磁吸盘旋转机构可通过纵向升降机构实现上升及下降，所述横向移动机构可带动所述纵向升降机构及所述磁吸盘旋转机构横向移动。抛光盆内加入抛光针和抛光液，将受抛光物体置于可调节大小的容纳仓内，在磁吸盘旋转机构作用下，抛光针随磁场变化在受打磨物体表面不规则运动，从而实现对物体的高效率抛光。

Description

一种二相流抛光设备

技术领域

本实用新型涉及抛光设备领域，尤其是涉及一种二相流抛光设备。

背景技术

现有的抛光设备，如专利公告号为CN106625161B的中国专利公开了一种打磨抛光装置及打磨抛光的方法，包括支撑部；打磨抛光部，用于对工件进行打磨抛光，打磨抛光部可活动地设置于支撑部上，打磨抛光部可根据其受到的工件的作用力而调整与支撑部的相对位置，以使打磨抛光部接触工件进行打磨抛光。该装置没有设置下料机构，因此需要人工手动不断的将产品放置在该设备中，然后启动装置进行打磨抛光，整个下料的工作过程需要人工手动操作，花费时间较多，效率低下。

二相流是指两项物质所组成的流动系统。

发明内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供一种二相流抛光设备，能够尽可能解决抛光效率低下的问题。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种二相流抛光设备，包括支撑架、抛光盆组件、纵向升降机构、横向移动机构及磁吸盘旋转机构，所述磁吸盘旋转机构包括电机及磁吸盘，所述磁吸盘通过限位件连接在所述电机上，所述纵向升降机构包括若干动力元件、底板以及电机固定座，所述电机通过所述限位件连接在所述电机固定座上。

上述技术方案中，进一步地，所述动力元件通过所述限位件连接在所述底板上，所述动力元件输出部位连接所述电机固定座，所述动力元件周围设置若干定位组件，所述定位组件包括导轨及滑动部件，所述活动部件与所述底板固定，所述活动部件与所述导轨滑动连接，所述磁吸盘旋转机构可通过纵向升降机构实现上升及下降，这样设置，其有益效果为，电机启动前，电机下降至底部，电机启动后，电机再缓慢上升靠近抛光盆组件，这样可降低启动阶段电机负载，从而增加电机使用寿命。

上述技术方案中，进一步地，所述抛光盆组件包括抛光盆及所述抛光盆的容纳仓，所述容纳仓通过若干相互卡接的横向卡板及纵向卡板配合后形成，所述横向卡板及所述纵向卡板布置在所述抛光盆内，所述纵向卡板下端设置凹槽，所述横向卡板上端设置凹槽，所述横向卡板下端设置长槽，所述抛光盆底部边缘处设置排水口。

上述技术方案中，进一步地，所述磁吸盘上设环形布置圆孔，部分所述圆孔内设置磁铁，部分所述圆孔空置以减轻磁吸盘总体重量。

上述技术方案中，进一步地，所述横向移动机构包括线轨、滑块、传动电机、主动齿轮及从动齿条，所述滑块与所述线轨滑动连接，所述滑块通过限位件连接在所述底板上，所述主动齿轮通过限位件连接在所述传动电机上，所述传动电机固定在所述底板上，所述齿条固定在所述支撑架上，所述主动齿轮与所述齿条啮合传动，所述横向移动机构可带动所述纵向升降机构及所述磁吸盘旋转机构横向移动。

上述技术方案中，进一步地，所述抛光盆组件通过限位件连接在所述支撑架上。

上述技术方案中，进一步地，所述抛光盆内加入抛光针和抛光液，将受抛光物体置于所述卡板空隙内，在所述磁吸盘旋转机构作用下，所述抛光针随磁场变化在受打磨物体表面不规则运动，从而实现对物体的抛光。

本实用新型的有益效果是：通过改变磁场，使得抛光针及抛光液在受打磨物体表面不规则运动，从而实现对多个物体的高效率抛光。

2.磁吸盘旋转机构可通过纵向升降机构实现上升及下降，从而降低启动荷载。

3.容纳仓可通过横向卡板、纵向卡板不同的排列方式进行调节，适配不同尺寸的工件。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型的组合状态示意图。

图2是本实用新型的内部状态示意图。

图3是本实用新型的抛光盆组件状态示意图。

图4是本实用新型的容纳仓调节后状态示意图。

图5是本实用新型的横向卡板、纵向卡板结构示意图。

图6是本实用新型的磁吸盘旋转机构结构示意图。

图7是本实用新型的纵向升降机构结构示意图。

图8是本实用新型的横向移动机构内部结构示意图。

图中，1.支撑架，2.抛光盆组件，21.抛光盆，22.横向卡板，221.长槽，23.纵向卡板，24.排水口，25.凹槽，26.容纳仓，3.纵向升降机构，31.动力元件，32.底板，33.电机固定座，34.定位组件，341.导轨，342.滑动部件，4.横向移动机构，41.线轨，42.滑块，43.传动电机，44.主动齿轮，45.从动齿条，5.磁吸盘旋转机构，51.电机，52.磁吸盘，521.圆孔，53.磁铁。

具体实施方式

参照图1-7所示，一种二相流抛光设备，包括支撑架1、抛光盆组件2、纵向升降机构3、横向移动机构4及磁吸盘旋转机构5，所述磁吸盘旋转机构5包括电机51及磁吸盘52，所述磁吸盘52通过限位件连接在所述电机51上，所述磁吸盘52上设环形布置圆孔521，部分所述圆孔521内设置磁铁53，部分所述圆孔521空置以减轻磁吸盘52总体重量，所述纵向升降机构3包括若干动力元件31、底板32以及电机固定座33，所述电机51通过所述限位件连接在所述电机固定座33上，所述动力元件31通过所述限位件连接在所述底板32上，所述动力元件31输出部位连接所述电机固定座33，所述动力元件31周围设置若干定位组件34，所述定位组件34包括导轨341及滑动部件342，所述滑动部件342与所述底板32固定，所述滑动部件342与所述导轨341滑动连接。所述磁吸盘旋转机构5可通过纵向升降机构3实现上升及下降，电机51启动前，电机51下降至底部，电机51启动后，电机51再缓慢上升靠近抛光盆组件2，这样可降低启动阶段电机51负载，从而增加电机51使用寿命。

所述抛光盆组件2通过限位件连接在所述支撑架1上，所述抛光盆组件2包括抛光盆21及所述抛光盆的容纳仓26，所述容纳仓26通过若干相互卡接的横向卡板22及纵向卡板23配合后形成，所述纵向卡板23下端设置凹槽25，所述横向卡板22上端设置凹槽25，所述横向卡板22下端设置长槽221，所述抛光盆21底部边缘处设置排水口24，以便于抛光液的排出。

为可以使磁吸盘旋转机构5能够左右移动以适用不同情况需要，设置横向移动机构4，所述移动机构4括线轨41、滑块42、传动电机43、主动齿轮44及从动齿条45，所述滑块42与所述线轨41滑动连接，所述滑块41通过限位件连接在所述底板32上，所述主动齿轮44通过限位件连接在所述传动电机43上，所述传动电机43固定在所述底板32上，所述齿条45固定在所述支撑架1上，所述主动齿轮44与所述齿条45啮合传动，所述横向移动机构4可带动所述纵向升降机构3及所述磁吸盘旋转机构2横向移动。

根据以上的设计，抛光盆内加入抛光针和抛光液，将受抛光物体置于容纳仓内，在磁吸盘旋转机构作用下，抛光针随磁场变化在受打磨物体表面不规则运动，从而实现对物体的高效率抛光。

以上所述，只是本实用新型的较佳实施例，并非对本实用新型作出任何形式上的限制，在不脱离本实用新型的技术方案基础上，所作出的简单修改、等同变化或修饰，均落入本实用新型的保护范围。

Claims (7)

1.一种二相流抛光设备，包括支撑架、抛光盆组件、纵向升降机构、横向移动机构及磁吸盘旋转机构，其特征在于，所述磁吸盘旋转机构包括电机及磁吸盘，所述磁吸盘通过限位件连接在所述电机上，所述纵向升降机构包括若干动力元件、底板以及电机固定座，所述电机通过所述限位件连接在所述电机固定座上,所述磁吸盘旋转机构可通过纵向升降机构实现上升及下降。

2.根据权利要求1所述的一种二相流抛光设备，其特征在于，所述抛光盆组件包括抛光盆及所述抛光盆的容纳仓，所述容纳仓通过若干相互卡接的横向卡板及纵向卡板配合后形成。

3.根据权利要求2所述的一种二相流抛光设备，其特征在于，所述横向卡板及所述纵向卡板布置在所述抛光盆内，所述纵向卡板下端设置凹槽，所述横向卡板上端设置凹槽，所述横向卡板下端设置长槽，所述抛光盆底部边缘处设置排水口。

4.根据权利要求1所述的一种二相流抛光设备，其特征在于，所述动力元件通过所述限位件连接在所述底板上，所述动力元件输出部位连接所述电机固定座，所述动力元件周围设置若干定位组件，所述定位组件包括导轨及滑动部件，所述滑动部件与所述底板固定，所述滑动部件与所述导轨滑动连接。

5.根据权利要求1所述的一种二相流抛光设备，其特征在于，所述磁吸盘上设环形布置圆孔，部分所述圆孔内设置磁铁，其余所述圆孔空置以减轻磁吸盘总体重量。

6.根据权利要求1所述的一种二相流抛光设备，其特征在于，所述横向移动机构包括线轨、滑块、传动电机、主动齿轮及从动齿条，所述滑块与所述线轨滑动连接，所述滑块通过限位件连接在所述底板上，所述主动齿轮通过限位件连接在所述传动电机上，所述传动电机固定在所述底板上，所述齿条固定在所述支撑架上，所述主动齿轮与所述齿条啮合传动。

7.根据权利要求1所述的一种二相流抛光设备，其特征在于，所述抛光盆组件通过限位件连接在所述支撑架上。

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