CN216179010U - 一种弧壁研磨装置 - Google Patents

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Abstract

一种弧壁研磨装置,包括调节机构,调节机构设有一对夹持机构,调节机构的两侧均设有研磨机构,调节机构用于调节夹持机构之间的间距,夹持机构用于晶圆盘的夹持,并带动晶圆盘进行转动,以使研磨机构对晶圆盘的弧壁进行打磨,本实用新型在进行晶圆盘加工时,方便对晶圆盘的外壁进行打磨操作,在对晶圆盘的弧壁打磨时,能够确保晶圆盘夹持的稳定性,同时在带动晶圆盘转动时,能够确保晶圆盘转动的稳定性,显著地提高了晶圆盘打磨的质量,具有较强的实用性。

Description

一种弧壁研磨装置
技术领域
本实用新型涉及芯片加工设备相关技术领域,尤其涉及一种弧壁研磨装置。
背景技术
晶圆为加工芯片的基础材料,在加工通过光刻机在其上雕刻出对应的芯片结构,而一般地晶圆是通过直拉法制成晶圆棒,而后通过分切将晶圆棒分切为若干个晶圆盘,而分切后的晶圆盘其表面以及弧壁的粗糙程度较高,不能直接进行晶圆盘的加工,因此还需要对晶圆盘进行减薄以及弧壁打磨操作。
现有的晶圆盘打磨装置在进行打磨时存在着对晶圆盘夹持稳定性较差,尤其在打磨时还需要带动晶圆盘进行转动,因此给晶圆盘的夹持造成了困难,同时现有的打磨装置在驱动晶圆盘进行转动时,转动稳定性较差,从而常对打磨质量造成影响。
实用新型内容
本实用新型提供一种弧壁研磨装置,以解决上述现有技术的不足,方便对晶圆盘的外壁进行打磨操作,在对晶圆盘的弧壁打磨时,能够确保晶圆盘夹持的稳定性,具有较强的实用性。
为了实现本实用新型的目的,拟采用以下技术:
一种弧壁研磨装置,包括调节机构,调节机构设有一对夹持机构,调节机构的两侧均设有研磨机构,调节机构用于调节夹持机构之间的间距,夹持机构用于晶圆盘的夹持,并带动晶圆盘进行转动,以使研磨机构对晶圆盘的弧壁进行打磨;
调节机构包括基板,基板向上延伸地设有上延柱,上延柱开设有运动孔,运动孔贯穿于上延柱的前后两侧,上延柱的外壁安装有一对调节轴承座,调节轴承座之间设有多根调节导杆,位于上端的调节导杆安装有调节电机,调节电机的输出轴连接有调节丝杆,调节丝杆上下两端的螺纹旋向相反,调节丝杆上下两端均设有调节座,调节座的内侧端均穿于运动孔,调节座的另一端设有T形座,T形座均安装有固定座。
进一步地,夹持机构包括安装于固定座另一端的端盘,端盘设有转动杆,转动杆的另一端设有转动内盘,转动杆的端板连接有驱动电机,驱动电机安装于端盘,转动内盘的内壁均设有软质橡胶垫。
进一步地,端盘呈圆周阵列地设有连接圆杆,连接圆杆的另一端设有连接环,连接环的外壁成形有限位环槽,转动内盘呈圆周阵列地安装有外弧板,外弧板的内壁均设有插板,插板穿于限位环槽内。
进一步地,转动杆的根部设有根限盘,根限盘位于端盘的内侧。
进一步地,研磨机构包括一对呈水平分布的研磨轴承座,研磨轴承座之间设有多根研磨导杆,位于内侧的研磨轴承座安装于上延柱,位于外侧的研磨轴承座安装有内顶电机,内顶电机的输出轴连接有内顶丝杆,内顶丝杆设有内顶座,内顶座外壁安装有内顶端板,内顶端板安装有一对驱动轴承座,驱动轴承座之间设有研磨轮,研磨轮的连接有研磨电机,研磨电机安装于驱动轴承座。
上述技术方案的优点在于:
本实用新型在进行晶圆盘加工时,方便对晶圆盘的外壁进行打磨操作,在对晶圆盘的弧壁打磨时,能够确保晶圆盘夹持的稳定性,同时在带动晶圆盘转动时,能够确保晶圆盘转动的稳定性,显著地提高了晶圆盘打磨的质量,具有较强的实用性。
附图说明
图1示出了其中一种实施例的立体结构图一。
图2示出了其中一种实施例的立体结构图二。
具体实施方式
为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。
如图1-图2所示,一种弧壁研磨装置,包括调节机构1,调节机构1设有一对夹持机构2,调节机构1的两侧均设有研磨机构3,调节机构1用于调节夹持机构2之间的间距,夹持机构2用于晶圆盘的夹持,并带动晶圆盘进行转动,以使研磨机构3对晶圆盘的弧壁进行打磨。
该装置通过调节机构1、夹持机构2以及研磨机构3方便对晶圆盘的外壁进行打磨操作。其中,调节机构1能对夹持机构2之间的间距进行同步调节,从而方便通过夹持机构2对晶圆盘进行打磨操作,且在调节时能够精确地控制对晶圆盘的夹持力度,避免造成夹碎的现象。夹持机构2能对晶圆盘进行同心的稳定夹持,同时在打磨时还能带动晶圆盘进行转动,当晶圆盘在转动时能够通过研磨机构3对其外壁进行打磨,在带动晶圆盘转动时,能确保转动的稳定性,从而确保打磨的效果。研磨机构3能对晶圆盘的外壁进行打磨,通过该机构可提高晶圆盘打磨的效率和打磨的质量。在具体的操作中,晶圆盘被精确转移装置转移至夹持机构2之间,转移后需要确保晶圆盘的圆心精确地位于夹持机构2转动的轴向上,接着通过调节机构1调节夹持机构2之间的间距,最终通过夹持机构2完成对晶圆盘的夹持,当晶圆盘夹持完成后夹持机构2带动晶圆盘进行转动,在转动的过程中,研磨机构3对晶圆盘的外壁进行打磨。
调节机构1包括基板10,基板10向上延伸地设有上延柱11,上延柱11开设有运动孔110,运动孔110贯穿于上延柱11的前后两侧,上延柱11的外壁安装有一对调节轴承座12,调节轴承座12之间设有多根调节导杆13,位于上端的调节导杆13安装有调节电机14,调节电机14的输出轴连接有调节丝杆15,调节丝杆15上下两端的螺纹旋向相反,调节丝杆15上下两端均设有调节座16,调节座16的内侧端均穿于运动孔110,调节座16的另一端设有T形座17,T形座17均安装有固定座18。该机构在对夹持机构2之间的间距进行调节时,启动调节电机14,在调节电机14的带动下调节丝杆15进行转动,调节丝杆15在转动时将带动两个调节座16进行相对运动,而调节座16在运动时将带动夹持机构2相互靠近或者远离,由于调节时采用一根调节丝杆15调节的方式,这种调节方式在调节时由于调节丝杆15转速同步,那么相对应的调节座16的运动速度以及运动距离也将一致,从而方便控制夹持时的力度。
夹持机构2包括安装于固定座18另一端的端盘20,端盘20设有转动杆25,转动杆25的另一端设有转动内盘24,转动杆25的端板连接有驱动电机26,驱动电机26安装于端盘20,转动内盘24的内壁均设有软质橡胶垫,端盘20呈圆周阵列地设有连接圆杆21,连接圆杆21的另一端设有连接环22,连接环22的外壁成形有限位环槽220,转动内盘24呈圆周阵列地安装有外弧板23,外弧板23的内壁均设有插板230,插板230穿于限位环槽220内,转动杆25的根部设有根限盘,根限盘位于端盘20的内侧。该机构在对晶圆盘进行夹持时,其将在调节机构1的带动下相互靠近,最终通过转动内盘24完成对晶圆盘的夹持,在夹持时,需要确保晶圆盘和转动内盘24的同心度,其中,为了确保转动内盘24转动的稳定性,进而提高了晶圆盘的打磨效果,因此设置了连接环22,同时相适应地还设置了外弧板23和插板230,其中外弧板23对连接环22的转动起着限位的作用,为插板230能避免连接环22直接和转动内盘24的外壁接触,避免在长期使用的过程中,对转动内盘24和连接环22造成较大磨损,当然为了确保转动的灵活性可在插板230上设置滚珠,同时为了避免在夹持时对晶圆盘的端面造成划伤,或者在转动时晶圆盘发生与转动内盘24相对的转动,因此在转动内盘24的内壁设置了相应的防滑橡胶垫。
研磨机构3包括一对呈水平分布的研磨轴承座30,研磨轴承座30之间设有多根研磨导杆31,位于内侧的研磨轴承座30安装于上延柱11,位于外侧的研磨轴承座30安装有内顶电机32,内顶电机32的输出轴连接有内顶丝杆33,内顶丝杆33设有内顶座34,内顶座34外壁安装有内顶端板,内顶端板安装有一对驱动轴承座35,驱动轴承座35之间设有研磨轮37,研磨轮37的连接有研磨电机36,研磨电机36安装于驱动轴承座35。该机构在对晶圆盘进行打磨时,启动内顶电机32,在内顶电机32的带动下内顶丝杆33转动,内顶丝杆33的转动将带动内顶座34进行运动,并最终使得内顶座34带动研磨轮37靠近晶圆盘,当晶圆盘和研磨轮37的外壁接触后,研磨电机36启动,并通过研磨电机36带动研磨轮37进行相对于晶圆盘相反的方向转动,研磨轮37在转动时将对晶圆盘完成了研磨,同时反向转动的方式能够提高晶圆盘研磨的效率。
以上所述仅为本实用新型的优选实施例,并不用于限制本实用新型,显然,本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样,倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内,则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (5)

1.一种弧壁研磨装置,其特征在于,包括调节机构(1),调节机构(1)设有一对夹持机构(2),调节机构(1)的两侧均设有研磨机构(3),调节机构(1)用于调节夹持机构(2)之间的间距,夹持机构(2)用于晶圆盘的夹持,并带动晶圆盘进行转动,以使研磨机构(3)对晶圆盘的弧壁进行打磨;
调节机构(1)包括基板(10),基板(10)向上延伸地设有上延柱(11),上延柱(11)开设有运动孔(110),运动孔(110)贯穿于上延柱(11)的前后两侧,上延柱(11)的外壁安装有一对调节轴承座(12),调节轴承座(12)之间设有多根调节导杆(13),位于上端的调节导杆(13)安装有调节电机(14),调节电机(14)的输出轴连接有调节丝杆(15),调节丝杆(15)上下两端的螺纹旋向相反,调节丝杆(15)上下两端均设有调节座(16),调节座(16)的内侧端均穿于运动孔(110),调节座(16)的另一端设有T形座(17),T形座(17)均安装有固定座(18)。
2.根据权利要求1所述的弧壁研磨装置,其特征在于,夹持机构(2)包括安装于固定座(18)另一端的端盘(20),端盘(20)设有转动杆(25),转动杆(25)的另一端设有转动内盘(24),转动杆(25)的端板连接有驱动电机(26),驱动电机(26)安装于端盘(20),转动内盘(24)的内壁均设有软质橡胶垫。
3.根据权利要求2所述的弧壁研磨装置,其特征在于,端盘(20)呈圆周阵列地设有连接圆杆(21),连接圆杆(21)的另一端设有连接环(22),连接环(22)的外壁成形有限位环槽(220),转动内盘(24)呈圆周阵列地安装有外弧板(23),外弧板(23)的内壁均设有插板(230),插板(230)穿于限位环槽(220)内。
4.根据权利要求2所述的弧壁研磨装置,其特征在于,转动杆(25)的根部设有根限盘,根限盘位于端盘(20)的内侧。
5.根据权利要求4所述的弧壁研磨装置,其特征在于,研磨机构(3)包括一对呈水平分布的研磨轴承座(30),研磨轴承座(30)之间设有多根研磨导杆(31),位于内侧的研磨轴承座(30)安装于上延柱(11),位于外侧的研磨轴承座(30)安装有内顶电机(32),内顶电机(32)的输出轴连接有内顶丝杆(33),内顶丝杆(33)设有内顶座(34),内顶座(34)外壁安装有内顶端板,内顶端板安装有一对驱动轴承座(35),驱动轴承座(35)之间设有研磨轮(37),研磨轮(37)的连接有研磨电机(36),研磨电机(36)安装于驱动轴承座(35)。
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