CN215991314U - 一种大气压低温等离子体射流阵列处理装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及等离子体射流处理材料技术领域，尤其为一种大气压低温等离子体射流阵列处理装置，包括工作台，所述工作台上表面两侧均开设有第一滑槽，所述第一滑槽下侧开设有第四滑槽，所述第四滑槽内部一侧槽壁上开设有齿轮槽，所述第四滑槽内滑动连接有滑块，所述滑块一侧表面固定设有第二位移传感器，所述滑块一侧表面开设有电机槽，所述电机槽固定设有第二电机，所述第二电机输出端固定连接有齿轮，本实用新型中，通过设置的外螺纹管和内螺纹管，能根据不同的处理需求更换合适的处理喷头，从而对放电结构进行调整，从而使处理更加充分高效。

Description

一种大气压低温等离子体射流阵列处理装置

技术领域

本实用新型涉及等离子体射流处理材料技术领域，具体为一种大气压低温等离子体射流阵列处理装置。

背景技术

在日常生活以及工业生产中，许多材料的特性并不能满足我们的使用要求，因此需要对这样的材料进行表面处理改变其一些特性。纤维材料是被人类使用得最多的材料之一，目前，对纤维表面改性的方法国内外学者已经进行了很多的研究，并取得了一定的成效，比如使用偶联剂改性、表面接枝处理法以及等离子体表面处理等。在这几种方法中，等离子体表面改性技术是其中一个研究热点。低温等离子体中存在着大量且种类繁多的活性粒子，与通常的化学反应相比，低温等离子体中的活性粒子种类更多、活性更强。使用低温等离子体处理材料，活性粒子更加容易与材料表面发生反应，同时低温等离子体处理只作用于材料表面，不影响基体性能。除此之外，低温等离子体处理技术还具有容易操作、处理速度快、处理效果好、环境污染少以及成本较为低廉等优点，因此等离子体表面处理技术越来越受到人们的关注。

现有的等离子体射流处理材料的装置都比较单一，大多数是点处理，部分为面处理，但是由于等离子体射流的直径较小，就算是使用等离子体射流阵列，也会出现由于与材料表面的接触面小，导致材料处理不充分的问题，这样就很难达到预期的效果。而且现有的等离子体射流处理材料的装置放电结构单一，大都为单一形式的喷头对材料进行处理，不能根据不同的处理需求去随时调整放电结构，大多数装置也不能随时调整等离子体射流处理材料的距离。

因此需要一种大气压低温等离子体射流阵列处理装置对上述问题做出改善。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种大气压低温等离子体射流阵列处理装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种大气压低温等离子体射流阵列处理装置，包括工作台，所述工作台上表面两侧均开设有第一滑槽，所述第一滑槽下侧开设有第四滑槽，所述第四滑槽内部一侧槽壁上开设有齿轮槽，所述第四滑槽内滑动连接有滑块，所述滑块一侧表面固定设有第二位移传感器，所述滑块一侧表面开设有电机槽，所述电机槽固定设有第二电机，所述第二电机输出端固定连接有齿轮，所述滑块上表面固定连接有第一连接块，所述第一连接块上表面固定连接有支撑柱所述支撑柱内部开设有第三滑槽，所述第三滑槽一侧槽壁上开设有第二滑槽，所述支撑柱上表面固定定连接有第一电机，所述第一电机输出端固定连接有螺纹杆，所述螺纹杆贯穿第三滑槽，所述螺纹杆上螺纹连接有螺母块，所述螺母块一侧表面固定连接有第二连接块，所述第二连接块设置有两个，两个所述第二连接块之间固定连接有固定板，所述固定板下表面两侧均固定设有第一位移传感器。

作为本实用新型优选的方案，所述固定板上表面固定连接有驱动箱，所述驱动箱下表面等距离固定连接有喷头安装管，所述喷头安装管贯穿固定板，所述喷头安装管上端固定连接有电磁阀，所述喷头安装管下端固定连接有内螺纹管。

作为本实用新型优选的方案，所述喷头安装管下端固定安装有等离子体射流喷头，所述等离子体射流喷头上端固定连接有外螺纹管，所述喷头安装管上侧表面固定连接有密封橡胶圈。

作为本实用新型优选的方案，所述内螺纹管与外螺纹管之间螺纹连接。

作为本实用新型优选的方案，所述齿轮与齿轮槽之间啮合连接。

作为本实用新型优选的方案，所述工作台内部固定设有处理器，所述处理器一侧设有蓄电池，所述处理器分别与第一电机、等离子体射流喷头、第二电机、第一位移传感器和第二位移传感器之间电性连接。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、本实用新型中，通过设置的外螺纹管和内螺纹管，根据需要处理的材料选择合适规格的等离子体射流喷头，将等离子体射流喷头上端的外螺纹管螺旋进入喷头安装管下端的内螺纹管内，再使密封橡胶圈将连接处密封，进一步将等离子体射流喷头安装，能根据不同的处理需求更换合适的处理喷头，从而对放电结构进行调整，从而使处理更加充分高效。

2、本实用新型中，通过设置的第一电机、第一位移传感器和电磁阀，根据需要的处理材料设定等离子体射流喷头与材料之间的距离，通过处理器启动第一电机转动，第一电机转动进一步带动螺纹杆转动，螺纹杆转动进一步带动螺母块在第三滑槽内滑动，进一步带动第二连接块在第二滑槽内滑动，进一步带动固定板运动，进一步调整等离子体射流喷头与材料之间的距离，通过第一位移传感器测定固定板运动的距离，当固定板运动至指定距离时，第一位移传感器受到感应并将信号传递给处理器，处理器停止第一电机转动，可根据需要的处理点之间的距离，打开电磁阀，可全部打开或者间隔打开，启动驱动箱进一步通过等离子体射流喷头对材料进行处理，不仅能够调节喷头与材料之间的距离，还能根据需求调整处理点与处理点之间的距离，同时可以多个喷头对多个处理点进行同时处理，提高了处理效率，装置适用性更强。

3、本实用新型中，通过设置的第二电机、第二位移传感器和第四滑槽，启动第二电机转动，第二电机转动进一步带动齿轮在齿轮槽内运动，进一步带动滑块在第四滑槽内滑动，进一步带动第一连接块在第一滑槽滑动，进一步带动支撑柱运动，进一步带动等离子体射流喷头在材料表面进行运动，通过第二位移传感器控制等离子体射流喷头在材料表面进行等距离运动，进一步使等离子体射流喷头对材料进行阵列处理，能够对材料进行阵列处理，提高处理效率。

附图说明

图1为本实用新型的立体图；

图2为本实用新型的侧剖面结构示意图；

图3为本实用新型的A图；

图4为本实用新型的正剖面结构示意图；

图5为本实用新型的齿轮与齿轮槽连接结构示意图。

图中：1、工作台；2、支撑柱；3、第一电机；4、驱动箱；5、固定板；6、等离子体射流喷头；7、第一滑槽；8、第二滑槽；9、螺母块；10、第三滑槽；11、螺纹杆；12、滑块；13、第二电机；14、处理器；15、电机槽；16、第四滑槽；17、第一连接块；18、齿轮；19、第一位移传感器；20、齿轮槽；21、电磁阀；22、喷头安装管；23、内螺纹管；24、密封橡胶圈；25、外螺纹管；26、第二位移传感器；27、蓄电池；28、第二连接块。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例,基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

为了便于理解本实用新型，下面将参照相关对本实用新型进行更全面的描述。给出了本实用新型的若干实施例。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本实用新型的公开内容更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固设于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

请参阅图1-5，本实用新型提供一种技术方案：

实施例1，请参照图1、2、3、4和5，一种大气压低温等离子体射流阵列处理装置，包括工作台1，工作台1上表面两侧均开设有第一滑槽7，第一滑槽7下侧开设有第四滑槽16，第四滑槽16内部一侧槽壁上开设有齿轮槽20，第四滑槽16内滑动连接有滑块12，滑块12一侧表面固定设有第二位移传感器26，滑块12一侧表面开设有电机槽15，电机槽15固定设有第二电机13，第二电机13输出端固定连接有齿轮18，滑块12上表面固定连接有第一连接块17，第一连接块17上表面固定连接有支撑柱2支撑柱2内部开设有第三滑槽10，第三滑槽10一侧槽壁上开设有第二滑槽8，支撑柱2上表面固定定连接有第一电机3，第一电机3输出端固定连接有螺纹杆11，螺纹杆11贯穿第三滑槽10，螺纹杆11上螺纹连接有螺母块9，螺母块9一侧表面固定连接有第二连接块28，第二连接块28设置有两个，两个第二连接块28之间固定连接有固定板5，固定板5下表面两侧均固定设有第一位移传感器19；根据需要处理的材料选择合适规格的等离子体射流喷头6，将等离子体射流喷头6上端的外螺纹管25螺旋进入喷头安装管22下端的内螺纹管23内，再使密封橡胶圈24将连接处密封，进一步将等离子体射流喷头6安装，根据需要的处理材料设定等离子体射流喷头6与材料之间的距离，通过处理器14启动第一电机3转动，第一电机3转动进一步带动螺纹杆11转动，螺纹杆11转动进一步带动螺母块9在第三滑槽10内滑动，进一步带动第二连接块28在第二滑槽8内滑动，进一步带动固定板5运动，进一步调整等离子体射流喷头6与材料之间的距离，通过第一位移传感器19测定固定板5运动的距离，当固定板5运动至指定距离时，第一位移传感器19受到感应并将信号传递给处理器14，处理器14停止第一电机3转动，可根据需要的处理点之间的距离。

实施例2，请参照图1、2、3、4和5，一种大气压低温等离子体射流阵列处理装置，包括工作台1，工作台1上表面两侧均开设有第一滑槽7，第一滑槽7下侧开设有第四滑槽16，第四滑槽16内部一侧槽壁上开设有齿轮槽20，第四滑槽16内滑动连接有滑块12，滑块12一侧表面固定设有第二位移传感器26，滑块12一侧表面开设有电机槽15，电机槽15固定设有第二电机13，第二电机13输出端固定连接有齿轮18，滑块12上表面固定连接有第一连接块17，第一连接块17上表面固定连接有支撑柱2支撑柱2内部开设有第三滑槽10，第三滑槽10一侧槽壁上开设有第二滑槽8，支撑柱2上表面固定定连接有第一电机3，第一电机3输出端固定连接有螺纹杆11，螺纹杆11贯穿第三滑槽10，螺纹杆11上螺纹连接有螺母块9，螺母块9一侧表面固定连接有第二连接块28，第二连接块28设置有两个，两个第二连接块28之间固定连接有固定板5，固定板5下表面两侧均固定设有第一位移传感器19；固定板5上表面固定连接有驱动箱4，驱动箱4下表面等距离固定连接有喷头安装管22，喷头安装管22贯穿固定板5，喷头安装管22上端固定连接有电磁阀21，喷头安装管22下端固定连接有内螺纹管23；喷头安装管22下端固定安装有等离子体射流喷头6，等离子体射流喷头6上端固定连接有外螺纹管25，喷头安装管22上侧表面固定连接有密封橡胶圈24；打开电磁阀21，可全部打开或者间隔打开，启动驱动箱4进一步通过等离子体射流喷头6对材料进行处理，再设置阵列处理的两列之间的距离，启动第二电机13转动，第二电机13转动进一步带动齿轮18在齿轮槽20内运动，进一步带动滑块12在第四滑槽16内滑动，进一步带动第一连接块17在第一滑槽7滑动，进一步带动支撑柱2运动，进一步带动等离子体射流喷头6在材料表面进行运动，通过第二位移传感器26控制等离子体射流喷头6在材料表面进行等距离运动，进一步使等离子体射流喷头6对材料进行阵列处理。

实施例3，请参照图1、2、3、4和5，内螺纹管23与外螺纹管25之间螺纹连接；齿轮18与齿轮槽20之间啮合连接；工作台1内部固定设有处理器14，处理器14一侧设有蓄电池27，处理器14分别与第一电机3、等离子体射流喷头6、第二电机13、第一位移传感器19和第二位移传感器26之间电性连接。

工作原理：使用时，根据需要处理的材料选择合适规格的等离子体射流喷头6，将等离子体射流喷头6上端的外螺纹管25螺旋进入喷头安装管22下端的内螺纹管23内，再使密封橡胶圈24将连接处密封，进一步将等离子体射流喷头6安装，根据需要的处理材料设定等离子体射流喷头6与材料之间的距离，通过处理器14启动第一电机3转动，第一电机3转动进一步带动螺纹杆11转动，螺纹杆11转动进一步带动螺母块9在第三滑槽10内滑动，进一步带动第二连接块28在第二滑槽8内滑动，进一步带动固定板5运动，进一步调整等离子体射流喷头6与材料之间的距离，通过第一位移传感器19测定固定板5运动的距离，当固定板5运动至指定距离时，第一位移传感器19受到感应并将信号传递给处理器14，处理器14停止第一电机3转动，可根据需要的处理点之间的距离，打开电磁阀21，可全部打开或者间隔打开，启动驱动箱4进一步通过等离子体射流喷头6对材料进行处理，再设置阵列处理的两列之间的距离，启动第二电机13转动，第二电机13转动进一步带动齿轮18在齿轮槽20内运动，进一步带动滑块12在第四滑槽16内滑动，进一步带动第一连接块17在第一滑槽7滑动，进一步带动支撑柱2运动，进一步带动等离子体射流喷头6在材料表面进行运动，通过第二位移传感器26控制等离子体射流喷头6在材料表面进行等距离运动，进一步使等离子体射流喷头6对材料进行阵列处理，上述第二位移传感器26和第一位移传感器19的型号均为ZLDS101位移传感器，上述处理器14型号为AMR处理器。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (6)

1.一种大气压低温等离子体射流阵列处理装置，包括工作台(1)，其特征在于：所述工作台(1)上表面两侧均开设有第一滑槽(7)，所述第一滑槽(7)下侧开设有第四滑槽(16)，所述第四滑槽(16)内部一侧槽壁上开设有齿轮槽(20)，所述第四滑槽(16)内滑动连接有滑块(12)，所述滑块(12)一侧表面固定设有第二位移传感器(26)，所述滑块(12)一侧表面开设有电机槽(15)，所述电机槽(15)固定设有第二电机(13)，所述第二电机(13)输出端固定连接有齿轮(18)，所述滑块(12)上表面固定连接有第一连接块(17)，所述第一连接块(17)上表面固定连接有支撑柱(2)所述支撑柱(2)内部开设有第三滑槽(10)，所述第三滑槽(10)一侧槽壁上开设有第二滑槽(8)，所述支撑柱(2)上表面固定连接有第一电机(3)，所述第一电机(3)输出端固定连接有螺纹杆(11)，所述螺纹杆(11)贯穿第三滑槽(10)，所述螺纹杆(11)上螺纹连接有螺母块(9)，所述螺母块(9)一侧表面固定连接有第二连接块(28)，所述第二连接块(28)设置有两个，两个所述第二连接块(28)之间固定连接有固定板(5)，所述固定板(5)下表面两侧均固定设有第一位移传感器(19)。

2.根据权利要求1所述的一种大气压低温等离子体射流阵列处理装置，其特征在于：所述固定板(5)上表面固定连接有驱动箱(4)，所述驱动箱(4)下表面等距离固定连接有喷头安装管(22)，所述喷头安装管(22)贯穿固定板(5)，所述喷头安装管(22)上端固定连接有电磁阀(21)，所述喷头安装管(22)下端固定连接有内螺纹管(23)。

3.根据权利要求2所述的一种大气压低温等离子体射流阵列处理装置，其特征在于：所述喷头安装管(22)下端固定安装有等离子体射流喷头(6)，所述等离子体射流喷头(6)上端固定连接有外螺纹管(25)，所述喷头安装管(22)上侧表面固定连接有密封橡胶圈(24)。

4.根据权利要求2所述的一种大气压低温等离子体射流阵列处理装置，其特征在于：所述内螺纹管(23)与外螺纹管(25)之间螺纹连接。

5.根据权利要求1所述的一种大气压低温等离子体射流阵列处理装置，其特征在于：所述齿轮(18)与齿轮槽(20)之间啮合连接。

6.根据权利要求1所述的一种大气压低温等离子体射流阵列处理装置，其特征在于：所述工作台(1)内部固定设有处理器(14)，所述处理器(14)一侧设有蓄电池(27)，所述处理器(14)分别与第一电机(3)、等离子体射流喷头(6)、第二电机(13)、第一位移传感器(19)和第二位移传感器(26)之间电性连接。

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