CN215925136U - 一种镀膜机用镀液循环系统及镀膜机 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种镀膜机用镀液循环系统及镀膜机，该镀膜机用镀液循环系统包括主槽、副槽、喷淋装置和循环泵，主槽和副槽内均设有镀液，且所述主槽中的镀液达到预设液位后能够溢流至所述副槽内；所述喷淋装置设置于所述主槽的上方，所述循环泵用于抽取副槽中的电镀液至所述喷淋装置，并由所述喷淋装置喷淋至所述主槽内。该镀液循环系统能够保证镀液具有较好的流动性，使镀液浓度均匀，且能够防止镀液中产生过多的气泡，从而提高镀膜的均匀性。

Description

一种镀膜机用镀液循环系统及镀膜机

技术领域

本申请涉及电镀技术领域，尤其涉及一种镀膜机用镀液循环系统及镀膜机。

背景技术

目前，锂离子电池已被广泛应用，锂离子电池具有容量大、体积小以及重量轻等优点。

集流体是指汇集电流的结构，在锂离子电池上主要指的是电池正极或者负极用于附着活性物质的基体金属，如铜箔、铝箔等。其功用主要是将电池活性物质产生的电流汇集起来以便形成较大的电流对外输出。集流体在制作时通常是在导电基膜上通过电镀的方式形成较厚的金属镀层，以保证集流体的导电性能。具体可采用镀膜机对导电基膜进行电镀。

镀膜机通常包括镀液槽，镀液槽内设有镀液，为了使镀液浓度保持均匀，通常会采用搅拌装置对镀液进行搅拌，以保证镀液的流动性。但搅拌装置的搅拌会导致镀液内气泡增多，过多的气泡会附着于导电基膜的表面，从而影响镀膜的均匀性。

实用新型内容

本申请实施例公开了一种镀膜机用镀液循环系统及镀膜机，能够保证镀液具有较好的流动性，使镀液浓度均匀，且能够防止镀液中产生过多的气泡，从而提高镀膜的均匀性。

为了实现上述目的，第一方面，本申请实施例公开了一种镀膜机用镀液循环系统，包括：

主槽，主槽内设有镀液；

副槽，副槽内设有镀液，且主槽中的镀液达到预设液位后能够溢流至所述副槽内；

喷淋装置，喷淋装置设置于主槽的上方；

循环泵，循环泵用于抽取副槽中的电镀液至喷淋装置，并由喷淋装置喷淋至主槽内。

本申请实施例提供的镀膜机用镀液循环系统，通过采用主槽和副槽的连接系统，当主槽中的电镀液达到预设液位后能够溢流至所述副槽内，副槽内的电镀液又可在循环泵和喷淋装置的作用下补充至主槽内，由此可实现电镀液的循环供给，使得主槽中的电镀液液位能够始终保持在预设液位。并且由于采用了喷淋装置向主槽内补充镀液，不会使镀液槽内的镀液产生较大幅度的波动，因此可防止镀液槽内的镀液产生过多的气泡，提高了镀膜的均匀性。

在第一方面可能的实现方式中，副槽设置于所述主槽的下方，所述副槽的槽口面积大于所述主槽向下的投影面积，且所述主槽向下的投影位于所述副槽的槽口范围内。

由此，可使副槽承接镀液的范围完全覆盖主槽的槽口，此时不论镀液由主槽槽口的哪一侧溢出均可被副槽接住。

在第一方面可能的实现方式中，喷淋装置包括喷淋管和开设于所述喷淋管的侧壁下部的多个喷淋口，所述喷淋管与所述循环泵的出口连通。

多个喷淋口同时向主槽内供液，可使镀液更均匀的补充至主槽中。

在第一方面可能的实现方式中，主槽内设有多个沿所述主槽的长度方向间隔排列的阳极件，所述喷淋管沿所述主槽的宽度方向延伸，且所述喷淋口朝向相邻两所述阳极件之间的间隙。

由此可使喷淋口喷出的镀液由相邻两阳极板之间的间隙进入镀液槽内，避免喷淋的镀液被阳极板挡住而使镀液的流动路径过长，影响主槽内镀液的补充效率。

在第一方面可能的实现方式中，主槽内还设有供液管，所述供液管与所述循环泵的出口连通，所述供液管位于所述主槽内的镀液的液面以下。

由此，可使得主槽内镀液的上层浓度和下层浓度更接近，使导电基膜的上下表面的镀层厚度更均匀。

在第一方面可能的实现方式中，供液管沿所述主槽的长度方向延伸，所述喷淋管沿所述主槽的宽度方向延伸，或所述供液管和所述喷淋管均沿所述主槽的宽度方向延伸，且所述供液管和所述喷淋管在竖直方向上错开设置。

上述供液管和喷淋管的排列方式可实现较大的供液覆盖面积，使主槽内的各区域能第一时间补充上镀液。

在第一方面可能的实现方式中，供液管为多个，多个所述供液管沿水平方向平行排列，喷淋管也为多个，多个所述喷淋管沿水平方向平行排列。

由此，可形成网状的交叉供液，从而进一步增大供液面积。

在第一方面可能的实现方式中，供液管的一端封闭，另一端与所述循环泵的出口连通，所述供液管的管壁上开设有多个供液口，多个所述供液口沿所述供液管的长度方向排列，且多个所述供液口的出液方向朝向所述主槽的侧壁或底壁。

由此，可使供液口喷出的镀液被主槽的侧壁或底壁阻挡缓冲，从而降低流速，降低对导电基膜的冲击力，保证镀膜均匀。

在第一方面可能的实现方式中，所述主槽包括相对设置的第一侧板和第二侧板，以及相对设置的第一挤压辊组和第二挤压辊组，所述第一侧板和所述第二侧板形成主槽沿长度方向延伸的两侧壁，所述第一挤压辊组和所述第二挤压辊组形成主槽沿宽度方向延伸的两侧壁，所述第一挤压辊组和所述第二挤压辊组均包括上下设置的两个挤压辊。

第一挤压辊组用于展平导电基膜，第二挤压辊组用于挤压导电基膜上附着的镀液。并且将主槽两端的挡板由挤压辊代替，可便于导电基膜进出主槽。

在第一方面可能的实现方式中，主槽的侧壁上开设有溢流口，所述溢流口的位置高于所述副槽内的镀液液位。

由此可保证主槽内的镀液能够顺利溢流至副槽内。并且可将副槽对应设置于溢流口的下方即可，副槽可不用设置的过大，从而节省镀膜机的占地空间。

在第一方面可能的实现方式中，循环泵的入口处连接有过滤装置。

过滤装置可将镀液中的固体杂质或沉淀物过滤，比如阳极板上产生的阳极泥。从而防止副槽中的固体杂质或沉淀物再次进入到主槽中，影响镀膜精度。

在第一方面可能的实现方式中，副槽还设有原料添加口。

从而可通过原料添加口向副槽内添加浓度较高的镀层金属的阳离子溶液或添加镀层金属的固体化合物，以保持镀层金属的阳离子浓度恒定。

第二方面，本申请实施例还公开了一种镀膜机，该镀膜机包括上述第一方面所述的镀膜机用镀液循环系统。

本申请实施例提供的镀膜机，由于采用了第一方面的镀液循环系统。因此可防止主槽内的镀液产生过多的气泡，提高了镀膜的均匀性。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请实施例提供的镀膜机用镀液循环系统的结构示意图；

图2为本申请实施例提供的镀膜机用镀液循环系统上下同时供液的结构示意图；

图3为本申请实施例提供的镀膜机用镀液循环系统中主槽和副槽的结构实现方式之一；

图4为本申请实施例提供的镀膜机用镀液循环系统中主槽和副槽的结构实现方式之二；

图5为本申请实施例提供的镀膜机用镀液循环系统中主槽和副槽的结构实现方式之三；

图6为本申请实施例提供的镀膜机用镀液循环系统的一种实现方式的俯视图；

图7为本申请实施例提供的镀膜机用镀液循环系统的一种实现方式的长度方向剖视图；

图8为本申请实施例提供的镀膜机用镀液循环系统的一种实现方式的宽度方向剖视图；

图9为两侧同时喷淋的镀液循环系统的剖视图；

图10为本申请实施例提供的镀膜机用镀液循环系统的俯视图之一；

图11为本申请实施例提供的镀膜机用镀液循环系统的俯视图之二；

图12为本申请实施例提供的镀膜机的结构示意图。

附图标记说明：

1-主槽；2-副槽；3-喷淋装置；4-循环泵；5-阳极板；6-供液管；11-溢流口；12-水平隔板；13-竖直隔板；14-第一侧板；15-第二侧板；16-第一挤压辊组；17-第二挤压辊组；31-喷淋管；32-喷淋口；61-供液口；131-通孔；100-镀膜机；101-第一传送机构；102-第二传送机构；200-导电基膜。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型中，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“竖直”、“水平”、“横向”、“纵向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系。这些术语主要是为了更好地描述本实用新型及其实施例，并非用于限定所指示的装置、元件或组成部分必须具有特定方位，或以特定方位进行构造和操作。

并且，上述部分术语除了可以用于表示方位或位置关系以外，还可能用于表示其他含义，例如术语“上”在某些情况下也可能用于表示某种依附关系或连接关系。对于本领域普通技术人员而言，可以根据具体情况理解这些术语在本实用新型中的具体含义。

此外，术语“安装”、“设置”、“设有”、“连接”、“相连”应做广义理解。例如，可以是固定连接，可拆卸连接，或整体式构造；可以是机械连接，或电连接；可以是直接相连，或者是通过中间媒介间接相连，又或者是两个装置、元件或组成部分之间内部的连通。对于本领域普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

此外，术语“第一”、“第二”等主要是用于区分不同的装置、元件或组成部分(具体的种类和构造可能相同也可能不同)，并非用于表明或暗示所指示装置、元件或组成部分的相对重要性和数量。除非另有说明，“多个”的含义为两个或两个以上。

电镀即利用电解原理在某些镀件表面上镀上一层其它金属或合金的过程。具体地，采用镀层金属或其他不溶性材料做阳极，待镀的工件做阴极，含镀层金属离子的液体作为镀液。电镀前，给阳极和阴极通电，电流在阳极、镀液、阴极之间形成回路，在电镀的过程中，镀层金属的阳离子在待镀工件表面被还原形成镀层。

在制作锂离子电池的集流体的工艺中，通常使用电镀工艺在导电基膜上形成较厚的金属镀层，以制成集流体。该电镀工艺具体可利用镀膜机完成。

镀膜机包括镀液槽以及传送装置，镀液槽内装有镀液和阳极件，传送装置用于将导电基膜传送至镀液槽内进行电镀。为了使镀液中的镀层金属阳离子的浓度均匀，需要使镀液保持在流动状态，但同时又要避免镀液中产生大量的气泡。

基于此，本实用新型提供了一种镀膜机用镀液循环系统及镀膜机，能够保证镀液的流动性，使镀液浓度均匀，且能够防止镀液中产生过多的气泡，从而提高镀膜的均匀性。

下面通过具体的实施例对该镀液循环系统及镀膜机进行详细说明：

实施例一

本申请实施例提供了一种镀膜机用镀液循环系统，如图1所示，包括主槽1和副槽2，主槽1和副槽2内均设有镀液(图中未示出)，主槽1中的电镀液达到预设液位后能够溢流至副槽2内。

其中，如图1所示，主槽1的上方设有喷淋装置3，喷淋装置3和副槽2之间连接有循环泵4，循环泵4能够抽取副槽2中的电镀液至喷淋装置3，并由喷淋装置3喷淋至所述主槽1内。

本申请实施例提供的镀膜机用镀液循环系统，通过采用主槽1和副槽2的连接系统，当主槽1中的电镀液达到预设液位后能够溢流至副槽2内，副槽2内的电镀液又可在循环泵4和喷淋装置3的作用下补充至主槽1内，由此可实现电镀液的循环供给，使得主槽1中的电镀液液位能够始终保持在预设液位。并且由于采用了喷淋装置3向主槽1内补充镀液，不会使镀液槽内的镀液产生较大幅度的波动，因此可防止镀液槽内的镀液产生过多的气泡，提高了镀膜的均匀性。

需要说明的是，主槽1指的是在电镀工艺中对导电基膜进行电镀的槽体，导电基膜在传送装置的带动下进入主槽1内，并通过主槽1内的镀液对导电基膜进行电镀，电镀完成后由传送装置带出主槽1。

而副槽2内的镀液并不与导电基膜直接接触，其作用是为了辅助实现主槽1内镀液的流动性。并且由于导电基膜在进出主槽1时容易带出一定的镀液，因此通过将副槽2内的镀液持续补充至主槽1内还可以使主槽1内的液位始终保持在预设液位。

需要说明的是，上述预设液位可以是人为设定的液位高度，可根据实际需要进行设定，通常需保证进入主槽1内的导电基膜位于液面以下。

为了便于控制主槽1内的镀液液位，如图2所示，可在主槽1的侧壁上开设溢流口11，并将溢流口11的位置设置为高于副槽2内的镀液液位。由此可保证主槽1内的镀液能够顺利溢流至副槽2内。并且溢流口11的位置可设置为高于导电基膜在主槽1中的位置。由此，可确保进入主槽1内的导电基膜位于液面以下，保证镀膜效果。并且，当设置了溢流口11后，主槽1内的镀液液位一旦高于溢流口11就会由溢流口11溢出，因此可将副槽2对应设置于溢流口11的下方即可，副槽2可不用设置的过大，从而节省镀膜机的占地空间。需要说明的是，溢流口11可以开设一个，也可以开设多个，在此不作限定。

当循环泵4向主槽1内补充镀液的速度大于镀液由溢流口11流出的速度时，镀液有可能从主槽1的槽口处溢出，此时为了能够确保完全承接主槽1内溢出的镀液，可将副槽2的槽口设置的大些，例如可将副槽2的槽口面积设置为大于主槽1的槽口面积，且使主槽1向下的投影完全位于副槽2的槽口范围内。由此，可使副槽2承接镀液的范围完全覆盖主槽1的槽口，此时不论镀液由主槽1槽口的哪一侧溢出均可被副槽2接住。

需要说明的是，主槽1和副槽2可以是两个独立的槽体，也可以是在一个较大的槽体内设置若干隔板，通过隔板将较大的槽体分隔成上下布置或左右布置的两个较小的槽体。如图3所示，副槽2内设有一个水平隔板12和围绕该水平隔板12设置的多个竖直隔板13，该水平隔板12形成了主槽1的底板，多个竖直隔板13形成了主槽1的侧壁。其中，多个竖直隔板13直接固定于副槽2的底面，水平隔板12与竖直隔板13固定连接且与副槽2的底面之间留有间隙。竖直隔板13上对应该间隙开设有用于镀液流通的通孔131，由此可使该间隙与整个副槽2连通，使副槽2内的镀液能够流入该间隙内，从而增大了副槽2的容积。

另外，如图4所示，还可以使主槽1与副槽2共用一个底板，即仅在副槽2内设置多个侧板，使多个侧板和副槽2的底板围成主槽1。该结构可节省一个主槽1底板。如图5所示，还可以仅设置一块竖直隔板13，将一个大槽体分隔为左右布置的主槽1和副槽2，图5所示左侧为副槽2，右侧为主槽1，隔板上设有溢流口11，溢流口11的位置低于主槽1的侧壁高度。由此，仅使用一块隔板即可实现主槽1和副槽2的分隔，制作工艺简单。

其中，主槽1可以由四个侧板围成，还可以由两个相对设置的侧板和两组相对设置的挤压辊围成。具体的，如图6所示，主槽1包括相对设置的第一侧板14和第二侧板15，以及相对设置的第一挤压辊组16和第二挤压辊组17，所述第一侧板14和第二侧板15形成主槽1沿长度方向X延伸的侧壁，所述第一挤压辊组16和第二挤压辊组17形成主槽1沿宽度方向Y延伸的侧壁，每组挤压辊组均包括上下设置的两个挤压辊，主槽1内设有阳极板5，导电基膜200沿主槽1的长度方向传送，且由两个挤压辊之间通过。将主槽1两端的挡板由挤压辊代替，可便于导电基膜200进出主槽1。并且，第一挤压辊组16可用于展平导电基膜200，第二挤压辊组17用于挤压导电基膜200上附着的镀液。

由于镀液中的镀层金属的阳离子在电镀过程中不断被消耗，因此为了保证镀液中的镀层金属的阳离子浓度恒定，可在副槽2上开设原料添加口(图中未示出)，从而可通过原料添加口向副槽2内添加浓度较高的镀层金属的阳离子溶液或添加镀层金属的固体化合物，以保持镀层金属的阳离子浓度恒定。

镀液在长期使用后容易产生一些固体杂质，比如阳极板5上产生的阳极泥等。为了保持主槽1内镀液的清洁度，可在副槽2内设置过滤装置。例如，可在循环泵4的入口处连接过滤装置。过滤装置可将镀液中的固体杂质或沉淀物过滤，从而防止副槽2中的固体杂质或沉淀物再次进入到主槽1中，影响镀膜精度。过滤装置具体可以为过滤网。

具体地，喷淋装置3可以设置为图2所示的结构，喷淋装置3包括喷淋管31和开设于喷淋管31的管壁上的多个喷淋口32，喷淋管31与循环泵4的出口连通。循环泵4将副槽2内的镀液抽至喷淋管31内，然后通过多个喷淋口32喷至主槽1内，由此可使镀液更均匀的补充至主槽1中。

其中，喷淋管31可以沿主槽1的长度方向设置也可以沿主槽1的宽度方向设置。由于主槽1内沿长度方向间隔设有多个阳极件，因此将喷淋管31沿主槽1的宽度方向Y设置时，喷淋口32也可沿主槽1的宽度方向Y排列，如图6、图7所示，此时可将喷淋口32与相邻两阳极件之间的间隙相对，由此可使喷淋口32喷出的镀液由相邻两阳极板5之间的间隙进入镀液槽内，避免喷淋的镀液被阳极板5挡住而使主槽1内镀液的上层部分和下层部分的浓度不均，防止导电基膜上表面的金属镀层和导电基膜下表面的金属镀层厚度不一致。

当主槽1的宽度较宽时，远离喷淋管31入口侧的喷淋口32有可能因压力不足而出液量减少，因此可设计如图9所示的结构，即在主槽1的相对两侧均设置喷淋管31，使一个喷淋管31的覆盖范围大约仅为主槽1宽度的一半，两个喷淋管31相对设置，且分别连接一个循环泵4。由此既可以覆盖主槽1的整个宽度范围，又可以缩短单个喷淋管31的长度，从而保证喷淋管31上各个喷淋口32的出液压力。

由于喷淋装置3是由主槽1的上方向主槽1内喷洒镀液，因此镀液会先补充至主槽1内镀液的上层，然后逐渐扩散至主槽1内镀液的下层，因此上层的镀液浓度会略大于下层的镀液浓度。为了使得镀液在深度方向上更均匀，如图2所示，可在主槽1内设置供液管6，使供液管6位于主槽1内的镀液的液面以下，由此，可实现喷淋装置3由主槽1的上方供液，供液管6由主槽1的下方供液，从而可使得主槽1内镀液的上层浓度和下层浓度更接近，使导电基膜的上下表面的镀层厚度更均匀。

供液管6的结构如图2所示，供液管6的一端封闭，另一端与循环泵4的出口连通，供液管6的管壁上开设有多个供液口61，多个供液口61沿供液管6的长度方向排列。为了防止由供液管6补充的镀液直接冲击导电基膜，可将供液管6的多个供液口61的出液方向朝向主槽1的侧壁或底壁设置，由此，可使供液口61喷出的镀液被主槽1的侧壁或底壁阻挡缓冲，从而降低流速，降低对导电基膜的冲击力，保证镀膜均匀。

为了使主槽1内的各区域均能第一时间补充上镀液，可尽量使供液管6和喷淋管31覆盖更大的面积，因此，可将供液管6沿主槽1的长度方向设置，将喷淋管31沿主槽1的宽度方向设置。由此可使供液管6与喷淋管31形成十字交叉型的上下供液，从而可使供液的覆盖范围更均匀，主槽1内各部分镀液的补充更及时。在此基础上，如图11所示，喷淋管31可以布置相互平行的多个，供液管6也可以布置相互平行的多个，由此可形成网状的交叉供液，从而进一步增大供液面积。另外，如图10所示，还可以将供液管6与喷淋管31均沿主槽1的宽度方向设置，并且使供液管6和喷淋管31在竖直方向上错开。同样可实现较大的供液覆盖面积。

其中，供液管6的镀液来源可以由副槽2内供应，也可以由另一个独立的储液箱供应。当供液管6的镀液来源由副槽2供应时，可将供液管6与所述循环泵4的出口连通即可，由于主槽1和副槽2中的镀液总量不变，因此该方案中循环泵4可持续开启，使供液管6和喷淋管31持续供液。当供液管6的镀液来源由另一个独立的储液箱供应时，可将供液管6与该独立的储液箱连通，并在连接管道上设置供液泵，由于引入了新的镀液源，为了防止主槽1和副槽2中的镀液超出总容量而溢出，此方案中供液泵可按需开启或定时启停，从而根据实际需要向主槽1内补充镀液。

实施例二

本申请实施例提供了一种镀膜机，该镀膜机包括实施例一中的镀液循环系统。

本申请实施例提供的镀膜机，由于采用了第一方面的镀液循环系统。因此可防止主槽1内的镀液产生过多的气泡，提高了镀膜的均匀性。

具体地，该镀膜机可以是一种水平走膜式的镀膜机100，如图12所示，镀膜机包括主槽1、副槽2、第一传送机构101和第二传送机构102，第一传送机构101和第二传送机构102分别用于夹持水平放置的导电基膜200的相对两侧边，并带动导电基膜200沿主槽1的长度方向X移动，使导电基膜200进入主槽1内进行电镀。

图12所示的镀膜机为水平走膜方式，在镀膜时，导电基膜200整体处于镀液的液面以下，从而可避免导电基膜200局部处于镀液外时因冷却效果下降而出现电击穿现象。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的范围。

Claims (13)

1.一种镀膜机用镀液循环系统，包括：

主槽，所述主槽内设有镀液；

副槽，所述副槽内设有镀液，且所述主槽中的镀液达到预设液位后能够溢流至所述副槽内；

喷淋装置，所述喷淋装置设置于所述主槽的上方；

循环泵，所述循环泵用于抽取副槽中的电镀液至所述喷淋装置，并由所述喷淋装置喷淋至所述主槽内。

2.根据权利要求1所述的镀膜机用镀液循环系统，其特征在于，所述副槽设置于所述主槽的下方，所述副槽的槽口面积大于所述主槽向下的投影面积，且所述主槽向下的投影位于所述副槽的槽口范围内。

3.根据权利要求1所述的镀膜机用镀液循环系统，其特征在于，所述喷淋装置包括喷淋管和开设于所述喷淋管的侧壁下部的多个喷淋口，所述喷淋管与所述循环泵的出口连通。

4.根据权利要求3所述的镀膜机用镀液循环系统，其特征在于，所述主槽内设有多个沿所述主槽的长度方向间隔排列的阳极件，所述喷淋管沿所述主槽的宽度方向延伸，且所述喷淋口朝向相邻两所述阳极件之间的间隙。

5.根据权利要求3或4所述的镀膜机用镀液循环系统，其特征在于，所述主槽内还设有供液管，所述供液管与所述循环泵的出口连通，所述供液管位于所述主槽内的镀液的液面以下。

6.根据权利要求5所述的镀膜机用镀液循环系统，其特征在于，所述供液管沿所述主槽的长度方向延伸，所述喷淋管沿所述主槽的宽度方向延伸，

或所述供液管和所述喷淋管均沿所述主槽的宽度方向延伸，且所述供液管和所述喷淋管在竖直方向上错开设置。

7.根据权利要求6所述的镀膜机用镀液循环系统，其特征在于，所述供液管为多个，多个所述供液管沿水平方向平行排列，所述喷淋管为多个，多个所述喷淋管沿水平方向平行排列。

8.根据权利要求5所述的镀膜机用镀液循环系统，其特征在于，所述供液管的一端封闭，另一端与所述循环泵的出口连通，所述供液管的管壁上开设有多个供液口，多个所述供液口沿所述供液管的长度方向排列，且多个所述供液口的出液方向朝向所述主槽的侧壁或底壁。

9.根据权利要求1～3中任一项所述的镀膜机用镀液循环系统，其特征在于，所述主槽包括相对设置的第一侧板和第二侧板，以及相对设置的第一挤压辊组和第二挤压辊组，所述第一侧板和所述第二侧板形成主槽沿长度方向延伸的两侧壁，所述第一挤压辊组和所述第二挤压辊组形成主槽沿宽度方向延伸的两侧壁，所述第一挤压辊组和所述第二挤压辊组均包括上下设置的两个挤压辊。

10.根据权利要求1～3中任一项所述的镀膜机用镀液循环系统，其特征在于，所述主槽的侧壁上开设有溢流口，所述溢流口的位置高于所述副槽内的镀液液位。

11.根据权利要求1～3中任一项所述的镀膜机用镀液循环系统，其特征在于，所述循环泵的入口处连接有过滤装置。

12.根据权利要求1～3中任一项所述的镀膜机用镀液循环系统，其特征在于，所述副槽还设有原料添加口。

13.一种镀膜机，其特征在于，包括权利要求1～12中任一项所述的镀膜机用镀液循环系统。

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