CN215844479U - 一种晶圆侧表面颗粒去除用分架式清洗装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种晶圆侧表面颗粒去除用分架式清洗装置，涉及晶圆清洗装置的技术领域，包括罐体、清洗机构、循环机构，所述罐体的内部设置有支撑板，且支撑板的顶端设置有放置盘，所述循环结构位于罐体的外壁，所述清洗机构包括有位于罐体内部并贯穿至罐体外侧的连接仓，所述连接块的顶端设置有连接仓，所述连接仓的内部设置有四叶板。本实用新型通过设置清洗机构来使水泵对清洗液进行抽取时通过清洗液的流动使四叶板进行转动，四叶板在进行转动时会通过第一转杆、第二转杆来使放置盘进行转动，从而使放置盘上的晶圆进行转动，由此便可使喷管对晶圆进行冲洗，以此来增加晶圆的清洗效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及晶圆清洗装置的技术领域，具体是一种晶圆侧表面颗粒去除用分架式清洗装置。
背景技术
晶圆对微污染物的存在非常敏感，为了达成晶圆表面无污染物的目标，必须移除表面的污染物并避免在制作前让污染物重新残余在晶圆表面，因此晶圆在制造过程中，清洗尤为重要，目前晶圆清洗技术大致可分为湿式与干式两大类，仍以湿式清洗法为主流，所谓湿式化学清洗技术，是以液状酸碱溶剂与去离子水之混合物清洗晶圆表面。
但一般的清洗装置为了对晶圆的表面进行清洗都会在设备内安装多个喷头，通过喷头喷洒出的清洗液来对晶圆表面进行冲洗，此冲洗结构较为单一，部分杂质任会残留在晶圆的表面，从而导致冲洗的效果较差，且无法对清洗液进行循环利用，从而使清洗的成本增加。
实用新型内容
本实用新型的目的在于：为了解决清洗效果较差、无法对清洗液进行循环利用的问题，提供一种晶圆侧表面颗粒去除用分架式清洗装置。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种晶圆侧表面颗粒去除用分架式清洗装置，包括罐体、清洗机构、循环机构，所述罐体的内部设置有支撑板，且支撑板的顶端设置有放置盘，所述循环机构位于罐体的外壁，所述清洗机构位于罐体的外侧并贯穿至罐体的内部；
所述清洗机构包括有位于罐体内部并贯穿至罐体外侧的连接仓，所述连接仓设置在连接块顶端，所述连接仓的内部设置有四叶板，所述四叶板的一端位于连接仓的外侧设置有第六锥齿轮，所述连接仓的外侧位于第六锥齿轮的上方设置有第二转杆，且第二转杆的底端设置有第五锥齿轮，所述第二转杆的顶部设置有第二锥齿轮，所述罐体的内部设置有贯穿至罐体外侧并位于连接块上方的第一转杆，所述第一转杆的一端设置有第一锥齿轮，且第一转杆的另一端设置有第三锥齿轮，所述放置盘的底部位于支撑板的下方设置有第四锥齿轮；
所述循环机构包括有位于连接块内部的收集箱，所述连接块的内部位于收集箱的一侧设置有挡板，且挡板的顶端位于连接块的上方设置有转板。
作为本实用新型再进一步的方案：所述清洗机构还包括有位于连接块一端的水泵，所述水泵的顶端设置有与水管，且水管的一端位于放置盘的上方设置有喷管。
作为本实用新型再进一步的方案：所述放置盘与支撑板通过轴承转动连接，所述喷管的一端与放置盘中心轴线处对齐。
作为本实用新型再进一步的方案：所述四叶板与连接仓通过轴承转动连接，所述第六锥齿轮由于第五锥齿轮外侧的卡齿相啮合。
作为本实用新型再进一步的方案：所述连接块的顶部设置有与四叶板外侧相契合的凹槽。
作为本实用新型再进一步的方案：所述挡板与连接块通过轴承转动连接，所述挡板的外侧与连接块的一端直径大小相等。
作为本实用新型再进一步的方案：所述连接块的顶部设置有与收集箱相契合的凹槽，所述收集箱与连接块的内壁相贴合。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
1、通过设置清洗机构来使水泵对清洗液进行抽取时通过清洗液的流动使四叶板进行转动，四叶板在进行转动时会通过第一转杆、第二转杆来使放置盘进行转动，从而使放置盘上的晶圆进行转动，由此便可使喷管对晶圆进行冲洗，以此来增加晶圆的清洗效率；
2、通过设置循环机构来使水泵在对清洗液进行抽取时收集箱会对清洗液进行过滤，由此便可使杂质留在收集箱的内部，当对收集箱内部的杂质进行倾倒时只需转动转板，使挡板的外侧与连接块一端的内壁相贴合，此时便可对清洗液进行阻挡，之后便可取下收集箱4对杂质进行倾倒，以此来实现清洗液的循环使用。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
图2为本实用新型的连接仓的内部结构示意图；
图3为本实用新型的连接块的内部结构示意图。
图中：1、罐体；2、第一锥齿轮；3、第一转杆；4、收集箱；5、连接块；6、连接仓；7、第二转杆；8、水泵；9、水管；10、第二锥齿轮；11、第三锥齿轮；12、喷管；13、放置盘；14、支撑板；15、第四锥齿轮；16、第五锥齿轮；17、第六锥齿轮；18、四叶板；19、转板；20、挡板。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“设置”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。下面根据本实用新型的整体结构，对其实施例进行说明。
请参阅图1～3，本实用新型实施例中，一种晶圆侧表面颗粒去除用分架式清洗装置，包括罐体1、清洗机构、循环机构，罐体1的内部设置有支撑板14，且支撑板14的顶端设置有放置盘13，循环机构位于罐体1的外壁，清洗机构位于罐体1的外侧并贯穿至罐体1的内部；
清洗机构包括有位于罐体1内部并贯穿至罐体1外侧的连接仓6，所述连接仓6设置在连接块5顶端，连接仓6的内部设置有四叶板18，四叶板18的一端位于连接仓6的外侧设置有第六锥齿轮17，连接仓6的外侧位于第六锥齿轮17的上方设置有第二转杆7，且第二转杆7的底端设置有第五锥齿轮16，第二转杆7的顶部设置有第二锥齿轮10，罐体1的内部设置有贯穿至罐体1外侧并位于连接块5上方的第一转杆3，第一转杆3的一端设置有第一锥齿轮2，且第一转杆3的另一端设置有第三锥齿轮11，放置盘13的底部位于支撑板14的下方设置有第四锥齿轮15；
循环机构包括有位于连接块5内部的收集箱4，连接块5的内部位于收集箱4的一侧设置有挡板20，且挡板20的顶端位于连接块5的上方设置有转板19。
请着重参阅图1，清洗机构还包括有位于连接块5一端的水泵8，水泵8的顶端设置有与水管9，且水管9的一端位于放置盘13的上方设置有喷管12，便于将罐体1内的清洗液通过喷管12喷出。
请着重参阅图1，放置盘13与支撑板14通过轴承转动连接，喷管12的一端与放置盘13中心轴线处对齐，便于通过喷管12对放置盘13顶部的晶圆进行冲洗。
请着重参阅图2，四叶板18与连接仓6通过轴承转动连接，第六锥齿轮17由于第五锥齿轮16外侧的卡齿相啮合，便于四叶板18进行转动。
请着重参阅图1、2，连接块5的顶部设置有与四叶板18外侧相契合的凹槽，百年一遇四叶板18伸入连接块5内。
请着重参阅图3，挡板20与连接块5通过轴承转动连接，挡板20的外侧与连接块5的一端直径大小相等，便于通过挡板20对连接块5的一端进行遮挡。
请着重参阅图3，连接块5的顶部设置有与收集箱4相契合的凹槽，收集箱4与连接块5的内壁相贴合，便于对收集箱4进行放置。
本实用新型的工作原理是：在使用该设备时可先将清洗液倒入罐体1的内部，之后将晶圆扣在放置盘13的顶部，摆动喷管12使喷管12与放置盘13平行，之后启动水泵8，此时水泵8便会通过连接块5对罐体1内的清洗液进行抽取，抽取出的清洗液会进入水管9内由喷管12喷出，而水泵8在抽取清洗液时通过连接块5内清洗液的流动来拨动四叶板18进行转动，四叶板18在进行转动时会通过第六锥齿轮17、第五锥齿轮16带动第二转杆7进行转动，第二转杆7在进行转动时会通过第二锥齿轮10、第三锥齿轮11带动第一转杆3进行转动，第一转杆3在进行转动时便会通过第一锥齿轮2、第四锥齿轮15带动放置盘13进行转动，从而使放置盘13上的晶圆进行转动，之后配合着喷管12所喷出的清洗液来对晶圆进行冲洗，以此来使杂质落入罐体1内，此时水泵8在对清洗液进行抽取时清洗液会通过收集箱4进行过滤，由此便可使杂质留在收集箱4的内部，当对收集箱4内部的杂质进行倾倒时只需转动转板19，使挡板20的外侧与连接块5一端的内壁相贴合，此时便可对清洗液进行阻挡，之后便可取下收集箱4对杂质进行倾倒。
以上所述的，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种晶圆侧表面颗粒去除用分架式清洗装置，包括罐体（1）、清洗机构、循环机构，其特征在于，所述罐体（1）的内部设置有支撑板（14），且支撑板（14）的顶端设置有放置盘（13），所述循环机构位于罐体（1）的外壁，所述清洗机构位于罐体（1）的外侧并贯穿至罐体（1）的内部；
所述清洗机构包括有位于罐体（1）内部并贯穿至罐体（1）外侧的连接仓（6），所述连接仓（6）设置在连接块（5）顶端，所述连接仓（6）的内部设置有四叶板（18），所述四叶板（18）的一端位于连接仓（6）的外侧设置有第六锥齿轮（17），所述连接仓（6）的外侧位于第六锥齿轮（17）的上方设置有第二转杆（7），且第二转杆（7）的底端设置有第五锥齿轮（16），所述第二转杆（7）的顶部设置有第二锥齿轮（10），所述罐体（1）的内部设置有贯穿至罐体（1）外侧并位于连接块（5）上方的第一转杆（3），所述第一转杆（3）的一端设置有第一锥齿轮（2），且第一转杆（3）的另一端设置有第三锥齿轮（11），所述放置盘（13）的底部位于支撑板（14）的下方设置有第四锥齿轮（15）；
所述循环机构包括有位于连接块（5）内部的收集箱（4），所述连接块（5）的内部位于收集箱（4）的一侧设置有挡板（20），且挡板（20）的顶端位于连接块（5）的上方设置有转板（19）。
2.根据权利要求1所述的一种晶圆侧表面颗粒去除用分架式清洗装置，其特征在于，所述清洗机构还包括有位于连接块（5）一端的水泵（8），所述水泵（8）的顶端设置有与水管（9），且水管（9）的一端位于放置盘（13）的上方设置有喷管（12）。
3.根据权利要求2所述的一种晶圆侧表面颗粒去除用分架式清洗装置，其特征在于，所述放置盘（13）与支撑板（14）通过轴承转动连接，所述喷管（12）的一端与放置盘（13）中心轴线处对齐。
4.根据权利要求1所述的一种晶圆侧表面颗粒去除用分架式清洗装置，其特征在于，所述四叶板（18）与连接仓（6）通过轴承转动连接，所述第六锥齿轮（17）由于第五锥齿轮（16）外侧的卡齿相啮合。
5.根据权利要求1所述的一种晶圆侧表面颗粒去除用分架式清洗装置，其特征在于，所述连接块（5）的顶部设置有与四叶板（18）外侧相契合的凹槽。
6.根据权利要求1所述的一种晶圆侧表面颗粒去除用分架式清洗装置，其特征在于，所述挡板（20）与连接块（5）通过轴承转动连接，所述挡板（20）的外侧与连接块（5）的一端直径大小相等。
7.根据权利要求1所述的一种晶圆侧表面颗粒去除用分架式清洗装置，其特征在于，所述连接块（5）的顶部设置有与收集箱（4）相契合的凹槽，所述收集箱（4）与连接块（5）的内壁相贴合。
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