CN212190272U

CN212190272U - 一种多晶硅片表面淋洗装置

Info

Publication number: CN212190272U
Application number: CN202020425651.6U
Authority: CN
Inventors: 杨世豪; 顾夏斌; 赖玮晟
Original assignee: Suzhou Aojing Photovoltaic Technology Co ltd
Current assignee: Suzhou Aojing Photovoltaic Technology Co ltd
Priority date: 2020-03-30
Filing date: 2020-03-30
Publication date: 2020-12-22
Anticipated expiration: 2030-03-30

Abstract

本实用新型公开了一种多晶硅片表面淋洗装置，包括外框、电机座、轴承座、电机、转轴、凸轮、升降框、多晶硅片固定框、淋洗喷嘴、储水槽、基座；外框螺接在基座中部，外框两侧设有电机座和轴承座，电机座上安置电机，转轴一端穿过轴承座，转轴上设两个凸轮，两个凸轮带动两个升降框交替升降，多晶硅片固定框固定多晶硅片，随着两个升降框的交替升降，多晶硅片交替翻转，淋洗喷嘴穿过外框左右侧壁，储水槽用于收集淋洗液，位于基座下方。本实用新型一种多晶硅片表面淋洗装置能够实现多晶硅片两面的同时淋洗，水流与多晶硅片的表面冲淋夹角始终小于90°，水流能沿着多晶硅片表面流走，同时带走多晶硅片表面的杂质，淋洗效果好。

Description

一种多晶硅片表面淋洗装置

技术领域

本实用新型涉及一种多晶硅片表面淋洗装置。

背景技术

多晶硅片是制备太阳能电池的主要材料，多晶硅片在经过研磨、抛光等加工工序后，多晶硅片表面会残留大量的杂质，因此需要利用纯水清洗多晶硅片的表面，然后才能将多晶硅片进行制绒过程。

现阶段的做法是采用纯水浸泡或冲洗的方式对多晶硅片进行清洗。多晶硅片两面都需要清洗，因此需要在清洗完一面后进行翻面；目前，多采用人工翻面，该方法一方面需要先停下冲洗，然后再翻面，然后再冲洗，致使冲洗过程效率较低；另一方面用于制造太阳能电池的多晶硅片一般尺寸较大，人工翻面难度大，且容易在翻面的过程中损伤多晶硅片。

另外，采用淋洗方式清洗多晶硅片时，淋洗液垂直淋洗多晶硅片表面，淋洗液溅射范围小，且对多晶硅片冲击点的冲击力大。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种多晶硅片表面淋洗装置，该淋洗装置能够实现多晶硅片两面的同时淋洗，水流与多晶硅片的表面冲淋夹角始终小于90°，水流能沿着多晶硅片表面流走，同时带走多晶硅片表面的杂质，淋洗效果好。

为了实现上述目的，本实用新型的技术方案是设计一种多晶硅片表面淋洗装置，包括外框、电机座、轴承座、电机、转轴、凸轮、升降框、多晶硅片固定框、淋洗喷嘴、储水槽、基座；

所述外框为长方体盒状，外框底部通过螺接的方式固定在基座中部，外框上部开口，在外框的左右壁板上从上至下设有若干个用于插入淋洗喷嘴的喷淋孔，在外框前后侧内壁上分别设有两条滑槽，在外框底部设有一个用于排水的通孔；所述升降框有两个，两个升降框相互平行设置，且升降框的左右两侧分别在外框前后侧内壁上的滑槽内上下滑移，升降框上端向后弯折，形成弯折端，在弯折端下方设有用于避让转轴的槽，在升降框的中下部设有长槽，长槽里从上至下设有若干个横杆，所述多晶硅片固定框有若干个，每个横杆穿过一个多晶硅片固定框一端，多晶硅片固定框一端可以沿着横杆上下翻转；所述多晶硅片固定框远离横杆的一端设有用于嵌入多晶硅片的槽，两个升降框上相对位置上的多晶硅片固定框各自固定多晶硅片的一端；所述电机座、轴承座分设在基座两端，且位于外框的左右两侧；所述电机设置在电机座上，电机连接转轴；转轴另一端穿过轴承座上的轴承；所述转轴上设有两个凸轮，两个凸轮的凸起端朝向不同，两个凸轮分别位于两个升降框的弯折端下方，通过凸轮可将升降框顶起；所述淋洗喷嘴一端插入喷淋孔，另一端连接水泵；所述基座通过螺接方式固定在储水槽上部，基座中央设有连通外框底部通孔的小孔。

进一步的，所述外框底部设有向下凹陷的槽，向下凹陷的槽边沿为斜坡面。

进一步的，所述转轴上设有两处外螺纹，两处外螺纹位于升降框弯折端下方；所述凸轮通过螺接的方式固定到转轴的外螺纹处；两个凸轮朝向相反。

进一步的，所述储水槽内设有滤网。

进一步的，所述储水槽通过管道连接水泵，与淋洗喷嘴形成循环水路。

进一步的，所述电机为步进电机。

本实用新型的优点和有益效果在于：

1、利用两个升降框的交替升降来实现多晶硅片在冲洗时的交替翻转，使得多晶硅片表面被均匀淋洗；

2、相比传统淋洗工艺中垂直淋洗多晶硅片，本实用新型采用淋洗液斜方向冲淋多晶硅片，淋洗液喷溅的范围更广，而淋洗液对多晶硅片的冲击点的冲击力远小于传统淋洗工艺。

3、利用储水槽回收淋洗液，利用滤网和循环水路能够实现淋洗液的多次利用。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为本实用新型的剖开示意图。

图3为本实用新型各部件的分解示意图。

图4为升降框和多晶硅片固定框的示意图。

图5为外框的局部剖切示意图。

其中，外框1、喷淋孔1-1、滑槽1-2、通孔1-3、向下凹陷的槽1-4、电机座2、轴承座3、电机4、转轴5、凸轮6、升降框7、多晶硅片固定框8、淋洗喷嘴9、储水槽10、基座11。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案，而不能以此来限制本实用新型的保护范围。

实施例：

一种多晶硅片表面淋洗装置，包括外框1、电机座2、轴承座3、电机4、转轴5、凸轮6、升降框7、多晶硅片固定框8、淋洗喷嘴9、储水槽10、基座11；

所述外框1为长方体盒状，外框1底部通过螺接的方式固定在基座11中部，外框1上部开口，在外框1的左右壁板上从上至下设有若干个用于插入淋洗喷嘴9的喷淋孔1-1，在外框1前后侧内壁上分别设有两条滑槽1-2，在外框1底部设有一个用于排水的通孔1-3；所述升降框7有两个，两个升降框7相互平行设置，且升降框7的左右两侧分别在外框1前后侧内壁上的滑槽1-2内上下滑移，升降框7上端向后弯折，形成弯折端，在弯折端下方设有用于避让转轴5的槽，在升降框7的中下部设有长槽，长槽里从上至下设有若干个横杆，所述多晶硅片固定框8有若干个，每个横杆穿过一个多晶硅片固定框8一端，多晶硅片固定框8一端可以沿着横杆上下翻转；所述多晶硅片固定框8远离横杆的一端设有用于嵌入多晶硅片A的槽，两个升降框7上相对位置上的多晶硅片固定框8各自固定多晶硅片A的一端；所述电机座2、轴承座3分设在基座11两端，且位于外框1的左右两侧；所述电机4设置在电机座2上，电机4连接转轴5；转轴5另一端穿过轴承座3上的轴承；所述转轴5上设有两个凸轮6，两个凸轮6的凸起端朝向不同，两个凸轮6分别位于两个升降框7的弯折端下方，通过凸轮6可将升降框7顶起；所述淋洗喷嘴9一端插入喷淋孔1-1，另一端连接水泵；所述基座11通过螺接方式固定在储水槽10上部，基座11中央设有连通外框1底部通孔1-3的小孔。

所述外框1底部设有向下凹陷的槽1-4，向下凹陷的槽1-4边沿为斜坡面，便于淋洗液顺着斜坡面流过通孔1-3后进入储水槽10。

所述转轴5上设有两处外螺纹，两处外螺纹位于升降框7弯折端下方；所述凸轮6通过螺接的方式固定到转轴5的外螺纹处；两个凸轮6朝向相反。

所述储水槽10内设有滤网。图中未画出，通过滤网可以过滤杂质，将杂质留在滤网上，淋洗液穿过滤网，并留在储水槽10底部。

所述储水槽10通过管道连接水泵，与淋洗喷嘴9形成循环水路。经过滤网过滤的淋洗液可循环利用。

所述电机4为步进电机。

使用过程：将多晶硅片A逐个安装到多晶硅片固定框8内，启动电机4，转轴5带动凸轮6转动，一个升降框7抬起，另一个升降框8下落；外框1左右两侧的淋洗喷嘴9对多晶硅片A的两侧进行冲淋，淋洗液水平喷射，而多晶硅片A与水平面形成夹角，因此，淋洗液斜方向冲淋到多晶硅片A表面，淋洗液沿着倾斜的多晶硅片A表面将杂质冲淋到外框1底部，并通过外框1底部的通孔1-3流入储水槽10内。随着电机4驱动转轴5的转动，凸轮6将两个升降框7交替抬起，多晶硅片4的两端交替抬起落下，淋洗液能够交替冲击多晶硅片表面的不同位置，使得冲刷更彻底。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

Claims

1.一种多晶硅片表面淋洗装置，其特征在于：包括外框、电机座、轴承座、电机、转轴、凸轮、升降框、多晶硅片固定框、淋洗喷嘴、储水槽、基座；

2.根据权利要求1所述的一种多晶硅片表面淋洗装置，其特征在于：所述外框底部设有向下凹陷的槽，向下凹陷的槽边沿为斜坡面。

3.根据权利要求1所述的一种多晶硅片表面淋洗装置，其特征在于：所述转轴上设有两处外螺纹，两处外螺纹位于升降框弯折端下方；所述凸轮通过螺接的方式固定到转轴的外螺纹处；两个凸轮朝向相反。

4.根据权利要求1所述的一种多晶硅片表面淋洗装置，其特征在于：所述储水槽内设有滤网。

5.根据权利要求4所述的一种多晶硅片表面淋洗装置，其特征在于：所述储水槽通过管道连接水泵，与淋洗喷嘴形成循环水路。

6.根据权利要求4所述的一种多晶硅片表面淋洗装置，其特征在于：所述电机为步进电机。