CN208758278U - 一种硅片清洗机 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种硅片清洗机，包括机架，所述机架上依次设置有多个清洗槽，清洗槽被隔板和过滤网分隔为清洗室和进料室，所述进料室上设置有进料口，清洗室通过排料口与下一级清洗槽的清洗室连通，本实用新型使用时清洗室内清洗液的上层清液通过排料口进入到下一级清洗槽中，杂质被清洗室底部的过滤网阻挡在进料室内，从而实现清洗液的循环利用和硅片的逐级清洗，大大提高了硅片的清洗质量和清洗效果；同时本实用新型还通过电机和偏心轮实现了清洗架在清洗室内的往复运动，其与传统的静置清洗方式相比，对硅片上的顽固污渍清洗更加彻底，大大降低了硅片表面的污渍残留，提高了硅片的清洗效果。

Description

一种硅片清洗机

技术领域

本实用新型涉及半导体加工设备技术领域，具体涉及一种硅片清洗机。

背景技术

太阳能是一种可再生资源，因其具有广泛的来源和极低的获取成本而成为应用最广泛的新能源种类之一，现有技术中主要通过太阳能电池板将光能转化为电能加以利用，而太阳能电池板根据使用材质的不同又氛围硅太阳能电池、有机太阳能电池等，其中硅太阳能电池是应用最成熟的一种太阳能电池板；硅太阳能电池板所使用的单晶硅片在加工过程中极易附着颗粒、有机物、金属等杂质，这些杂质如果不能及时清除将严重影响太阳能电池的性能，而现有技术中的清洗设备的清洗效果较差，同时其在清洗硅片的同时还会产生大量的废水，远远不能满足现有技术的要求，因此需要一种清洗效果更好的清洗装置。

公开号为CN206435531U的中国实用新型专利于2017年8月25日公开了一种循环节水式太阳能硅片预清洗设备，包括清洗槽，所述清洗槽一侧固定设置有L型挂架，L型挂架包括固定设置在清洗槽一侧的竖板和位于清洗槽上的横板，横板前后侧均设置有横向滑轨，横板上设置有沿横向滑轨往复运动的提拉机构，提拉机构下端连接有镂空清洗箱，清洗槽下端设置有出水口，出水口通过管道连接有处理池，处理池内壁上设置有喷淋管道，喷淋管道与处理池通过循环管道连通，本实用新型具有结构简单，清洗无死角，喷淋水循环利用，节约环保，清洗效率高的优点。

发明内容

针对现有技术中存在的清洗效果差、污染严重的缺陷，本实用新型公开了一种硅片清洗机，采用本实用新型能够提高硅片的清洗效果，同时还能够对清洗产生的污水进行循环再利用，大大降低污水的排放压力，提高企业的经济效益。

本实用新型通过以下技术方案实现上述目的：

一种硅片清洗机，包括机架，其特征在于：所述机架上依次设置有多个清洗槽；所述清洗槽内被隔板分隔为清洗室和进料室，所述清洗室与进料室之间通过滤网隔离，所述清洗室通过排料口与下一极清洗槽的进料室连通；所述机架两侧设置有滑轨和滑槽，所述滑轨上设置有多个与清洗室相适配的清洗架；所述机架上还滑动设置有滑杆，所述滑杆穿过滑槽与清洗架相连；所述机架上还设置有电机，所述电机与滑杆之间通过偏心轮和连杆相连。

所述进料室上还设置有进料管，所述排料口内设置有过滤网。

所述机架上还设置有控制器，所述清洗室内设置有pH传感器和浑浊度传感器，所述浑浊度传感器和pH传感器与控制器相连。

所述进料室底部还设置有排料管，所述进料管和排料管上均设置有电磁阀，所述电磁阀与控制器相连。

所述机架上还设置有与控制器相连的超声波发生装置。

所述滑杆与机架之间设置有直线运动轴承。

所述清洗架与滑轨之间设置有滚珠和安全块。

所述机架上还设置有与清洗室相适配的防波板，所述防波板上设置有漏孔。

与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果：

1、本实用新型的机架上依次设置有多个清洗槽，清洗槽被隔板和过滤网分隔为清洗室和进料室，所述进料室上设置有进料口，清洗室通过排料口与下一级清洗槽的清洗室连通，本实用新型使用时清洗室内清洗液的上层清液通过排料口进入到下一级清洗槽中，杂质被清洗室底部的过滤网阻挡在进料室内，从而实现清洗液的循环利用和硅片的逐级清洗，大大提高了硅片的清洗质量和清洗效果；同时本实用新型还通过电机和偏心轮实现了清洗架在清洗室内的往复运动，其与传统的静置清洗方式相比，对硅片上的顽固污渍清洗更加彻底，大大降低了硅片表面的污渍残留，提高了硅片的清洗效果。

2、本实用新型的进料室上设置有进料管，所述排料口内设置有过滤网，通过排料口将本级可使用的清洗液注入到下一级的清洗槽内，实现清洗液的循环利用，同时通过进料管对本级清洗槽内的清洗液进行补充，保证清洗槽内的清洗液内的杂质始终处于允许的范围内，在保证清洗质量的前提下实现清洗液的循环利用，降低生产成本。

3、本实用新型的机架上设置有控制器，所述清洗室内设置有pH传感器和浑浊度传感器，通过pH传感器和浑浊度传感器实时监测清洗液的pH值和浑浊度，及时将报废的清洗液排出，保证清洗液的纯度，提高设备的自动化程度和工作效率，同时降低了设备操作对于工人素质的要求，有利于提高工厂的运转效率。

4、本实用新型的进料管和排料管上均设置有电磁阀，所述电磁阀与控制器相连，实现清洗液的自动加料和自动排料，提高设备的自动化程度，从而提高清洗效率。

5、本实用新型的机架上设置有超声波发生装置，通过超声波振荡清洗硅片表面，使硅片表面的顽固污渍能够得到更彻底的清洗，从而提高其清洗质量。

6、本实用新型滑杆与机架之间设置有直线运动轴承，所述清洗架与滑轨之间设置有滚珠和安全块，降低滑杆和清洗架的运动阻力，使设备的运行更加顺畅，同时避免机械部件之间剧烈摩擦产生的大量金属屑掉落到清洗液中造成污染，提高清洗的质量。

7、本实用新型在机架上设置有与清洗室相适配的防波板，所述防波板上设置有漏孔，降低因清洗架来回运动引起的清洗液波动幅度，一方面防止液体飞溅，另一方面降低清洗液中的悬浮颗粒，提高清洗质量。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

附图标记：1、机架，2、清洗槽，3、清洗室，4、进料室，5、过滤网，6、排料口，7、滑轨，8、滑槽，9、清洗架，10、滑杆，11、电机，12、偏心轮，13、连杆，14、进料管，15、控制器，16、pH传感器，17、浑浊度传感器，18、排料管，19、电磁阀，20、超声波发生装置，21、直线运动轴承，22、滚珠，23、安全块，24、防波板，25、漏孔。

具体实施方式

下面将通过具体实施例对本实用新型作进一步说明：

实施例1

本实施例作为本实用新型的最佳实施例，其公开了一种硅片清洗机，其具体结构如图1所示，包括机架1，所述机架1上一次设置有多个清洗槽2，所述清洗槽2内被竖直设置的隔板和水平设置的过滤网5分隔为清洗室3和进料室4，所述机架1的两侧设置有滑轨7和滑槽8，所述滑轨7上通过滚珠22滚动连接有与清洗槽2相适配的清洗架9，所述清洗架9上设置有防止清洗架9左右晃动和侧翻的安全块23；所述清洗室3的顶部和底部分别设置有进料管14和排料管18，所述清洗室3上设置有与下一极清洗槽2的进料室4相连通的排料口6，所述排料口6内设置有过滤网5；所述机架1上还设置有电机11，电机11的输出轴上设置有偏心轮12，所述偏心轮12上铰接有连杆13，连杆13的另一端与设置于机架1上的滑杆10相连，所述滑杆10通过直线运动轴承21滑动安装与机架1上，所述滑杆10上设置有连接杆26，所述连接杆26穿过滑槽8与清洗架9相连；所述机架1上设置有控制器15，所述清洗室3内设置有pH传感器16和浑浊度传感器17，且所述浑浊度传感器17和pH传感器16分别与控制器15的输入端相连；所述进料室4底部还设置有排料管18，且进料管14和排料管18上均设置有电磁阀19，所述电磁阀19和电机11分别与控制器15的输出端相连；所述机架1上还设置有与清洗室3相对应的超声波发生装置20，所述超声波发生装置20与控制器15相连；所述机架1上铰接有防波板24，防波板24的大小与清洗室3相适配，且防波板24上设置有漏孔25。

本实用新型使用时首先将盛放有硅片的篮筐固定安装于最后一级的清洗室内的清洗架上，然后关闭防波板，再通过控制器启动设备，电机通过偏心轮和连杆带动清洗架在清洗室内做往复运动，以除去硅片表面附着的顽固污渍；当达到规定的清洗时间后取出放入到上一级清洗槽内直至所有的清洗槽内均放置有硅片，清洗液从最高一级清洗槽中开始注入，并从清洗室底部的过滤网进入到清洗室内，同时通过超声波发生装置对硅片进行超声波振荡；本实用新型实现了清洗液的循环利用和硅片的逐级清洗，其中清洗液与硅片的流动方向刚好相反，使纯度最高的清洗液清洗表面嘴清洁的硅片，其一方面提高了质量，另一方面提高了清洗液的利用效率；本实用新型具有清洁效果好，清洗液循环利用率高等优点。

Claims (8)

1.一种硅片清洗机，包括机架（1），其特征在于：所述机架（1）上依次设置有多个清洗槽（2）；所述清洗槽（2）内被隔板分隔为清洗室（3）和进料室（4），所述清洗室（3）与进料室（4）之间通过滤网（5）隔离，所述清洗室（3）通过排料口（6）与下一极清洗槽（2）的进料室（4）连通；所述机架（1）两侧设置有滑轨（7）和滑槽（8），所述滑轨（7）上设置有多个与清洗室（3）相适配的清洗架（9）；所述机架（1）上还滑动设置有滑杆（10），所述滑杆（10）穿过滑槽（8）与清洗架（9）相连；所述机架（1）上还设置有电机（11），所述电机（11）与滑杆（10）之间通过偏心轮（12）和连杆（13）相连。

2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗机，其特征在于：所述进料室（4）上还设置有进料管（14），所述排料口（6）内设置有过滤网（5）。

3.根据权利要求1所述的一种硅片清洗机，其特征在于：所述机架上还设置有控制器（15），所述清洗室（3）内设置有pH传感器（16）和浑浊度传感器（17），所述浑浊度传感器（17）和pH传感器（16）与控制器（15）相连。

4.根据权利要求2所述的一种硅片清洗机，其特征在于：所述进料室（4）底部还设置有排料管（18），所述进料管（14）和排料管（18）上均设置有电磁阀（19），所述电磁阀（19）与控制器（15）相连。

5.根据权利要求1所述的一种硅片清洗机，其特征在于：所述机架（1）上还设置有与控制器（15）相连的超声波发生装置（20）。

6.根据权利要求1所述的一种硅片清洗机，其特征在于：所述滑杆（10）与机架（1）之间设置有直线运动轴承（21）。

7.根据权利要求1所述的一种硅片清洗机，其特征在于：所述清洗架（9）与滑轨（7）之间设置有滚珠（22）和安全块（23）。

8.根据权利要求1所述的一种硅片清洗机，其特征在于：所述机架（1）上还设置有与清洗室（3）相适配的防波板（24），所述防波板（24）上设置有漏孔（25）。