CN206076206U - 一种硅片清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种硅片清洗装置，其中，包括清洗系统、清洗液循环系统和水循环系统，所述清洗系统包括洗涤槽，所述洗涤槽内具有清洗腔和漂洗腔，所述清洗液循环系统和清洗腔贯通连接，所述水循环系统和漂洗腔贯通连接，所述洗涤槽的侧壁上设置有若干个上喷头，所述洗涤槽的底面上设置有若干个下喷头，所述洗涤槽中间的隔离架的两侧均可拆卸设置有硅片夹，所述隔离架一侧的硅片夹向下延伸到清洗腔内，所述隔离架另一侧的硅片夹向下延伸到所述和漂洗腔内。由于本实用新型具有清洗系统、清洗液循环系统和水循环系统，使得本实用新型清洗效率高且节约水资源。

Description

一种硅片清洗装置

技术领域

本实用新型涉及及半导体器件制造技术领域，具体涉及一种硅片清洗装置。

背景技术

硅片是太阳能电池的载体，硅片质量的好坏直接决定了太阳能电池转换效率的高低，而影响硅片质量好坏的一个重要因素是硅片表面的洁净度，因此，为了使得太阳能电池具有较高的转换效率，需要保证硅片表面具有较高的洁净度。因此，有必要对硅片进行清洗，其中，清洗过程包括前期的化学药液清洗和后期的漂洗，现有的硅片清洗装置清洗效率低，且容易造成大量水资源的浪费。因此急需发展一种清洗效率高，且节约水资源的硅片清洗装置。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型提供一种清洗效率高且节约水资源的硅片清洗装置。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种硅片清洗装置，其中，包括清洗系统、清洗液循环系统和水循环系统，所述清洗系统包括洗涤槽，所述洗涤槽内具有清洗腔和漂洗腔，所述清洗液循环系统和清洗腔贯通连接，所述水循环系统和漂洗腔贯通连接，所述洗涤槽的侧壁上设置有若干个上喷头，所述洗涤槽的底面上设置有若干个下喷头，所述洗涤槽中间的隔离架的两侧均可拆卸设置有硅片夹，所述隔离架一侧的硅片夹向下延伸到清洗腔内，所述隔离架另一侧的硅片夹向下延伸到所述和漂洗腔内。

进一步地，所述清洗液循环系统包括加热装置、储液桶和过滤装置，所述储液桶通过管道连接在加热装置和过滤装置之间。

进一步地，所述水循环系统包括粗过滤装置、精过滤装置和水箱，所述精过滤装置通过管道连接在粗过滤装置和水箱之间。

更进一步地，所述过滤装置的上端通过管道与所述清洗腔底部的排液口相连接。

更进一步地，所述粗过滤装置的上端通过管道与所述漂洗腔底部的排液口相连接。

更进一步地，所述加热装置的上端通过管道与所述清洗腔内的上喷头和下喷头相贯通。

更进一步地，所述水箱的上端通过管道与所述漂洗腔内的上喷头和下喷头相贯通。

更进一步地，所述加热装置和储液桶之间设置有泵。

更进一步地，所述清洗腔和漂洗腔内的上喷头和下喷头均倾斜设置。

更进一步地，所述水箱内储存的为去离子水。

从上述的技术方案可以看出，本实用新型的优点是：

1、采用喷淋的清洗方式，不仅清洗效率高，而且清洗效果好；

2、对水资源的的利用率高，不会造成大量纯水的浪费，节约水资源。

除了上面所描述的目的、特征和优点之外，本实用新型还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图，对本实用新型作进一步详细的说明。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在附图中：

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是本实用新型的局部结构示意图。

图中标记为：

清洗系统－1、清洗腔－11、漂洗腔－12、清洗液循环系统－2、加热装置－21、储液桶－22、泵－23、过滤装置－24、水循环系统－3、粗过滤装置－31、精过滤装置－32、水箱－33、上喷头－4、硅片夹－5、洗涤槽－6、隔离架－61、排液口－62、开口－63、管道－7、下喷头－8、硅片－9。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

参考图1至图2，如图1所示的一种硅片清洗装置，包括清洗系统1、清洗液循环系统2和水循环系统3，所述清洗系统1包括洗涤槽6，所述洗涤槽6内具有清洗腔11和漂洗腔12，所述清洗液循环系统2和清洗腔11贯通连接，所述水循环系统3和漂洗腔12贯通连接，所述洗涤槽6的侧壁上设置有若干个上喷头4，所述洗涤槽6的底面上设置有若干个下喷头8，如图2所示，所述洗涤槽6中间的隔离架61的两侧均可拆卸设置有硅片夹5，所述隔离架61一侧的硅片夹5向下延伸到清洗腔11内，所述隔离架61另一侧的硅片夹5向下延伸到所述和漂洗腔12内，所述硅片夹5用于夹持硅片9，结构简单，使用方便，清洗效率高。

如图1和图2所示，所述清洗液循环系统2包括加热装置21、储液桶22和过滤装置24，所述储液桶22通过管道7连接在加热装置21和过滤装置24之间，所述过滤装置24的上端通过管道7与所述清洗腔11底部的排液口62相连接，所述加热装置21的上端通过管道7与所述清洗腔11内的上喷头4和下喷头8相贯通，所述加热装置21和储液桶22之间设置有泵23，所述清洗腔11内的溶液为碱性溶液，能够有效去除硅片上槽和通孔中的颗粒和污染物，提高清洗效果。

所述水循环系统3包括粗过滤装置31、精过滤装置32和水箱33，所述精过滤装置32通过管道7连接在粗过滤装置31和水箱33之间，所述粗过滤装置31的上端通过管道7与所述漂洗腔12底部的排液口62相连接，所述水箱33的上端通过管道7与所述漂洗腔12内的上喷头4和下喷头8相贯通，所述水箱33内储存的为去离子水，可有效去除硅片9上的残留物。

所述上喷头4和下喷头8均倾斜设置，采用喷淋清洗，可以减少硅片9所受的正向压力，减小了破损率，清洗液斜向喷淋，不仅清洗效率高，而且清洗效果较好。

所述洗涤槽6的上端具有开口63，从清洗腔11清洗后的硅片9可从清洗腔11的开口63取出，再从漂洗腔12的开口63送入到漂洗腔12内，进行漂洗。

清洗腔11内的清洗液从清洗腔11底部的排液口62排出，经过过滤装置24过滤后，送入储液桶22中，储液桶22内的清洗液在泵23的作用下，通过加热装置21加热后，进入到清洗腔11内，所述储液桶22还与外界连接有进液管。

漂洗腔12内的去离子水从漂洗腔12底部的排液口62排出，依次经过粗过滤装置31和精过滤装置32过滤后，流入水箱33内，再从水箱33送入漂洗腔12内，对水资源的的利用率高，不会造成大量纯水的浪费，节约水资源。

以上仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种硅片清洗装置，其特征在于，包括清洗系统(1)、清洗液循环系统(2)和水循环系统(3)，所述清洗系统(1)包括洗涤槽(6)，所述洗涤槽(6)内具有清洗腔(11)和漂洗腔(12)，所述清洗液循环系统(2)和清洗腔(11)贯通连接，所述水循环系统(3)和漂洗腔(12)贯通连接，所述洗涤槽(6)的侧壁上设置有若干个上喷头(4)，所述洗涤槽(6)的底面上设置有若干个下喷头(8)，所述洗涤槽(6)中间的隔离架(61)的两侧均可拆卸设置有硅片夹(5)，所述隔离架(61)一侧的硅片夹(5)向下延伸到清洗腔(11)内，所述隔离架(61)另一侧的硅片夹(5)向下延伸到所述和漂洗腔(12)内。

2.根据权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述清洗液循环系统(2)包括加热装置(21)、储液桶(22)和过滤装置(24)，所述储液桶(22)通过管道(7)连接在加热装置(21)和过滤装置(24)之间。

3.根据权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述水循环系统(3)包括粗过滤装置(31)、精过滤装置(32)和水箱(33)，所述精过滤装置(32)通过管道(7)连接在粗过滤装置(31)和水箱(33)之间。

4.根据权利要求2所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述过滤装置(24)的上端通过管道(7)与所述清洗腔(11)底部的排液口(62)相连接。

5.根据权利要求3所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述粗过滤装置(31)的上端通过管道(7)与所述漂洗腔(12)底部的排液口(62)相连接。

6.根据权利要求4所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述加热装置(21)的上端通过管道(7)与所述清洗腔(11)内的上喷头(4)和下喷头(8)相贯通。

7.根据权利要求5所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述水箱(33)的上端通过管道(7)与所述漂洗腔(12)内的上喷头(4)和下喷头(8)相贯通。

8.根据权利要求2所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述加热装置(21)和储液桶(22)之间设置有泵(23)。

9.根据权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述清洗腔(11)和漂洗腔(12)内的上喷头(4)和下喷头(8)均倾斜设置。

10.根据权利要求3所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述水箱(33)内储存的为去离子水。