CN204167273U - 一种循环清洗槽 - Google Patents

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郑淑刚
李朝
赵爱爽
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Jingao Solar Co Ltd
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Abstract

本实用新型一种循环清洗槽,包括槽体、循环管道、循环泵和回流管道,槽体内装有清洗晶体硅片用的介质,循环管道连通槽体和处于槽体外部的循环泵,循环泵还连通回流管道,回流管道重新接入槽体内,实现槽体内的介质循环;槽体的顶部还设有带阀门的入口管道,入口管道将介质液源和槽体连通;循环管道从槽体内部延伸到槽体顶部,在槽体顶部分出后延伸向循环泵并与循环泵连接,入口管道在槽体的顶部连接到循环管道中,形成入口管道和循环管道的一体式结构;该结构利用入口管道的主动注液功能和液体的虹吸原理,将槽体内的介质引流至循环泵,使介质不通过重力直接进入循环管道,解决了介质进入循环管道时压力过大破坏循环管道和槽体的焊接部位的问题。

Description

一种循环清洗槽
技术领域
本实用新型涉及一种硅片清洗设备,特别是一种适用于非自吸式泵的循环清洗槽。
背景技术
现阶段多数太阳能电池均以半导体材料为基础,让光电材料吸收光能,再从光电转化效应中获得电能。晶体硅片有较好的光电转化效率,污染隐患又比较小,故在本领域的应用最为广泛。在太阳能电池的晶体硅制作过程中,必须祛除晶体硅片表面的杂质,以保证后续的加工能在一个洁净光滑的晶体硅片表面上进行。
在现有技术中,不少用户会使用带循环管道的清洗槽来清洗晶体硅片,清洗槽中装有液体状的介质,这样既能用流动中的介质来清洗晶体硅片以获得更好的清洗效果和提高清洗效率,又能节省介质。图1所示的为这种清洗槽的一般结构,槽体1的底部焊接有将其与循环泵3的入口端连通的循环管道2,循环泵3的出口端与回流管道4连接,回流管4在槽体1顶部重新接入槽体1内,形成一个闭合的介质回路;连接了介质源(附图未展示)并自带阀门的入口管道5在槽体1的顶部接入槽体1,在必要的时候,为槽体1供应新的介质。
该结构的主要缺点在于,由于循环泵多数为非自吸式泵,介质往往需要通过自重流入循环管道和循环泵内,这样便会经常让循环管道和槽体焊接的部位承受较大的压力,容易导致材料损坏和介质泄露;此外,在槽体的底部开孔,再在开孔处将槽体与循环管道焊接在一起,不仅工序复杂,也不便于循环管道的维修和更换。由于介质多为酸碱腐蚀性液体,一旦泄露会造成很严重的安全隐患。因此清洗槽结构的可靠性直接关系到操作人员的安全,有必要改进现有技术中的清洗槽结构,以提高其可靠性和安装更换的便利性。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种将介质通过循环管道引流至循环泵时不会因为产生过大压力破坏循环管道和槽体的焊接部位的清洗槽结构。
为达到该目的,本实用新型采取的技术方案是:一种循环清洗槽,包括槽体、循环管道、循环泵和回流管道,槽体内装有清洗晶体硅片用的介质,循环管道连通槽体和处于槽体外部的循环泵的入口端,循环泵的出口端连通回流管道,回流管道重新接入槽体内,实现槽体内的介质的循环;槽体的顶部还设有带阀门的入口管道,入口管道将介质液源和槽体连通;其特征在于,循环管道从槽体内部延伸到槽体顶部,在槽体顶部分出后延伸向循环泵并与循环泵连接,入口管道在槽体的顶部连接到循环管道中,形成入口管道和循环管道的一体式结构。
上述结构的优选方案为:循环泵所处位置的垂直高度低于槽体的底部,回流管道在槽体的顶部重新接入槽体,循环管道从槽体顶部分出的位置与回流管道在槽体顶部重新接入槽体的位置分别处于槽体内部相对的两侧,循环管道处于槽体内的部分的长度值大于槽体高度值的1/2;此外,所述的循环泵应为非自吸式泵。
上述结构带来的有益效果是:
1.用一体式结构组合连通介质液源的入口管道和循环管道,将循环管道从槽体上分出的位置以及入口管道接入循环管道的位置设于槽体的底部,再将循环泵设在低于槽体底部的位置,让来自介质液源的介质通过入口管道注满整个循环管道,切断入口管道的阀门后,槽体内的介质便会因为液体分子之间的粘附特性而跟随循环管道内的介质流向处于较低的位置的循环泵,只要开动循环泵,便能启动整个清洗槽的循环工作,让流过循环泵的介质通过回流管道重新进入槽体;这种结构利用入口管道的主动注液功能和液体的虹吸原理,将槽体内的介质引流至循环泵,使介质不通过重力直接进入循环管道,解决了介质进入循环管道时压力过大破坏循环管道和槽体的焊接部位的问题。
2.将循环管道从槽体顶部分出的位置与回流管道在槽体顶部重新接入槽体的位置分别设置于槽体内部相对的两侧,确保从回流管道重新进入槽体内部的介质要经过较长时间才被再次引流入循环管道和循环泵,使循环更彻底。
附图说明
图1是现有技术的循环清洗槽的结构示意图;
图2是本实用新型的循环清洗槽的结构示意图;
附图标记:1.槽体;2.循环管道;3.循环泵;4.回流管道;
5.入口管道;6.阀门;7.介质。
具体实施方式
如图2所示的是本实用新型的循环清洗槽,与现有技术相同的是,它包括槽体1和循环管道2,槽体1内装有清洗晶体硅片用的介质7,循环管道2连通槽体1和处于槽体1外部的循环泵3的入口端,循环泵3的出口端连通回流管道4,回流管道4重新接入槽体1内,实现槽体1内介质7的循环。
与现有技术不同的是,在本实用新型中,循环管道2并非如图1所示的在槽体1底部焊接到槽体1底部的开孔处,而是从槽体1内部延伸到槽体1顶部,在槽体1顶部分出后延伸向循环泵3并与循环泵3的入口端连接,而连通介质液源(附图未显示)的入口管道5在槽体1的顶部连接到循环管道2中,形成入口管道5和循环管道2的一体式结构。
如图2所示,循环泵3所处位置的垂直高度低于槽体1的底部;回流管道4连通循环泵3的出口端,并在槽体1的顶部重新接入槽体1;循环管道2从槽体1顶部分出的位置与回流管道4在槽体1顶部重新接入槽体1的位置分别处于槽体1内部相对的两侧,循环管道2处于槽体1内的部分的长度值大于槽体高度值的1/2,循环泵1应为非自吸式泵。
使用本实用新型的循环清洗槽时,应先打开入口管道的阀门6,让介质液源(附图未显示)中的介质流入循环管道2,直到在通往槽体1内部和循环泵2的2个方向上注满整个循环管道2为止;当操作人员关闭阀门6后,由于循环管道2在槽体1顶部分出的位置与循环管道2连通循环泵2的入口端的位置存在液位差,因此槽体1内的介质7便会遵循虹吸原理,并基于液体的分子粘附特性,跟随循环管道2内部的介质7流向循环泵3,排空循环泵3内的空气,迅速进入工作状态,将循环管道2内的介质7完全抽到回流管道4和槽体1中,实现槽体1内介质7的循环。
上述结构使介质不通过自身重力直接进入循环管道,解决了介质进入循环管道时因压力过大而破坏循环管道和槽体的焊接部位的问题;同时,循环管道从槽体顶部分出的位置与回流管道在槽体顶部重新接入槽体的位置分别设置于槽体内部相对的两侧,确保从回流管道重新进入槽体内部的介质要经过较长时间才被再次引流入循环管道和循环泵,使介质的循环更彻底。
本实用新型的实施方式不受上述实施例的限定,利用本领域的普通知识和惯用技术手段,在不脱离本实用新型的技术思想的前提下,可以对本实用新型做出其它形式的修改和替换,但经过修改和替换的技术方案均应落在本实用新型的权利保护范围内。

Claims (6)

1.一种循环清洗槽,包括槽体、循环管道、循环泵和回流管道,槽体内装有清洗晶体硅片用的介质,循环管道连通槽体和处于槽体外部的循环泵的入口端,循环泵的出口端连通回流管道,回流管道重新接入槽体内,实现槽体内的介质的循环;槽体的顶部还设有带阀门的入口管道,入口管道将介质液源和槽体连通;其特征在于:循环管道从槽体内部延伸到槽体顶部,在槽体顶部分出后延伸向循环泵并与循环泵连接,入口管道在槽体的顶部连接到循环管道中,形成入口管道和循环管道的一体式结构。
2.根据权利要求1所述的循环清洗槽,其特征是:所述的循环泵所处位置的垂直高度低于槽体的底部。
3.根据权利要求2所述的循环清洗槽,其特征是:所述的回流管道在槽体的顶部重新接入槽体。
4.根据权利要求3所述的循环清洗槽,其特征是:循环管道从槽体顶部分出的位置与回流管道在槽体顶部重新接入槽体的位置分别处于槽体内部相对的两侧。
5.根据权利要求4所述的循环清洗槽,其特征是:循环管道处于槽体内的部分的长度值大于槽体高度值的1/2。
6.根据权利要求1-5中任意一项所述的循环清洗槽,其特征是:所述的循环泵为非自吸式泵。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106623212A (zh) * 2016-12-13 2017-05-10 苏州羽美尚精密机械有限公司 一种清洗半导体器件的清洗槽
CN110681635A (zh) * 2019-11-07 2020-01-14 佛山市顺德区骏达电子有限公司 一种虹吸溢流水洗槽

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