CN215785199U - 一种刻蚀机的清洗机构及刻蚀机 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种刻蚀机的清洗机构和刻蚀机，用于硅片清洗，清洗机构包括至少两个滚轮组、喷淋管和喷淋罩；滚轮组包括相对平行成对设置的上滚轮和下滚轮，上滚轮和下滚轮之间形成硅片传输通道；喷淋管用于向硅片表面喷射清洗液；靠近清洗机构的出料端设置的滚轮组为压水滚轮组，用于将硅片表面残留液体挤压干净；沿着硅片传输通道，在压水滚轮组两侧形成进料区域和出料区域；喷淋罩设置于硅片传输通道上方并罩住压水滚轮组，喷淋罩设置有导流结构，用于将喷溅的清洗液引导至压水滚轮组的进料区域。本实用新型实施例提供的清洗机构，可以避免液体残留在硅片上，可以提升从压水滚轮组出料区域送出的硅片的干净程度，有助于提升硅片质量。

Description

一种刻蚀机的清洗机构及刻蚀机

技术领域

本实用新型涉及太阳能光伏电池技术领域，特别是涉及一种刻蚀机的清洗机构及刻蚀机。

背景技术

在太阳能光伏电池的生产制造中，对硅片的清洗是一道必不可少的工序。

目前，在实际生产过程中，为了避免清洗过程中液体的溅射，在清洗机构位置安装有喷淋保护罩，以防止喷射出来的液体四处溅射。

然而，现有的喷淋保护罩虽然可以实现液体向外部的溅射，但是，在喷淋保护罩内部，溅射的液体仍会反弹到压水滚轮组出料位置的干净硅片上，导致液体残留，降低了硅片质量。

实用新型内容

本实用新型提供一种刻蚀机的清洗机构及刻蚀机，以解决现有硅片清洗工序中，溅射的液体仍会反弹到压水滚轮组出料位置的干净硅片上，导致液体残留，降低了硅片质量的问题。

本实用新型提供了一种刻蚀机的清洗机构，用于硅片清洗，所述清洗机构包括至少两个滚轮组、喷淋管和喷淋罩；

所述滚轮组包括相对平行成对设置的上滚轮和下滚轮，所述上滚轮和所述下滚轮之间形成硅片传输通道；

所述喷淋管用于向所述硅片表面喷射清洗液；

靠近所述清洗机构的出料端设置的滚轮组为压水滚轮组，所述压水滚轮组用于将所述硅片表面残留液体挤压干净；沿着所述硅片传输通道，在所述压水滚轮组两侧形成所述压水滚轮组的进料区域和出料区域；

所述喷淋罩设置于所述硅片传输通道上方并罩住所述压水滚轮组，所述喷淋罩设置有导流结构，所述导流结构用于将喷溅的清洗液引导至所述压水滚轮组的进料区域。

可选地，所述滚轮组还包括支撑滚轮组，所述喷淋罩至少罩住最靠近所述压水滚轮组的支撑滚轮组。

可选地，所述喷淋罩包括至少三个挡板和顶板；

至少三个所述挡板与所述顶板相互连接形成所述喷淋罩；

所述顶板设置在所述挡板远离所述硅片传输通道的方向，并且相对于所述硅片传输通道倾斜布置，以形成所述导流结构。

可选地，所述挡板包括第一端板、第二端板、第一侧板和第二侧板；

沿所述压水滚轮组的轴向，所述第一端板和所述第二端板相对设置，沿垂直于所述压水滚轮组的轴向，所述第一侧板和所述第二侧板相对设置，所述第一侧板和第二侧板连接所述第一端板和所述第二端板形成四方罩体；所述顶板与所述挡板相抵接；

所述第二侧板的高度高于所述第一侧板的高度，所述第一端板、第二端板与第一侧板连接的一端的高度与第一侧板的高度相同，所述第一端板、第二端板与第二侧板连接的一端的高度与第二侧板的高度相同；

其中，所述第二侧板靠近所述清洗机构的出料端设置。

可选地，所述喷淋罩包括第一端板板、第二端板、弧形盖板和导流板；

沿所述支撑滚轮组的轴向，所述第一端板和所述第二端板相对设置，所述弧形盖板连接所述第一端板和所述第二端板，形成所述喷淋罩；

所述导流板固定于所述弧形盖板的内壁形成所述导流结构。

可选地，所述导流挡板以第一预设方向固定于所述弧形盖板的内壁的第一预设位置；

所述第一预设方向为所述导流板延伸指向所述压水滚轮组出料区域的方向，所述第一预设位置为所述弧形盖板的顶部与所述弧形盖板靠近所述压水滚轮组的进料方向的最低点之间的位置。

可选地，所述导流挡板以第二预设方向固定于所述弧形盖板的内壁的第二预设位置；

所述第二预设方向为所述导流板延伸指向所述压水滚轮组进料区域的方向，所述第二预设位置为所述弧形盖板的顶部与所述弧形盖板靠近所述压水滚轮组的出料方向的最低点之间的位置。

可选地，所述喷淋管包括第一喷淋管和第二喷淋管；

靠近所述压水滚轮组的进料区域，在所述硅片传输通道下方设置有所述第一喷淋管，所述第一喷淋管用于朝进料方向向所述硅片下表面喷射清洗液；

靠近所述压水滚轮组的进料区域，所述硅片传输通道上方设置有所述第二喷淋管，所述第二喷淋管用于朝进料方向向所述硅片上表面喷射清洗液。

本实用新型还提供了一种刻蚀机，包括前述的任一种刻蚀机的清洗机构。

可选地，所述刻蚀机还包括烘干槽，所述烘干槽设置于所述压水滚轮组的出料区域。

本实用新型实施例提供的清洗机构，通过在喷淋罩上设置导流结构，该导流结构可将喷淋管喷射出的清洗液引导至压水滚轮组的进料区域，避免液体残留在硅片上，可以提升从压水滚轮组出料区域送出的硅片的干净程度，有助于提升硅片质量。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对本实用新型实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1示出了本实用新型实施例的一种刻蚀机的俯视示意图；

图2示出了本实用新型实施例的一种刻蚀机的沿硅片运动方向的侧视图；

图3示出了本实用新型实施例的第一种喷淋罩的示意图；

图4示出了本实用新型实施例中应用图3喷淋罩的清洗机构沿垂直硅片运动方向的侧视图；

图5示出了本实用新型实施例的第二种喷淋罩的示意图；

图6示出了本实用新型实施例中应用图5喷淋罩的清洗机构沿垂直硅片运动方向的侧视图；

图7示出了本实用新型实施例的第三种喷淋罩的示意图；

图8示出了本实用新型实施例中应用图7喷淋罩的清洗机构沿垂直硅片运动方向的侧视图。

附图标记说明：

10-硅片，20-清洗机构，30-烘干槽，21-滚轮组，22-喷淋管，23-喷淋罩，221-第一喷淋管，222-第二喷淋管，231-挡板，232-顶板，233-弧形盖板，234-导流板，2311-第一端板，2312-第二端板，2313-第一侧板，2314-第二侧板。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

参照图1至图4，本实用新型实施例提供了一种刻蚀机的清洗机构20，用于硅片10清洗，所述清洗机构20包括至少两个滚轮组21、喷淋管22和喷淋罩23；

所述滚轮组21包括相对平行成对设置的上滚轮和下滚轮，所述上滚轮和所述下滚轮之间形成硅片传输通道；

所述喷淋管22用于向所述硅片10表面喷射清洗液；

靠近所述清洗机构20的出料端S设置的所述滚轮组21为压水滚轮组，所述压水滚轮组用于将所述硅片10表面残留液体挤压干净；沿着所述硅片传输通道，在所述压水滚轮组两侧形成所述压水滚轮组的进料区域和出料区域；

所述喷淋罩23设置于所述硅片传输通道上方并罩住所述压水滚轮组，所述喷淋罩23设置有导流结构，所述导流结构用于将所述喷淋管23喷射出的清洗液引导至所述压水滚轮组的进料区域。

具体而言，如图1所示，给出了本实用新型实施例中刻蚀机的清洗机构20的俯视图的简化示意，图1中，硅片10在滚轮组21的带动下实现沿水平方向的移动传送。结合图2的示意，上滚轮和下滚轮在清洗机构20中相对平行设置，上滚轮和下滚轮之间形成硅片传输通道，在上下两个滚轮的摩擦力作用下，硅片10从清洗机构20的进料端传送至出料端S。喷淋管22则布设在清洗机构20进料端和出料端S之间的区域中，用于向硅片10表面喷射清洗液，对硅片10进行清洗。

结合图3和图4的示意，靠近清洗机构20的出料端S位置设置上滚轮和下滚轮为压水滚轮组，图示中，硅片10朝向压水滚轮组运动的方向为压水滚轮组的进料区域，也即图示的压水滚轮组左侧，也可以理解为压水滚轮组来料方向的区域，进料区域也可以一直延伸到与压水滚轮组最近的支撑滚轮组的前方，进料区域与喷淋罩23配合，一直延伸到喷淋罩23中导流机构将水可以导流到的区域。硅片10远离压水滚轮组运动的方向为压水滚轮组的出料区域，也即图示的压水滚轮组右侧。冲洗后的硅片10输送至压水滚轮组的进料区域，经过压水滚轮组中上下两个滚轮的挤压作用，可将残留液体清除干净，继而从清洗机构20的出料端S位置送出。

由于本实用新型实施例中的喷淋罩23设置于硅片10上表面一侧，且喷淋罩23设置有导流结构，该导流结构用于将喷淋管22喷射出的清洗液引导至压水滚轮组的进料区域。因此，当前面的硅片即将完成清洗，后面的硅片即将进入清洗机构20内时，在喷淋罩23导流结构的引导作用下，喷淋管22喷射或者溅射到喷淋罩23内壁的液体可以顺着结构表面流到压水滚轮组的进料区域，这部分液体可以被压水滚轮组挤压清除。从而，从压水滚轮组的出料区域送出的硅片10无残留液体。

本实用新型实施例提供的清洗机构，通过在喷淋罩上设置导流结构，该导流结构可将喷淋管喷射出的清洗液引导至压水滚轮组的进料区域，避免液体残留在硅片上，可以提升从压水滚轮组出料区域送出的硅片的干净程度，有助于提升硅片质量。

可选地，参照图4，所述滚轮组21还包括支撑滚轮组，所述的喷淋罩23至少罩住最靠近压水滚轮组的支撑滚轮组。

具体而言，如图4所示，一种实施方式中，该清洗机构20中还可以由支撑滚轮组实现硅片10的支撑传输，则除了将靠近清洗机构20的出料端S位置设置的上滚轮和下滚轮作为压水滚轮组，其它滚轮组21的上滚轮和下滚轮均可以作为支撑滚轮组用于硅片10传输。因此，可以理解的是，为了避免传输空隙中清洗液的飞溅，喷淋罩23至少还可以罩住最靠近压水滚轮组的支撑滚轮组。当然，尽管图4中以一组支撑滚轮组作为示例，但支撑滚轮组可以为多组，以实现多片硅片10的连续传输。

可选地，参照图3和图4，所述喷淋罩23包括至少三个挡板231和顶板232；

至少三个挡板231和所述顶板232相互连接形成所述喷淋罩23；

所述顶板232设置在所述挡板231远离所述硅片传输通道的方向，与所述挡板232相抵接，并且相对于所述硅片传输通道倾斜布置，以形成所述导流结构。

具体而言，如图3和图4所示，一种实施方式中，上述的喷淋罩23可以为一体注塑或熔接的壳体结构。该喷淋罩23可以包括至少三个挡板231围成的侧面维护结构以及遮盖在侧面维护结构顶部的顶板232，阻止液体溅射到外部。

喷淋罩23安装在清洗机构20上之后，顶板232设置在挡板231远离硅片传输通道的方向，与挡板232相抵接，从而形成足够的容纳空间，以容纳上下滚轮和喷淋管22。并且，顶板232相对于硅片传输通道倾斜布置，以形成导流结构。

结合图4的示意，沿硅片10的传送方向，顶板232的高度逐渐变高相对硅片10倾斜布置，即形成图4中左低右高的造型。容易理解的是，当液体喷射或者溅射到喷淋罩23的内壁时，附着在顶板232内壁的液体沿其倾斜的方向流到挡板231的内壁，顺沿挡板231的内壁流至图4中虚线框M示意的压水滚轮组的进料区域。

因此，通过将喷淋罩23的顶板232倾斜布置，从而可以引导液体流至压水滚轮组的进料区域区域，对这部分液体进行挤压清除。

可选地，参照图3和图4，所述挡板231包括第一端板2311、第二端板2312、第一侧板2311和第二侧板2314；

沿所述压水滚轮组的轴向，所述第一端板2311和所述第二端板2312相对设置，沿垂直于所述压水滚轮组的轴向，所述第一侧板2313和所述第二侧板2314相对设置，所述第一侧板2313和第二侧板2314连接所述第一端板2311和所述第二端板2312形成四方罩体；所述顶板232与所述挡板231相抵接；

所述第二侧板2314的高度高于所述第一侧板2313的高度，所述第一端板2311、第二端板2312与第一侧板2313连接的一端的高度与第一侧板2313的高度相同，所述第一端板2311、第二端板2312与第二侧板2314连接的一端的高度与第二侧板2314的高度相同；

其中，所述第二侧板2314靠近所述清洗机构20的出料端S设置。

具体而言，如图3和图4所示，一种实施方式中，前述的挡板231可以包括四面连接围合的第一端板2311、第二端板2312、第一侧板2311和第二侧板2314。第一端板2311和第二端板2312沿压水滚轮组的轴向相对设置，第一侧板2313和第二侧板2314沿垂直于压水滚轮组的轴向相对设置，四个板件从四面围合隔离，避免清洗液的飞溅。并且，四个板件所围合形成的四方罩体中，第二侧板2314的高度高于第一侧板2313的高度，第一端板2311、第二端板2312与第一侧板2313连接的一端的高度与第一侧板2313的高度相同，第一端板2311、第二端板2312与第二侧板2314连接的一端的高度与第二侧板2314的高度相同。在喷淋罩23安装在清洗机构20上之后，第二侧板2314靠近清洗机构20的出料端S设置。

结合图4的示意，沿硅片10的传送方向，顶板232的高度逐渐变高相对硅片10倾斜布置，即形成图4中左低右高的造型。容易理解的是，当液体喷射或者溅射到喷淋罩23的内壁时，附着在顶板232内壁的液体沿其倾斜的方向流到第一侧板2311的内壁，顺沿第一侧板2311的内壁流至图4中虚线框M示意的压水滚轮组的进料区域。

实际应用中，还可将第一端板2311和第二端板2312设计为梯形，即沿压水滚轮组的轴向，第一端板2311和第二端板2312的投影为梯形，梯形靠近压水滚轮组出料区域的长度大于梯形靠近压水滚轮组进料区域的长度，顶板232与第一端板2311和第二端板2312的斜边连接形成导流结构。

因此，通过将喷淋罩23的顶板倾斜布置，从而可以引导液体流至压水滚轮组的进料区域区域，对这部分液体进行挤压清除。

可选地，参照图5至图8，所述喷淋罩23包括第一端板2311、第二端板2312、弧形盖板233和导流板234；

沿所述支撑滚轮组的轴向，所述第一端板2311和所述第二端板2312相对设置，所述弧形盖板233连接所述第一端板2311和所述第二端板2312，形成所述喷淋罩23；

所述导流板234固定于所述弧形盖板233的内壁形成所述导流结构。

具体而言，如图5至图8所示，一种实施方式中，上述的喷淋罩23可以为一体注塑或熔接的壳体结构。该喷淋罩23可以包括第一端板2311、第二端板2312、弧形盖板233和导流板234。沿支撑滚轮组的轴向，第一端板2311和第二端板2312相对设置，弧形盖板233连接在第一端板2311和第二端板2312之间，第一端板2311、第二端板2312和弧形盖板233三个板件的边缘连接在一起形成罩体，阻止液体溅射到外部。

结合图6或图8的示意，导流板234则固定在弧形盖板233的内壁，需要说明的是，导流板234的固定位置和朝向并不唯一。导流板234在喷淋罩23的内部起到阻挡引流的作用。当液体喷射或者溅射到喷淋罩23的内壁时，附着在弧形盖板233内壁的液体沿其倾斜的方向流到导流板234的表面，顺沿导流板234的内壁流至图6或图8中虚线框M示意的压水滚轮组的进料区域。

因此，通过在喷淋罩的内壁设置导流板，可以引导液体流至压水滚轮组的进料区域，对这部分液体进行挤压清除。

可选地，所述导流板234以第一预设方向固定于所述弧形盖板233的内壁的第一预设位置；

所述第一预设方向为所述导流板234延伸指向所述压水滚轮组出料区域的方向，所述第一预设位置为所述弧形盖板233的顶部与所述弧形盖板233靠近所述压水滚轮组的进料方向的最低点之间的位置。

具体而言，如图5和图6所示，一种实施方式中，可将导流板234固定连接在弧形盖板233的顶部与弧形盖板233靠近压水滚轮组进料方向的最低点之间的位置，结合图6的示意，该位置即弧形盖板233的内壁顶部且位于压水滚轮组的进料区域。并且，导流板234延伸指向压水滚轮组出料区域的方向，也即指向清洗机构20出料位置。因此，导流板234可以阻止液体溅射到压水滚轮组的出料区域，在导流板234和弧形盖板233的收拢聚合作用下，液体滴落在压水滚轮组的进料区域M区域，对这部分液体进行挤压清除。

可选地，所述导流板234以第二预设方向固定于所述弧形盖板233的内壁的第二预设位置；

所述第二预设方向为所述导流板234延伸指向所述压水滚轮组进料区域的方向，所述第二预设位置为所述弧形盖板233的顶部与所述弧形盖板233靠近所述压水滚轮组的出料方向的最低点之间的位置。

具体而言，如图7和图8所示，一种实施方式中，可将导流板234固定连接在弧形盖板233的顶部与弧形盖板233靠近压水滚轮组的出料方向的最低点之间的位置，结合图8的示意，该位置即弧形盖板233靠近压水滚轮组的出料区域的内壁。并且，导流板234延伸指向清洗机构20进料位置。因此，导流板234可以阻止液体溅射到压水滚轮组的出料区域，在导流板234和弧形盖板233的收拢聚合作用下，液体滴落在压水滚轮组的进料区域M区域，对这部分液体进行挤压清除。

可选地，所述喷淋管22包括第一喷淋管221和第二喷淋管222；

靠近所述压水滚轮组的进料区域，在所述硅片传输通道下方设置有所述第一喷淋管221，所述第一喷淋管221用于朝进料方向向所述硅片10下表面喷射清洗液；

靠近所述压水滚轮组的进料区域，所述硅片传输通道上方设置有所述第二喷淋管222，所述第二喷淋管222用于朝进料方向向所述硅片10上表面喷射清洗液。

具体而言，如图4所示，一种实施方式中，在硅片10送入的过程中，由位于硅片10下方的第一喷淋管221朝进料方向向硅片10下表面喷射清洗液，对硅片10的下表面进行冲洗，即沿图4所示的A方向进行喷射清洗。还可以由位于硅片10上方的第二喷淋管222朝进料方向向硅片10上表面喷射清洗液，对硅片10的上表面进行冲洗，即沿图4所示的B方向进行喷射清洗。因而，可以利用硅片10上下两侧的两个喷淋管实现不同表面的清洁。喷淋罩23则可以避免上下两个喷淋管造成的液体飞溅。

本实用新型实施例还提供了一种刻蚀机，包括前述任一种刻蚀机的清洗机构20。

具体而言，本实用新型实施例中可将前述的任一种清洗机构20集成在刻蚀机中，即可以在刻蚀机中完成刻蚀、酸洗、碱洗之后便在同一设备中对硅片10进行清洗，可以有效节省转运时间，并且清洗质量更高。

可选地，参照图1和图4，所述刻蚀机还包括烘干槽30，所述烘干槽30设置于所述压水滚轮组的出料区域。

具体而言，如图1和图4所示，一种实施方式中，上述的刻蚀机还包括烘干槽30，烘干槽30设置于压水滚轮组的出料一侧。利用烘干槽30可以对压水滚轮组送出的硅片10进一步烘干，使水分充分挥发。可以理解的是，烘干槽30和清洗机构20之间可以设置物理隔离结构，例如隔板，以避免清洗工序对烘干工序的干扰影响。还可以在烘干槽30中设置风刀，由风刀吹出高速气流，可快速地对硅片10进行烘干。

需要说明的是，在本文中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者装置不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者装置所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括该要素的过程、方法、物品或者装置中还存在另外的相同要素。

上面结合附图对本实用新型的实施例进行了描述，但是本实用新型并不局限于上述的具体实施方式，上述的具体实施方式仅仅是示意性的，而不是限制性的，本领域的普通技术人员在本实用新型的启示下，在不脱离本实用新型宗旨和权利要求所保护的范围情况下，还可做出很多形式，这些均属于本实用新型的保护之内。

Claims (10)

1.一种刻蚀机的清洗机构，用于硅片清洗，其特征在于，所述清洗机构包括至少两个滚轮组、喷淋管和喷淋罩；

所述滚轮组包括相对平行成对设置的上滚轮和下滚轮，所述上滚轮和所述下滚轮之间形成硅片传输通道；

所述喷淋管用于向所述硅片表面喷射清洗液；

靠近所述清洗机构的出料端设置的滚轮组为压水滚轮组，所述压水滚轮组用于将所述硅片表面残留液体挤压干净；沿着所述硅片传输通道，在所述压水滚轮组两侧形成所述压水滚轮组的进料区域和出料区域；

所述喷淋罩设置于所述硅片传输通道上方并罩住所述压水滚轮组，所述喷淋罩设置有导流结构，所述导流结构用于将喷溅的清洗液引导至所述压水滚轮组的进料区域。

2.根据权利要求1所述的刻蚀机的清洗机构，其特征在于，所述滚轮组还包括支撑滚轮组，所述喷淋罩至少罩住最靠近所述压水滚轮组的支撑滚轮组。

3.根据权利要求1所述的刻蚀机的清洗机构，其特征在于，所述喷淋罩包括至少三个挡板和顶板；

至少三个所述挡板与所述顶板相互连接形成所述喷淋罩；

所述顶板设置在所述挡板远离所述硅片传输通道的方向，并且相对于所述硅片传输通道倾斜布置，以形成所述导流结构。

4.根据权利要求3所述的刻蚀机的清洗机构，其特征在于，所述挡板包括第一端板、第二端板、第一侧板和第二侧板；

沿所述压水滚轮组的轴向，所述第一端板和所述第二端板相对设置，沿垂直于所述压水滚轮组的轴向，所述第一侧板和所述第二侧板相对设置，所述第一侧板和第二侧板连接所述第一端板和所述第二端板形成四方罩体；所述顶板与所述挡板相抵接；

所述第二侧板的高度高于所述第一侧板的高度，所述第一端板、第二端板与第一侧板连接的一端的高度与第一侧板的高度相同，所述第一端板、第二端板与第二侧板连接的一端的高度与第二侧板的高度相同；

其中，所述第二侧板靠近所述清洗机构的出料端设置。

5.根据权利要求2所述的刻蚀机的清洗机构，其特征在于，所述喷淋罩包括第一端板板、第二端板、弧形盖板和导流板；

沿所述支撑滚轮组的轴向，所述第一端板和所述第二端板相对设置，所述弧形盖板连接所述第一端板和所述第二端板，形成所述喷淋罩；

所述导流板固定于所述弧形盖板的内壁形成所述导流结构。

6.根据权利要求5所述的刻蚀机的清洗机构，其特征在于，所述导流挡板以第一预设方向固定于所述弧形盖板的内壁的第一预设位置；

所述第一预设方向为所述导流板延伸指向所述压水滚轮组出料区域的方向，所述第一预设位置为所述弧形盖板的顶部与所述弧形盖板靠近所述压水滚轮组的进料方向的最低点之间的位置。

7.根据权利要求5所述的刻蚀机的清洗机构，其特征在于，所述导流挡板以第二预设方向固定于所述弧形盖板的内壁的第二预设位置；

所述第二预设方向为所述导流板延伸指向所述压水滚轮组进料区域的方向，所述第二预设位置为所述弧形盖板的顶部与所述弧形盖板靠近所述压水滚轮组的出料方向的最低点之间的位置。

8.根据权利要求1所述的刻蚀机的清洗机构，其特征在于，所述喷淋管包括第一喷淋管和第二喷淋管；

靠近所述压水滚轮组的进料区域，在所述硅片传输通道下方设置有所述第一喷淋管，所述第一喷淋管用于朝进料方向向所述硅片下表面喷射清洗液；

靠近所述压水滚轮组的进料区域，所述硅片传输通道上方设置有所述第二喷淋管，所述第二喷淋管用于朝进料方向向所述硅片上表面喷射清洗液。

9.一种刻蚀机，其特征在于，包括权利要求1-8任一项所述的刻蚀机的清洗机构。

10.根据权利要求9所述的刻蚀机，其特征在于，所述刻蚀机还包括烘干槽，所述烘干槽设置于所述压水滚轮组的出料区域。

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