CN215727751U - 一种mask自动检测设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种MASK自动检测设备，属于掩模板检测设备领域，其通过检测主体中支撑组件、检测平台和检测组件的对应设置，可准确实现待检产品的可靠支撑和准确限位，并实现检测单元在支撑台/完成限位的待检产品上方的三维空间内的对应运动，进而实现待检产品的全面检测。本实用新型的MASK自动检测设备，其结构简单，设置简便，能快速、准确地实现MASK产品的限位固定和扫描检测，简化MASK产品的检测过程，提升MASK产品的检测效率和检测质量，为MASK产品的准确应用提供了保证，具有较好地实用价值和应用前景。

Description

一种MASK自动检测设备

技术领域

本实用新型属于掩模板检测设备领域，具体涉及一种MASK自动检测设备。

背景技术

在光刻制备领域，掩模板(Mask)的应用十分广泛，其往往作为微纳米加工技术应用时的图形母版。在常见的MAC设备中，MASK的表面经常会存在异物、刮伤、凸点等缺陷，需要进行人工检测。

由于金属掩模板(Metal Mask)的重量一般较大，导致一般的检测设备难以承载并检测，进而无法满足对MASK的检测需求，制约了相关设备的应用以及相关产品的加工、制备。

实用新型内容

针对现有技术的以上缺陷或改进需求中的一种或者多种，本实用新型提供了一种MASK自动检测设备，能有效实现MASK(掩模板)的上料、定位和检测，确保MASK使用状态的可靠性，减少相关加工误差的产生。

为实现上述目的，本实用新型提供一种MASK自动检测设备，包括底板和设置于该底板上的检测主体，

所述检测主体包括支撑组件、检测平台和检测组件；

所述支撑组件包括支撑台和限位件；所述支撑台用于待检产品的支撑，所述限位件设置在支撑台上，用于对所述待检产品进行限位；

所述检测组件设置在所述检测平台上，其包括检测单元和位移组件；所述检测单元匹配设置于所述位移组件上，并可在该位移组件的带动下实现所述支撑台上方三维空间内的位移调整。

作为本实用新型的进一步改进，所述检测平台与所述支撑组件彼此分离设置。

作为本实用新型的进一步改进，所述支撑台的底部设置有同步升降机构，用于实现所述支撑台的升降控制。

作为本实用新型的进一步改进，所述检测平台包括竖向间隔设置的第一平台和第二平台；所述第二平台支撑设置于所述底板上，所述第一平台通过多个减震组件支撑设置于该第二平台的上方。

作为本实用新型的进一步改进，所述位移组件设置在第一平台上，其包括第一平移单元、第二平移单元和第三平移单元；

所述第一平移单元为分设于所述支撑台两侧的两个，并在两第一平移单元上设置有门架；所述门架跨设所述支撑台设置，并可沿所述第一平移单元的轴向往复运动；

所述第二平移单元设置在所述门架上，所述第三平移单元设置在所述第二平移单元上，并使得所述第三平移单元可在两所述第一平移单元之间往复运动；且所述检测单元设置在所述第三平移单元上，并可在该第三平移单元的带动下进行竖向往复升降。

作为本实用新型的进一步改进，所述检测单元为高倍率显微镜。

作为本实用新型的进一步改进，所述限位件包括若干用于所述待检产品进行宽度方向限位的第一限位件和若干用于所述待检产品进行长度方向限位的第二限位件。

作为本实用新型的进一步改进，所述第一限位件设置在位移机构上，使得该第一限位件可在待检产品宽度方向上往复位移；

和/或

所述第二限位件设置在位移机构上，使得该第二限位件可在该待检产品长度方向上往复位移。

作为本实用新型的进一步改进，所述支撑台上对应待检产品的四角处分别同时设置有所述第一限位件和所述第二限位件。

作为本实用新型的进一步改进，还包括照射于所述检测主体外侧的外罩；所述外罩上开设有进出料口和/或进出人口；且所述外罩外设置有操作台、气柜和/或电柜。

上述改进技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。

总体而言，通过本实用新型所构思的以上技术方案与现有技术相比，具有的有益效果包括：

(1)本实用新型的MASK自动检测设备，其通过检测主体中支撑组件、检测平台和检测组件的对应设置，可准确实现待检产品的可靠支撑和准确限位，并实现检测单元在支撑台/完成限位的待检产品上方的三维空间内的对应运动，进而实现待检产品的全面检测，提升了MASK产品检测的效率和精度，减少了MASK产品检测过程中的人力成本，为MASK产品的可靠应用提供了保障。

(2)本实用新型的MASK自动检测设备，其通过支撑组件与检测平台的彼此分离设置，避免了两者之间的震动影响，保证了待检产品检测过程中的准确性；再通过检测平台中第一平台与第二平台的分离设计，以及两者之间减震组件的对应设置，进一步避免了外界环境对检测组件工作过程中的震动影响，提升了MASK产品自动检测的准确性和可靠性。

(3)本实用新型的MASK自动检测设备，其通过在支撑台底部设置同步升降机构，使得支撑台以及限位设置于该支撑台上的待检产品可在完成自动检测后被抬升至人检高度，为检测人员进行人工检测提供了保障，进一步提升了检测设备的功能性，为多种检测环境下的检测提供了可能。

(4)本实用新型的MASK自动检测设备，其结构简单，设置简便，能快速、准确地实现MASK产品的限位固定和扫描检测，简化MASK产品的检测过程，提升MASK产品的检测效率和检测质量，为MASK产品的准确应用提供了保证，具有较好地实用价值和应用前景。

附图说明

图1是本实用新型实施例中MASK自动检测设备的检测主体示意图；

图2是本实用新型实施例中MASK自动检测设备的外部结构示意图；

图3是本实用新型实施例中MASK自动检测设备的外部结构示意图；

在所有附图中，同样的附图标记表示相同的技术特征，具体为：

1、支撑组件；2、待检产品；3、检测平台；4、检测组件；5、底板；6、操作台；7、气柜；8、电柜；9、外罩；

101、支撑台；102、第一限位件；103、第二限位件；104、同步升降机构；301、第一平台；302、第二平台；303、减震组件；401、第一平移单元；402、门架；403、第二平移单元；404、第三平移单元；405、检测单元；901、进出料口；902、进出人口。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。此外，下面所描述的本实用新型各个实施方式中所涉及到的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

实施例：

请参阅图1～3，本实用新型优选实施例中的MASK自动检测设备包括如图1所示的检测主体和如图2、图3中所示的配套结构。其中，检测主体包括底板5和设置在底板5上的支撑组件1、检测平台3和检测组件4，能可靠实现待检产品2的可靠支撑和全面检测。配套结构包括套设在检测主体外周的外罩9，以及对应设置在外罩9外侧的操作台6、气柜7和电柜8，利用各部件的组合设置，为检测主体的正常工作和待检产品2的精准检测提供保障。

具体而言，优选实施例中的支撑组件1包括如图1中所示的支撑台101，该支撑台101支撑设置在底板5的上方，其顶面上对应设置有多个限位件，用于待检产品2上料后的支撑与限位。在优选实施例中，限位件分为第一限位件102和第二限位件103，其中，第一限位件102用于待检产品2宽度方向上的限位，第二限位件103用于待检产品2长度方向上的限位，实际设置时，第一限位件102和第二限位件103分别至少设置有两个，并分设于支撑台上待检产品2的宽度方向两侧和长度方向两侧。

优选地，对应待检产品2的四角处分别设置有第一限位件102和第二限位件103，即两种限位件分别至少有四个，以此实现待检产品2的准确限位。在图1所示的优选实施例中，第一限位件102和第二限位件103一一对应设置，组合形成一个限位单元，且对应待检产品2的四角处分别设置有限位单元。

同时，优选实施例中的第一限位件102和/或第二限位件103设置在位移机构上，并可在其限位方向上进行一定距离的位移调整，从而使得支撑台101可以满足不同尺寸待检产品2的支撑与限位，提升检测主体的兼容性。在一个具体实施例中，对应限位件设置的位移机构为滑轨-滑块组件，通过限位件在对应位移机构上的位移，可以实现分设于待检产品长度方向两侧和/或宽度方向两侧的限位件可以相互靠近或者相互远离。

进一步地，优选实施例中的支撑台101的底部设置有同步升降机构104，用于实现支撑台101的竖向升降，使得待检产品2完成自动检测后，还可对应上升至人检高度，以此实现待检产品2的人工检测。在优选实施例中，同步升降机构104为伺服电机，并对应其设置有齿-杆传动组件，使得伺服电机的驱动力可以同步传递到支撑台101的底面四角处，实现支撑台101各位置的同步升降。

如图1中所示，对应支撑组件1还设置有检测平台3和检测组件4，检测组件4支撑在检测平台3上，且检测平台3与支撑组件1分离设置，使得因检测组件4在检测平台3上往复运动而产生的震动不会对支撑组件1以及支撑组件1上的待检产品2产生影响；当然，也可避免因支撑台101升降运动、待检产品2上下料所产生震动对检测组件4的设置精度产生影响。

进一步地，优选实施例中的检测平台3如图1中所示，其环设于所述支撑组件1的外周，且优选包括竖向上相对设置的第一平台301和第二平台302，两平台之间通过多个减震组件303连接，可以充分隔绝外部环境对检测组件4的震动影响，并吸收检测组件4运动过程中的震动，保证检测组件4工作的准确性。

优选实施例中的检测组件4如图1中所示，其包括设置于第一平台301顶面的第一平移单元401，该第一平移单元401为成对设置的两个，并在两第一平移单元401的上方跨设有门架402，使得门架402可沿第一平移单元401的轴向往复运动。在优选实施例中，第一平移单元401优选为滑轨组件，其沿待检产品2的长度方向延伸设置；相应地，跨设于两第一平移单元401上的门架402顶部沿待检产品2的宽度方向延伸，并在门架402的顶部延伸设置有第二平移单元403，该第二平移单元403沿待检产品2的宽度方向延伸，且第二平移单元403进一步优选为滑轨平移组件。

同时，优选实施例中的第二平移单元403上设置有第三平移单元404，并在第三平移单元404上设置有检测单元405，通过第三平移单元404的带动，可以实现检测单元405在竖向上的往复升降。在实际设置时，第三平移单元404也优选为滑轨组件，且第一平移单元401、第二平移单元403、第三平移单元404的轴线在空间内相互垂直。

通过检测组件4中对应检测单元405设置的第一平移单元401、第二平移单元403、第三平移单元404，可以实现检测单元405在待检产品2上方三维空间内的对应驱动，实现检测单元405对待检产品2各位置的全面检测。在优选实施例中，检测单元405进一步优选为高倍率显微镜，其可实现三轴方向上的往复运动，以第一平移单元401的运动方向为X轴为例，则第二平移单元403的平移方向为Y轴方向，第三平移单元404的平移方向为Z轴方向。

进一步地，如图3中所示，优选实施例中的外罩9上对应检测主体的进料位设置有进出料口901，并对应检测人员在外罩内外的进出设置有进出人口902。此外，在外罩9内对应检测主体的检测设置有若干光源(图中未示出)，用于待检产品2检测过程中的光源照射。优选实施例中的光源为灯箱，并在外罩9内为环向间隔设置的多个，可从不同角度为检测主体提供光照。

实际检测作业时，待检产品2通过进出料口901进入外罩9内，并放置于支撑台101上，通过第一限位件102和/或第二限位件103进行限位后，由检测组件4中的各平移单元带动检测单元405进行待检产品2上方三维空间内的对应运动，实现待检产品2各位置的自动扫描检测，从而完成待检产品2的自动检测。之后，检测人员通过进出人口902进入外罩9内，控制同步升降机构104运动，使得待检产品2上升至人检高度，使得检测人员可以在检测主体两侧进行人工检测。待完成自动检测和人工检测后，待检产品2优选通过进出料口901出料。

本实用新型中的MASK自动检测设备，其结构简单，设置简便，能快速、准确地实现MASK产品的限位固定和扫描检测，简化MASK产品的检测过程，提升MASK产品的检测效率和检测质量，为MASK产品的准确应用提供了保证，具有较好地实用价值和应用前景。

本领域的技术人员容易理解，以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种MASK自动检测设备，包括底板和设置于该底板上的检测主体，其特征在于，

所述检测主体包括支撑组件、检测平台和检测组件；

所述支撑组件包括支撑台和限位件；所述支撑台用于待检产品的支撑，所述限位件设置在支撑台上，用于对所述待检产品进行限位；

所述检测组件设置在所述检测平台上，其包括检测单元和位移组件；所述检测单元匹配设置于所述位移组件上，并可在该位移组件的带动下实现所述支撑台上方三维空间内的位移调整。

2.根据权利要求1所述的MASK自动检测设备，其中，所述检测平台与所述支撑组件彼此分离设置。

3.根据权利要求2所述的MASK自动检测设备，其中，所述支撑台的底部设置有同步升降机构，用于实现所述支撑台的升降控制。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的MASK自动检测设备，其中，所述检测平台包括竖向间隔设置的第一平台和第二平台；所述第二平台支撑设置于所述底板上，所述第一平台通过多个减震组件支撑设置于该第二平台的上方。

5.根据权利要求4所述的MASK自动检测设备，其中，所述位移组件设置在第一平台上，其包括第一平移单元、第二平移单元和第三平移单元；

所述第一平移单元为分设于所述支撑台两侧的两个，并在两第一平移单元上设置有门架；所述门架跨设所述支撑台设置，并可沿所述第一平移单元的轴向往复运动；

所述第二平移单元设置在所述门架上，所述第三平移单元设置在所述第二平移单元上，并使得所述第三平移单元可在两所述第一平移单元之间往复运动；且所述检测单元设置在所述第三平移单元上，并可在该第三平移单元的带动下进行竖向往复升降。

6.根据权利要求1或5所述的MASK自动检测设备，其中，所述检测单元为高倍率显微镜。

7.根据权利要求1～3中任一项所述的MASK自动检测设备，其中，所述限位件包括若干用于所述待检产品进行宽度方向限位的第一限位件和若干用于所述待检产品进行长度方向限位的第二限位件。

8.根据权利要求7所述的MASK自动检测设备，其中，所述第一限位件设置在位移机构上，使得该第一限位件可在待检产品宽度方向上往复位移；

和/或

所述第二限位件设置在位移机构上，使得该第二限位件可在该待检产品长度方向上往复位移。

9.根据权利要求7所述的MASK自动检测设备，其中，所述支撑台上对应待检产品的四角处分别同时设置有所述第一限位件和所述第二限位件。

10.根据权利要求1～3、5、8、9中任一项所述的MASK自动检测设备，其中，还包括照射于所述检测主体外侧的外罩；所述外罩上开设有进出料口和/或进出人口；且所述外罩外设置有操作台、气柜和/或电柜。

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