CN215543380U - 一种等离子清洗设备 - Google Patents

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CN215543380U CN202120116403.8U CN202120116403U CN215543380U CN 215543380 U CN215543380 U CN 215543380U CN 202120116403 U CN202120116403 U CN 202120116403U CN 215543380 U CN215543380 U CN 215543380U
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Shenzhen Sing Fung Intelligent Manufacturing Co ltd
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Shenzhen Sing Fung Intelligent Manufacturing Co ltd
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Abstract

本实用新型公开了一种等离子清洗设备,包括机架,机架上设有等离子清洗机及多个弹夹式料盒,料盒排成一列且可升降设置,还包括,夹紧机构,包括可移动的夹紧板,夹紧板与料盒抵持;第一推料机构,设置在料盒远离等离子清洗机的一侧,包括第一推料板,第一推料板上设有多个第一推料块,第一推料块与料盒对应设置;移料机构,设置在料盒靠近等离子清洗机的一侧,包括多个传送带,传送带与料盒对应设置;清洗载盘机构,设置在移料机构和等离子清洗机之间,包括两个相互独立的载料盘,两个载料盘可移动设置;第二推料机构,设置在清洗载盘机构的上方,包括可移动的第二推料板,第二推料板上设有多个第二推料块,第二推料块与所述料盒对应设置。

Description

一种等离子清洗设备
技术领域
本实用新型涉及等离子处理设备技术领域,尤其涉及一种等离子清洗设备。
背景技术
等离子体是由部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质,等离子体是一种很好的导电体,利用经过巧妙设计的磁场可以捕捉、移动和加速等离子体,等离子体物理的发展为材料、能源、信息、环境空间、空间物理、地球物理等科学的进一步发展提供了新的技术和工艺,所以等离子体的应用非常的广泛,包括数码行业、电子行业、汽车行业及印刷包装行业等。
等离子清洗机是一种利用等离子体中的活性组分对产品的表面进行处理,从而达到清洁、改性或涂覆等目的。目前等离子清洗机的上下料的方式自动化程度不高,导致等离子清洗机的利用率较低,影响等离子清洗机的工作效率,并且在输送产品的过程中容易出现产品错位、卡壳等现象造成产品损坏,严重情况下会导致等离子清洗机故障,因此需要一种能够高效、稳定运行的等离子清洗设备以提升产能。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是:提供一种高效率的等离子清洗设备。
为了解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案为:一种等离子清洗设备,包括机架,所述机架上设有等离子清洗机及多个弹夹式料盒,所述料盒在所述机架上沿Y轴方向排成一列且所述料盒在Z轴方向上可升降设置,还包括,夹紧机构,包括沿Y轴方向可移动的夹紧板,所述夹紧板与所述料盒抵持;第一推料机构,设置在所述料盒远离所述等离子清洗机的一侧,包括沿X轴方向可移动的第一推料板,所述第一推料板上沿Y轴方向间隔设有多个第一推料块,所述第一推料块与所述料盒一一对应设置;移料机构,设置在所述料盒靠近所述等离子清洗机的一侧,包括多个沿X轴方向设置的传送带,所述传送带与所述料盒一一对应设置;清洗载盘机构,设置在所述移料机构和所述等离子清洗机之间,包括两个相互独立的载料盘,两个所述载料盘分别在X轴方向及Z轴方向上可移动设置;第二推料机构,设置在所述清洗载盘机构的上方,包括在X方向及Z轴方向上可移动的第二推料板,所述第二推料板上沿Y轴方向间隔设有多个第二推料块,所述第二推料块与所述料盒一一对应设置。
进一步的,所述夹紧机构包括沿Y轴方向设置的第一滑轨,所述夹紧板滑动设置在所述第一滑轨上,所述夹紧机构还包括驱动所述夹紧板在所述第一滑轨上滑动的第一驱动件。
进一步的,所述第一推料机构包括沿X轴方向设置的第二滑轨,所述第一推料板滑动设置在所述第二滑轨上,所述第一推料机构还包括驱动所述第一推料板在所述第二滑轨上滑动的第二驱动件。
进一步的,所述移料机构包括第三驱动件,所述第三驱动件的输出端具有沿Y轴方向设置的齿轮轴,所述移料机构还包括多个与所述齿轮轴啮合的传动齿轮,所述传动齿轮与所述传送带一一对应传动连接。
进一步的,所述移料机构还包括固定板和在Y轴方向上可移动的移动板,所述传送带包括平行设置的第一侧板和第二侧板,所述第一侧板与所述移动板固定连接,所述第二侧板与所述固定板固定连接。
进一步的,所述移料机构还包括第四驱动件及与所述第四驱动件传动连接的丝杆,所述丝杆上套设有移动块,所述移动块与所述移动板固定连接。
进一步的,所述清洗载盘机构还包括第一升降机构,所述第一升降机构设置在所述清洗载盘机构靠近所述移料机构的一端,所述第一升降机构包括在Z轴方向上可升降的第一升降板,所述第一升降板与所述载料盘抵持。
进一步的,所述清洗载盘机构还包括第二升降机构,所述第二升降机构设置在所述等离子清洗机的下方,所述第二升降机构包括在Z轴方向上可升降的第二升降板,所述第二升降板与所述载料盘抵持。
进一步的,所述第二推料机构包括沿X轴方向设置的第三滑轨,所述第二推料板滑动设置在所述第三滑轨上,所述第二推料机构还包括驱动所述第二推料板在所述第三滑轨上滑动的第五驱动件。
进一步的,所述机架上还设有第三升降机构,所述第三升降机构设置在所述料盒的下方,所述第三升降机构包括在Z轴方向上可升降的第三升降板,所述第三升降板与所述料盒的底面抵持。
本实用新型的有益效果在于:本实用新型提供的等离子清洗设备的机架上设置了等离子清洗机和沿Y轴方向排成一列的多个弹夹式料盒,每个料盒内叠放有多个产品,机架上还设有固定料盒位置的夹紧机构,料盒远离等离子清洗机的一侧设有将料盒内的产品顶出的第一推料机构,料盒靠近等离子清洗机的一侧设有用于运送产品进出料盒的移料机构,移料机构与等离子清洗机之间设有清洗载盘机构,清洗载盘机构包括两个独立运行的载料盘,两个载料盘分别接收移料机构运送的产品并将产品移动到等离子清洗机中进行处理,并将处理完成的产品送回移料机构并通过移料机构装回料盒中,清洗载盘机构上还设置了第二推料机构,第二推料机构用于将移料机构送入载料盘的产品全部顶入载料盘上和将移料机构送入料盒中的产品全部顶入料盒中,产品在等离子清洗设备上的上下料全部通过自动化设备完成,工作效率高,且两个载料盘独立运行,大大提高了等离子清洗机的使用率,且产品在等离子清洗设备上移动有序,不易出现错位现象,产品处理完成后重新装回料盒中,有效避免了产品在等离子清洗设备上堆积影响等离子清洗设备运行,利于提高等离子清洗设备的稳定性。
附图说明
图1为本实用新型实施例一的等离子清洗设备的示意图;
图2为本实用新型实施例一的等离子清洗设备的部分结构示意图;
图3为本实用新型实施例一的等离子清洗设备中料盒、夹紧机构及第三升降机构的结构示意图;
图4为本实用新型实施例一的等离子清洗设备中料盒及夹紧机构的俯视图;
图5为本实用新型实施例一的等离子清洗设备中第一推料机构的结构示意图;
图6为本实用新型实施例一的等离子清洗设备中移料机构的结构示意图;
图7为本实用新型实施例一的等离子清洗设备中第二推料机构的结构示意图;
图8为本实用新型实施例一的等离子清洗设备中清洗载盘机构的结构示意图;
图9为本实用新型实施例一的等离子清洗设备中第一升降机构的结构示意图;
图10为本实用新型实施例一的等离子清洗设备中第二升降机构的结构示意图。
标号说明:
1、机架;2、等离子清洗机;3、料盒;31、第三升降机构;311、第三升降板;312、第八驱动件;4、夹紧机构;41、夹紧板;42、第一驱动件;43、滑槽;44、限位板;5、第一推料机构;51、第一推料板;52、第一推料块;53、第二滑轨;54、第二驱动件;6、移料机构;61、传送带;611、第一侧板;612、第二侧板;62、第三驱动件;63、齿轮轴;64、传动齿轮;65、固定板;66、移动板;67、第四驱动件;68、丝杆;69、移动块;7、清洗载盘机构;71、载料盘;711、第一载料盘;712、第二载料盘;713、卡持部;72、第一升降机构;721、第一升降板;722、第六驱动件;73、第二升降机构;731、第二升降板;732、第七驱动件;74、第四滑轨;75、第九驱动件;76、第五滑轨;77、第十驱动件;78、第一磁吸组件;79、第二磁吸组件;8、第二推料机构;81、第二推料板;82、第二推料块;83、第三滑轨;84、第五驱动件。
具体实施方式
为详细说明本实用新型的技术内容、所实现目的及效果,以下结合实施方式并配合附图予以说明。
请参照图1至图10,一种等离子清洗设备,包括机架1,所述机架1上设有等离子清洗机2及多个弹夹式料盒3,所述料盒3在所述机架1上沿Y轴方向排成一列且所述料盒3在Z轴方向上可升降设置,还包括,夹紧机构4,包括沿Y轴方向可移动的夹紧板41,所述夹紧板41与所述料盒3抵持;第一推料机构5,设置在所述料盒3远离所述等离子清洗机2的一侧,包括沿X轴方向可移动的第一推料板51,所述第一推料板51上沿Y轴方向间隔设有多个第一推料块52,所述第一推料块52与所述料盒3一一对应设置;移料机构6,设置在所述料盒3靠近所述等离子清洗机2的一侧,包括多个沿X轴方向设置的传送带61,所述传送带61与所述料盒3一一对应设置;清洗载盘机构7,设置在所述移料机构6和所述等离子清洗机2之间,包括两个相互独立的载料盘71,两个所述载料盘71分别在X轴方向及Z轴方向上可移动设置;第二推料机构8,设置在所述清洗载盘机构7的上方,包括在X方向及Z轴方向上可移动的第二推料板81,所述第二推料板81上沿Y轴方向间隔设有多个第二推料块82,所述第二推料块82与所述料盒3一一对应设置。
本实用新型的工作原理简述如下:等离子清洗设备的机架1上设置了等离子清洗机2和沿Y轴方向排成一列的多个弹夹式料盒3,每个料盒3内叠放有多个产品,机架1上还设有固定料盒3位置的夹紧机构4,料盒3远离等离子清洗机2的一侧设有将料盒3内的产品顶出的第一推料机构5,料盒3靠近等离子清洗机2的一侧设有用于运送产品进出料盒3的移料机构6,移料机构6与等离子清洗机2之间设有清洗载盘机构7,清洗载盘机构7包括两个独立运行的载料盘71,两个载料盘71分别接收移料机构6运送的产品并将产品移动到等离子清洗机2中进行处理,并将处理完成的产品送回移料机构6并通过移料机构6装回料盒3中,清洗载盘机构7上还设置了第二推料机构8,第二推料机构8用于将移料机构6送入载料盘71的产品全部顶入载料盘71上和将移料机构6送入料盒3中的产品全部顶入料盒3中。料盒3先升降至料盒3内位于同一平面上的产品与第一推料机构5中的第一推料块52对齐,第一推料块52伸入料盒3内将相应的产品部分顶出并移动至移料机构6上,移料机构6启动将产品移动至载料盘71上,此时第二推料机构8中的第二推料块82移动至产品与料盒3之间并将产品完全顶入载料盘71中,装载了待处理产品的载料盘71移动至等离子清洗机2对产品进行处理,此时另一个装载了处理完产品的载料盘71移动至移料机构6处,第二推料块82移动至载料盘71与等离子清洗机2之间将载料盘71上的产品推入移料机构6,移料机构6运行将产品送入料盒3,第二推料块82再移动至移料机构6上将产品完全推入料盒3中将处理完成的产品装回料盒3。
从上述描述可知,本实用新型的有益效果在于:本实用新型提供的等离子清洗设备通过自动化设备完成产品的上下料,工作效率高,大大提高了等离子清洗机2的使用率,且产品在等离子清洗设备上移动有序,不易出现错位现象,产品处理完成后装回料盒3中利于对产品进行下一步的加工,有效避免了产品在等离子清洗设备上堆积影响等离子清洗设备运行,利于提高等离子清洗设备的稳定性。
进一步的,所述夹紧机构4包括沿Y轴方向设置的第一滑轨,所述夹紧板41滑动设置在所述第一滑轨上,所述夹紧机构4还包括驱动所述夹紧板41在所述第一滑轨上滑动的第一驱动件42。
由上述描述可知,设置第一驱动件42驱动夹紧板41在第一滑轨上沿Y轴方向滑动,确保夹紧板41沿相应的方向滑动并将产品夹紧在等离子清洗设备。
进一步的,所述第一推料机构5包括沿X轴方向设置的第二滑轨53,所述第一推料板51滑动设置在所述第二滑轨53上,所述第一推料机构5还包括驱动所述第一推料板51在所述第二滑轨53上滑动的第二驱动件54。
由上述描述可知,通过第二驱动件54驱动第一推料板51在第二滑轨53上沿X轴方向滑动,使设置在第一推料板51上的第一推料块52顺利伸入相对应的料盒3中并将产品顶出料盒3,避免第一推料块52偏离导致与料盒3抵触。
进一步的,所述移料机构6包括第三驱动件62,所述第三驱动件62的输出端具有沿Y轴方向设置的齿轮轴63,所述移料机构6还包括多个与所述齿轮轴63啮合的传动齿轮64,所述传动齿轮64与所述传送带61一一对应传动连接。
由上述描述可知,第三驱动件62驱动齿轮轴63转动,带动与齿轮轴63啮合的传动齿轮64转动,进而带动传送带61转动并将产品由料盒3中移动至载料盘71上。
进一步的,所述移料机构6还包括固定板65和在Y轴方向上可移动的移动板66,所述传送带61包括平行设置的第一侧板611和第二侧板612,所述第一侧板611与所述移动板66固定连接,所述第二侧板612与所述固定板65固定连接。
进一步的,所述移料机构6还包括第四驱动件67及与所述第四驱动件67传动连接的丝杆68,所述丝杆68上套设有移动块69,所述移动块69与所述移动板66固定连接。
由上述描述可知,通过第四驱动件67驱动移动板66移动,设置在移动板66上的第一侧板611与移动板66同步移动,进而第一侧板611与第二侧板612之间的间隔发生改变使第一侧板611与第二侧板612之间的间隔与产品的尺寸适配,以提高等离子清洗设备的通用性,使其能够用于处理多种尺寸的产品。
进一步的,所述清洗载盘机构7还包括第一升降机构72,所述第一升降机构72设置在所述清洗载盘机构7靠近所述移料机构6的一端,所述第一升降机构72包括在Z轴方向上可升降的第一升降板721,所述第一升降板721与所述载料盘71抵持。
由上述描述可知,通过第一升降机构72驱动载料盘71升降,使两个载料盘71错位进而两个载料盘71能够在料盒3与等离子清洗机2之间同步运行,并使载料盘71与料盒3对齐确保产品顺利由料盒3中移动至载料盘71上。
进一步的,所述清洗载盘机构7还包括第二升降机构73,所述第二升降机构73设置在所述等离子清洗机2的下方,所述第二升降机构73包括在Z轴方向上可升降的第二升降板731,所述第二升降板731与所述载料盘71抵持。
由上述描述可知,第二升降机构73驱动载料盘71与等离子清洗机2配合将产品装入等离子清洗机2中进行处理,并使载料盘71将等离子清洗机2的下方密封利于形成真空环境。
进一步的,所述第二推料机构8包括沿X轴方向设置的第三滑轨83,所述第二推料板81滑动设置在所述第三滑轨83上,所述第二推料机构8还包括驱动所述第二推料板81在所述第三滑轨83上滑动的第五驱动件84。
由上述描述可知,采用第五驱动件84驱动第二推料板81移动,并使第二推料板81沿第三滑轨83的方向滑动,确保设置在第二推料板81上的第二推料块82与产品对齐并推动产品进出料盒3和载料盘71。
进一步的,所述机架1上还设有第三升降机构31,所述第三升降机构31设置在所述料盒3的下方,所述第三升降机构31包括在Z轴方向上可升降的第三升降板311,所述第三升降板311与所述料盒3的底面抵持。
由上述描述可知,通过第三升降机构31驱动料盒3在机架1上升降使多个料盒3内位于同一水平面上的产品与第一推料块52对齐,以对料盒3内层叠设置的产品依次进行等离子处理,使等离子清洗设备有序运行。
实施例一
请参照图1至图10,本实用新型的实施例一为:如图1和图2所示,一种等离子清洗设备,包括机架1,所述机架1上设有等离子清洗机2,所述机架1还设有多个弹夹式料盒3及固定所述料盒3位置的夹紧机构4,所述料盒3沿Y轴方向排成一列,每个所述料盒3内均存储有多个产品,所述料盒3远离所述等离子清洗机2的一侧设有将产品从所述料盒3中顶出的第一推料机构5,所述料盒3靠近所述等离子清洗机2的一侧设有将产品运出或装进所述料盒3中的移料机构6,所述移料机构6与所述等离子清洗机2之间设有运送产品并将产品送入所述等离子清洗机2中进行处理或将产品取出的所述等离子清洗机2的清洗载盘机构7,所述清洗载盘机构7的上方设有移动产品使产品进出所述料盒3、所述移料机构6及所述清洗载盘机构7的第二推料机构8,通过所述第一推料机构5、所述移料机构6、所述清洗载盘机构7和所述第二推料机构8的配合实现自动将产品从料盒3中取出并送入所述等离子清洗机2处理后再装回料盒3中,通过自动化设备完成产品的上下料,大大提高了所述等离子清洗机2的利用率,且处理完成后的产品装回到料盒3中,利于对处理完成的产品集中进行下一步加工。
请结合图3和图4,所述料盒3可升降设置在所述机架1上,多个产品在所述料盒3内沿Z轴方向层叠设置且每个所述料盒3内位于同一层的产品处于同一水平面上,所述第一推料机构5将产品推出所述料盒3时位于同一水平面上的多个产品同时被顶出并移动至所述移料机构6上,实现产品的批量化处理,大大提高所述等离子清洗设备处理产品的效率。
具体的,所述机架1上设有驱动所述料盒3沿Z轴方向移动的第三升降机构31,所述第三升降机构31包括第三升降板311及驱动所述第三升降板311在Z轴方向上移动的第八驱动件312,所述料盒3在所述第三升降板311上排成一列,所述第八驱动件312优选为气缸,通过所述第八驱动件312伸缩带动所述第三升降板311在Z轴方向上移动进而使所述料盒3在所述Z轴方向上升降,使所述料盒3内的产品与所述第一推料机构5对齐,确保所述第一推料机构5顺利将产品从所述料盒3中顶出。
所述夹紧机构4包括沿Y轴方向设置的第一滑轨、滑动设置在所述第一滑轨上的夹紧板41及驱动所述夹紧板41在所述第一滑轨上滑动的第一驱动件42,所述第一滑轨设置在所述第三升降板311的下方,所述第三升降板311上开设有沿Y轴方向的滑槽43,所述夹紧板41滑动设置在所述滑槽43内,所述第三升降板311上还设有与所述料盒3抵持的限位板44,所述限位板44和所述夹紧板41分别设置在所述料盒3的相对两侧,所述夹紧板41和所述限位板44的数量为多个且与每个所述料盒3一一对应设置,所述第一驱动件42驱动所述夹紧板41沿Y轴方向移动使所述夹紧板41靠近或远离所述限位板44,以此将所述料盒3固定在在所述第三升降板311上或解除所述料盒3在所述第三升降板311上的锁定,确保所述等离子清洗设备运行过程中所述料盒3不会产生非预期的移动。
如图5所示,所述第一推料机构5包括沿X轴方向第二滑轨53,所述第二滑轨53上设有可滑动的第一推料板51及驱动所述第一推料板51滑动的第二驱动件54,所述第一推料板51上沿Y轴方向间隔设有多个第一推料块52,所述第一推料块52的数量与所述料盒3的数量一致,且所述第一推料块52与所述料盒3一一对应设置。所述第一推料板51向所述料盒3靠近时所述第一推料块52伸入所述料盒3中并与位于相应高度的产品的侧面抵持,将产品顶出所述料盒3使其部分伸入所述移料机构6中,实现产品的自动上料。当所述料盒3中该层待处理的产品被顶出后并装入已处理的产品后,所述第三升降机构31驱动所述料盒3在Z轴方向上移动使未处理的产品移动到与所述第一推料板51对齐的高度平面上并等待所述第一推料机构5将其顶出,使所述等离子清洗设备连续作业,实现不间断上料,提高生产效率。
优选的,所述第一推料块52靠近所述料盒3的一端呈C字型,所述第一推料块52的端部与产品的侧面适配,使所述第一推料块52推动产品时其端部与产品卡合,防止所述第一推料块52抵触产品的过程中第一推料块52滑到产品的上表面或下表面导致产品被所述第一推料块52划伤。
如图6所示,所述移料机构6包括多个沿X轴方向设置的传送带61,多个所述传送带61沿Y轴方向排成一列并与所述料盒3一一对齐,所述第一推料机构5将产品顶出所述料盒3后,产品部分伸入所述传送带61内,此时所述传送带61转动将产品送入所述清洗载盘机构7中,实现自动上料,或处理完成的产品由所述第二推料机构8从所述清洗载盘机构7中移动至所述传送带61上后所述传送带61启动将产品送回所述料盒3中,实现自动下料。
具体的,所述移料机构6包括第三驱动件62,所述第三驱动件62的输出端设有齿轮轴63,所述齿轮轴63的长度方向为Y轴方向,每个所述传送带61均包括与所述齿轮轴63啮合的传动齿轮64,所述第三驱动件62驱动所述齿轮轴63转动带动所述传动齿轮64,进而带动所述传送带61运行,通过所述第三驱动件62的转动方向改变所述齿轮轴63的转动方向,所述传动齿轮64的转动方向随所述齿轮轴63的转动方向改变而改变,进而所述传送带61的运行方向随之变化,实现所述传送带61向X轴正方向或X轴负方向移动,使所述传送带61能够根据产品进出所述料盒3的需求变化运行方向。
优选的,所述传送带61还包括第一侧板611和第二侧板612,所述第一侧板611与所述第二侧板612之间的间距与产品的尺寸相适配,所述移料机构6还包括间隔设置的固定板65和移动板66,所述移动板66沿Y轴方向可移动设置,所述第一侧板611与所述移动板66固定连接,所述第二侧板612与所述固定板65固定连接,所述移动板66在Y轴上移动时所述第一侧板611随所述移动板66移动,在所述第一侧板611移动的过程中所述第一侧板611靠近或远离所述第二侧板612,使所述第一侧板611和所述第二侧板612之间的间隔发生变化,进而使所述传送带61的宽度与产品的尺寸适配,使所述传送带61能够运送多种尺寸的产品,利于提高所述移料机构6的通用性,使所述等离子清洗设备能够进行不同尺寸产品的加工,使所述等离子清洗设备更加泛用。
进一步的,所述移料机构6还包括第四驱动件67,所述第四驱动件67的输出端设有丝杆68,所述丝杆68的长度方向为Y轴方向,所述丝杆68上套设有移动块69,所述移动块69与所述移动板66固定连接,所述第四驱动件67带动所述丝杆68转动时所述移动块69沿所述丝杆68的长度方向移动,进而带动所述移动板66在Y轴方向上移动,实现所述移动板66与所述固定板65之间间隔的自动调整,提高所述等离子清洗设备的自动化程度。
如图7所示,所述第二推料机构8包括沿X轴方向设置的第三滑轨83、滑动设置在所述第三滑轨83上的第二推料板81及驱动所述第二推料板81在所述第三滑轨83上滑动的第五驱动件84,所述第二推料板81为双层结构,部分所述第二推料板81在所述Z轴方向上可升降设置,所述第二推料板81上沿Y轴方向间隔设有多个第二推料块82,所述第二推料块82在所述第二推料板81的带动下可在X轴方向及Z轴方向上移动,所述第二推料块82的数量与所述料盒3的数量一致,且所述第二推料块82与所述料盒3一一对应设置。产品被所述移料机构6部分移动至所述载料盘71上时,所述第二推料块82移动至产品远离所述载料盘71的一端并将产品推入所述载料盘71上。所述载料盘71将处理完成的产品移动到所述移料机构6远离所述料盒3的一端时,所述第二推料块82移动至产品远离所述移料机构6的一端并将产品部分顶入所述移料机构6中,所述移料机构6将产品部分送入所述料盒3中后,所述第二推料块82再移动至产品远离所述料盒3的一端将产品完全顶入所述料盒3中,使产品完全收容在料盒3内,将处理完成的产品集中至料盒3中,便于下一步对产品进行加工。
优选的,所述第二推料块82的两端均呈C字型,所述第二推料块82的端部与产品的侧面适配,使所述第二推料块82推动产品时其端部与产品卡合,防止所述第二推料块82抵触产品的过程中第二推料块82滑到产品的上表面或下表面导致产品被所述第二推料块82划伤。
请参照图8,所述清洗载盘机构7包括两个载料盘71,两个所述载料盘71相互独立运行,所述载料盘71上设有固定产品位置的多个卡持部713,所述卡持部713的侧面设有与产品的厚度相适配的卡槽,所述传送带61与相邻的两个所述卡持部713之间的间隔对齐,所述传送带61将产品送入所述载料盘71中时产品进入相邻的两个卡持部713的所述卡槽中,将产品的位置固定在所述载料盘71上,防止所述载料盘71移动过程中产品在所述载料盘71上产生非预期的移动影响产品在所述等离子清洗设备上正常流通。
具体的,所述载料盘71包括第一载料盘711和第二载料盘712,且所述第一载料盘711的宽度大于所述第二载料盘712的宽度,所述清洗载盘机构7还包括设置在所述机架1上的第四滑轨74和第五滑轨76,所述第四滑轨74和所述第五滑轨76均沿Y轴方向设置且所述第四滑轨74的安装高度大于所述第五滑轨76的安装高度,所述第四滑轨74和所述第五滑轨76的数量均为两个,两个所述第四滑轨74之间的距离大于两个所述第五滑轨76之间的距离,所述第一载料盘711的两端分别滑动设置在两个所述第四滑轨74上,所述第二载料盘712的两端分别滑动设置在两个所述第五滑轨76上。所述第一载料盘711和所述第二载料盘712沿Y轴方向滑动时在不同高度上移动使所述第一载料盘711与所述第二载料盘712顺利错位,有效避免了所述第一载料盘711与所述第二载料盘712碰撞,使第一载料盘711和所述第二载料盘712能够分别独立运行,依次向所述等离子清洗机2中上料或下料,以提高所述等离子清洗机2的利用率。
所述第四滑轨74上还设有驱动所述第一载料盘711滑动的第九驱动件75,所述第五滑轨76上还设有驱动所述第二载料盘712滑动的第十驱动件77,使所述第一载料盘711和所述第二载料盘712在所述机架1上按预设的轨迹自动移动,完成所述等离子清洗机2的自动上下料。
如图9和图10所示,所述清洗载盘机构7还包括驱动所述载料盘71在Z轴方向上移动的第一升降机构72和第二升降机构73,所述第一升降机构72设置在所述清洗载盘机构7靠近所述移料机构6一端的下方,所述第二升降机构73设置在所述等离子清洗机2的下方,所述第一升降机构72用于抬升所述载料盘71使所述载料盘71与所述移料机构6中的所述传送带61对齐,确保产品顺利进入所述载料盘71中,所述第二升降机构73用于抬升所述载料盘71使所述载料盘71与所述等离子清洗机2的底部配合使产品进入所述等离子清洗机2中进行处理,同时使所述载料盘71将所述等离子清洗机2的下端密封便于形成真空环境,利于提高所述等离子清洗机2的处理效果,并防止从产品上清洗下的污物滴落到所述等离子清洗设备上。
具体的,所述第一升降机构72包括第一升降板721及驱动所述第一升降板721在Z轴方向上升降的第六驱动件722,所述第一升降板721与所述载料盘71平行设置,所述第六驱动件722优选为气缸,通过所述第六驱动件722伸缩带动所述第一升降板721在Z轴方向上移动,使所述第一升降板721与所述载料盘71的底面抵持并带动所述第一升降板721在Z轴方向上移动,进而使所述载料盘71移动至与所述移料机构6平齐的高度上并与所述移料机构6平齐,使产品顺利从所述料盒3进入所述载料盘71或从所述载料盘71移动至所述料盒3中。所述第二升降机构73包括第二升降板731及驱动所述第二升降板731在Z轴方向上升降的第七驱动件732,所述第七升降板与所述载料盘71平行设置,所述第七驱动件732优选为气缸,通过所述第七驱动件732伸缩带动所述第二升降板731在Z轴方向上移动,使所述第二升降板731与所述载料盘71的底面抵持并带动所述第二升降板731在Z轴方向上移动,进而使所述载料盘71上升并与所述等离子清洗机2的底面配合使产品进入所述等离子清洗机2内,或产品处理完成后使所述载料盘71下降与等离子清洗机2脱离实现下料。
优选的,所述第一载料盘711与所述第四滑轨74通过滑动设置在所述第四滑轨74上的第一磁吸组件78连接,所述第一载料盘711在所述第四滑轨74上移动时,所述第一磁吸组件78通过磁力吸附所述第一载料盘711确保所述第一载料盘711不会出现偏移或从所述第四滑轨74上滑落,所述第一载料盘711移动至所述第一升降机构72或所述第二升降机构73上方时,所述第一磁吸组件78关闭使所述第一升降机构72或所述第二升降机构73能够顺利将所述第一载料盘711顶起。所述第二载料盘712与所述第五滑轨76通过滑动设置在所述第五滑轨76上的第二磁吸组件79连接,所述第二载料盘712在所述第五滑轨76上移动时,所述第二磁吸组件79通过磁力吸附所述第二载料盘712确保所述第二载料盘712不会出现偏移或从所述第五滑轨76上滑落,所述第二载料盘712移动至所述第一升降机构72或所述第二升降机构73上方时,所述第二磁吸组件79关闭使所述第一升降机构72或所述第二升降机构73能够顺利将所述第二载料盘712顶起。
本实施例提供的所述等离子清洗设备的工作过程为:将所述料盒3放置到所述机架1上的指定位置,所述夹紧机构4中的所述夹紧板41在Y轴方向上移动将所述料盒3固定在所述机架1上,所述第三升降板311在Z轴方向上移动带动料盒3升降,使位于所述料盒3内任意一层的产品与所述第一推料块52对齐,所述第一升降板721在Z轴方向上升降使所述第一载料盘711与所述移料机构6对齐,所述第一推料板51在X轴方向上移动带动所述第一推料块52伸入所述料盒3中并将产品部分推出所述料盒3,产品被所述第一推料块52顶出后进入所述移料机构6的所述传送带61上,所述传送带61向X轴正方向运行,带动产品部分移动至所述第一载料盘711上,所述第二推料机构8中的第二推料板81移动至所述移料机构6上并使所述第二推料块82与产品对齐,所述第二推料块82向X轴正方向移动并将产品完全顶入所述第一载料盘711上,所述第一升降板721带动所述第一载料盘711下降并将所述第一载料盘711放置到所述第四滑轨74上,待所述等离子清洗机2完成所述第二载料盘712上的产品处理后,所述第二升降板731带动所述第二载料盘712下降并将所述第二载料盘712放置到所述第五滑轨76上,所述第一载料盘711沿所述第四滑轨74向X轴正方向移动、所述第二载料盘712沿所述第五滑轨76向X轴负方向移动,所述第一载料盘711移动至所述第二升降机构73上方并由所述第二升降板731带动使所述第一载料盘711上升,使所述第一载料盘711与所述等离子清洗机2的底部配合使所述第一载料盘711上的产品进入所述等离子清洗机2中,与此同时所述第一升降板721带动所述第二载料盘712上升使所述第二载料盘712与所述移料机构6对齐,所述第二推料块82移动至产品远离所述移料机构6的一端并推动产品向X轴负方向移动使其部分进入所述移料机构6中,所述移料机构6向X轴负方向运行将产品装回所述料盒3,所述第二推料块82继续向X轴负方向移动并将产品完全顶入料盒3中,将产品完全装回料盒3后所述第二推料机构8复位,所述第三升降机构31驱动所述料盒3升降使料盒3内待处理的产品与所述第一推料块52对齐,并重复上述步骤。
综上所述,本实用新型提供的等离子清洗设备通过自动化设备完成产品的上下料,大大提高了等离子清洗机的使用率和工作效率,且产品在等离子清洗设备上移动有序,处理完成的产品重新装回料盒中,不易出现错位现象且便于对产品集中处理,有效避免了产品堆积影响等离子清洗设备运行,利于提高等离子清洗设备的稳定性和运行效率。
以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等同变换,或直接或间接运用在相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种等离子清洗设备,包括机架,所述机架上设有等离子清洗机及多个弹夹式料盒,其特征在于:所述料盒在所述机架上沿Y轴方向排成一列且所述料盒在Z轴方向上可升降设置,还包括,
夹紧机构,包括沿Y轴方向可移动的夹紧板,所述夹紧板与所述料盒抵持;
第一推料机构,设置在所述料盒远离所述等离子清洗机的一侧,包括沿X轴方向可移动的第一推料板,所述第一推料板上沿Y轴方向间隔设有多个第一推料块,所述第一推料块与所述料盒一一对应设置;
移料机构,设置在所述料盒靠近所述等离子清洗机的一侧,包括多个沿X轴方向设置的传送带,所述传送带与所述料盒一一对应设置;
清洗载盘机构,设置在所述移料机构和所述等离子清洗机之间,包括两个相互独立的载料盘,两个所述载料盘分别在X轴方向及Z轴方向上可移动设置;
第二推料机构,设置在所述清洗载盘机构的上方,包括在X方向及Z轴方向上可移动的第二推料板,所述第二推料板上沿Y轴方向间隔设有多个第二推料块,所述第二推料块与所述料盒一一对应设置。
2.根据权利要求1所述的等离子清洗设备,其特征在于:所述夹紧机构包括沿Y轴方向设置的第一滑轨,所述夹紧板滑动设置在所述第一滑轨上,所述夹紧机构还包括驱动所述夹紧板在所述第一滑轨上滑动的第一驱动件。
3.根据权利要求1所述的等离子清洗设备,其特征在于:所述第一推料机构包括沿X轴方向设置的第二滑轨,所述第一推料板滑动设置在所述第二滑轨上,所述第一推料机构还包括驱动所述第一推料板在所述第二滑轨上滑动的第二驱动件。
4.根据权利要求1所述的等离子清洗设备,其特征在于:所述移料机构包括第三驱动件,所述第三驱动件的输出端具有沿Y轴方向设置的齿轮轴,所述移料机构还包括多个与所述齿轮轴啮合的传动齿轮,所述传动齿轮与所述传送带一一对应传动连接。
5.根据权利要求1所述的等离子清洗设备,其特征在于:所述移料机构还包括固定板和在Y轴方向上可移动的移动板,所述传送带包括平行设置的第一侧板和第二侧板,所述第一侧板与所述移动板固定连接,所述第二侧板与所述固定板固定连接。
6.根据权利要求5所述的等离子清洗设备,其特征在于:所述移料机构还包括第四驱动件及与所述第四驱动件传动连接的丝杆,所述丝杆上套设有移动块,所述移动块与所述移动板固定连接。
7.根据权利要求1所述的等离子清洗设备,其特征在于:所述清洗载盘机构还包括第一升降机构,所述第一升降机构设置在所述清洗载盘机构靠近所述移料机构的一端,所述第一升降机构包括在Z轴方向上可升降的第一升降板,所述第一升降板与所述载料盘抵持。
8.根据权利要求1所述的等离子清洗设备,其特征在于:所述清洗载盘机构还包括第二升降机构,所述第二升降机构设置在所述等离子清洗机的下方,所述第二升降机构包括在Z轴方向上可升降的第二升降板,所述第二升降板与所述载料盘抵持。
9.根据权利要求1所述的等离子清洗设备,其特征在于:所述第二推料机构包括沿X轴方向设置的第三滑轨,所述第二推料板滑动设置在所述第三滑轨上,所述第二推料机构还包括驱动所述第二推料板在所述第三滑轨上滑动的第五驱动件。
10.根据权利要求1所述的等离子清洗设备,其特征在于:所述机架上还设有第三升降机构,所述第三升降机构设置在所述料盒的下方,所述第三升降机构包括在Z轴方向上可升降的第三升降板,所述第三升降板与所述料盒的底面抵持。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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