CN215195682U - 一种电解铜箔生产系统中的溶铜过滤装置 - Google Patents

一种电解铜箔生产系统中的溶铜过滤装置 Download PDF

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吴伟安
刘英剑
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Abstract

本实用新型属于铜箔生产设备技术领域,公开了一种电解铜箔生产系统中的溶铜过滤装置,包括溶铜罐和储液罐,所述储液罐的顶部设有进料口,所述进料口的外侧设有滑轨,所述滑轨以滑动配合的方式连接有滑动框,所述滑动框上设有至少2个安装位,所述安装位上以可拆卸的方式固定有钛金属材质的过滤网;所述溶铜罐的底部设有排液管,当滑动框移动到第一预设位置时,其中一个安装位移动到排液管的下方。该装置通过采用具有多个安装位的滑动框,使滑动框滑动进而使安装位移动到排液管的正下方,实现溶铜罐内的杂质和铜粉的过滤。通过滑动滑动框可使过滤网一个使用,一个备用,可实现不停机切换。

Description

一种电解铜箔生产系统中的溶铜过滤装置
技术领域
本实用新型属于铜箔生产设备技术领域,具体涉及一种电解铜箔生产系统中的溶铜过滤装置。
背景技术
电解铜箔是使用电解铜或废铜线为原料,在溶铜罐中,铜板或铜线在含硫酸的酸性溶液中,在蒸汽加热和空气搅拌的情况下,溶解为硫酸铜溶液,由溶铜罐进入储液罐,然后经过过滤净化除去各种有害杂质,就可以作为铜箔电解的原料供应生箔生产。
原料电解液制备的好坏直接关系到电解铜箔产品质量的好坏。溶铜制备工序中除了控制电解液中铜离子含量和酸浓度的大小外,还需要控制杂质的含量。在电解过程中出现的各种杂质绝大多数是从溶液的制备工序的原料中夹杂而来。因此,为防止有害杂质对铜箔的形成过程产生不良的影响,在溶铜制造液前和溶铜制造过程中需要对杂质进行过滤。
在生产过程中发现大部分较大的杂质和没有完全溶解的铜板及大颗粒铜粉在铜板溶解过程中随着硫酸铜电解液沉积到溶铜罐下方的储液罐,随着时间的积累,储液罐罐底积累不少杂质及没有溶解的铜板和铜粉无法通过电解液循环的方式进行处理,只能定期停机并安排人员到溶铜罐清理杂质和铜粉,停机掏铜粉影响产量,人员操作存在一定的安全隐患。
所以本案解决的技术问题是,如何方便的清理杂质和铜粉。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种电解铜箔生产系统中的溶铜过滤装置,该装置通过采用具有多个安装位的滑动框,使滑动框滑动进而使安装位移动到排液管的正下方,实现溶铜罐内的杂质和铜粉的过滤。通过滑动滑动框可使过滤网一个使用,一个备用,可实现不停机切换。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
一种电解铜箔生产系统中的溶铜过滤装置,包括溶铜罐和储液罐,所述储液罐的顶部设有进料口,所述进料口的外侧设有滑轨,所述滑轨以滑动配合的方式连接有滑动框,所述滑动框上设有至少2个安装位,所述安装位上以可拆卸的方式固定有钛金属材质的过滤网;
所述溶铜罐的底部设有排液管,当滑动框移动到第一预设位置时,其中一个安装位移动到排液管的下方,当滑动框移动到第二预设位置时,另外一个安装位移动到排液管的下方。
在上述的电解铜箔生产系统中的溶铜过滤装置中,所述进料口为条状,所述滑轨为两根且分设在进料口的两侧。
在上述的电解铜箔生产系统中的溶铜过滤装置中,所述进料口为圆形,所述滑轨为环状,所述安装位位于非圆心的位置。
在上述的电解铜箔生产系统中的溶铜过滤装置中,所述溶铜罐的底部为锥形部。
在上述的电解铜箔生产系统中的溶铜过滤装置中,所述排液管位于锥形部的底部。
在上述的电解铜箔生产系统中的溶铜过滤装置中,还包括两个盖板,所述盖板覆盖在滑轨上,两个盖板之间为与排液管下方的安装位形状匹配的间隙。
在上述的电解铜箔生产系统中的溶铜过滤装置中,所述盖板的两侧设有折边,所述折边与滑轨的外侧面贴合。
在上述的电解铜箔生产系统中的溶铜过滤装置中,所述储液罐上设有延伸到储液罐底部的抽液管和延伸到储液罐内部的稀释管。
在上述的电解铜箔生产系统中的溶铜过滤装置中,所述滑轨、滑动框均为钛金属材质。
在上述的电解铜箔生产系统中的溶铜过滤装置中,所述过滤网通过钛金属的螺钉锁紧在滑动框上。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
本实用新型的装置通过采用具有多个安装位的滑动框,使滑动框滑动进而使安装位移动到排液管的正下方,实现溶铜罐内的杂质和铜粉的过滤。通过滑动滑动框可使过滤网一个使用,一个备用,可实现不停机切换。
通过如此设计,也可以极大的降低操作人员的劳动强度,提高操作安全性。
附图说明
图1为本实用新型的实施例的结构示意图;
图2-4为本实用新型的实施例的储液罐的俯视图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
实施例
请参照图1、2、4,一种电解铜箔生产系统中的溶铜过滤装置,包括溶铜罐1和储液罐2,所述储液罐2的顶部设有进料口3,所述进料口3的外侧设有滑轨4,所述滑轨4以滑动配合的方式连接有滑动框5,所述滑动框5上设有至少2个安装位6,所述安装位6上以可拆卸的方式固定有钛金属材质的过滤网7;本实施例的过滤网7可选择为袋状的过滤网7。
图2是安装了过滤网的储液罐的俯视图;图4是未安装过滤网的储液罐的俯视图。
所述溶铜罐1的底部设有排液管13,当滑动框5移动到第一预设位置时,其中一个安装位6移动到排液管的下方,当滑动框5移动到第二预设位置时,另外一个安装位6移动到排液管的下方。
隐含的,作为本领域常见的滑动配合的方式,滑动框5的底部可设置滚辊、轮子、摩擦系数小的垫块如石墨块等实现滚动摩擦或低摩擦系数的滑动摩擦。也可以在滑轨4上表面设置辊,将滑动摩擦变成滚动摩擦。
在生产过程中,溶铜罐1溶铜后,含杂质和铜粉的电解液经过排液管排到正下方的过滤网7中,此时另外一个安装位6上安装有备用的过滤网7。电解液过滤后进入到储液罐2。当生产一段时间后,拉动滑动框5,使备用的过滤网7移动到排液管的底部,操作人员更换旧的过滤网7,将旧的过滤网7取出清理。
优选地,所述进料口3为条状,所述滑轨4为两根且分设在进料口3的两侧,作为本实施例的另外一种实现方式,所述进料口3还可以为圆形,所述滑轨4为环状,所述安装位6位于非圆心的位置。这时滑动框5就为一圆形的框体,两个安装位6以圆形为对称中心对称布置,当滑动框5转动180°就可以实现安装位6的切换。
在本实施例中,所述溶铜罐1的底部为锥形部8,所述排液管位于锥形部8的底部。
为了避免外界粉尘进入到储液罐2中,参考图3,还设置了两个盖板9,所述盖板9覆盖在滑轨4上,两个盖板9之间为与排液管下方的安装位6形状匹配的间隙。当需要更换过滤网7时,将盖板9取走,移动滑动框5即可。在正常生产过程中,盖上该盖板9。
在本实施例中,所述盖板9的两侧设有折边,所述折边与滑轨4的外侧面贴合。
作为本实施例的进一步优选,所述储液罐2上设有延伸到储液罐2底部的抽液管10和延伸到储液罐2内部的稀释管11。
为了进一步提高防腐效果,所述滑轨4、滑动框5均为钛金属材质,所述滑动框5上设有若干螺栓孔,所述过滤网7通过钛金属的螺钉12锁紧在滑动框5上。当要更换过滤网7时,松开螺钉12即可。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (10)

1.一种电解铜箔生产系统中的溶铜过滤装置,包括溶铜罐和储液罐,其特征在于,所述储液罐的顶部设有进料口,所述进料口的外侧设有滑轨,所述滑轨以滑动配合的方式连接有滑动框,所述滑动框上设有至少2个安装位,所述安装位上以可拆卸的方式固定有钛金属材质的过滤网;
所述溶铜罐的底部设有排液管,当滑动框移动到第一预设位置时,其中一个安装位移动到排液管的下方,当滑动框移动到第二预设位置时,另外一个安装位移动到排液管的下方。
2.根据权利要求1所述的电解铜箔生产系统中的溶铜过滤装置,其特征在于,所述进料口为条状,所述滑轨为两根且分设在进料口的两侧。
3.根据权利要求1所述的电解铜箔生产系统中的溶铜过滤装置,其特征在于,所述进料口为圆形,所述滑轨为环状,所述安装位位于非圆心的位置。
4.根据权利要求2所述的电解铜箔生产系统中的溶铜过滤装置,其特征在于,所述溶铜罐的底部为锥形部。
5.根据权利要求4所述的电解铜箔生产系统中的溶铜过滤装置,其特征在于,所述排液管位于锥形部的底部。
6.根据权利要求2所述的电解铜箔生产系统中的溶铜过滤装置,其特征在于,还包括两个盖板,所述盖板覆盖在滑轨上,两个盖板之间为与排液管下方的安装位形状匹配的间隙。
7.根据权利要求6所述的电解铜箔生产系统中的溶铜过滤装置,其特征在于,所述盖板的两侧设有折边,所述折边与滑轨的外侧面贴合。
8.根据权利要求1-7任一所述的电解铜箔生产系统中的溶铜过滤装置,其特征在于,所述储液罐上设有延伸到储液罐底部的抽液管和延伸到储液罐内部的稀释管。
9.根据权利要求1-7任一所述的电解铜箔生产系统中的溶铜过滤装置,其特征在于,所述滑轨、滑动框均为钛金属材质。
10.根据权利要求1-7任一所述的电解铜箔生产系统中的溶铜过滤装置,其特征在于,所述过滤网通过钛金属的螺钉锁紧在滑动框上。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115094486A (zh) * 2022-05-26 2022-09-23 刘润华 一种电解铜箔生箔系统

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