CN214892392U - 新型晶圆低耗氮清洗后旋干机 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种新型晶圆低耗氮清洗后旋干机。该技术方案对旋干机的内部构造进行了创新性改进。具体来看,本实用新型采用单转轴驱动,在单转轴上纵向排列多个转盘,从而在有限的空间中充分扩大了承载能力;同时,转盘上设置多个带有卡爪的托盘,可对晶圆起到有效的固定作用;机仓内部设置排水管和气体调节管,其中气体调节管可连接至氮气气源或真空泵,从而引入氮气保护或构建真空环境,进而提升干燥速度。应用本实用新型,可显著增进处理效率和干燥速度,具有良好的使用效果和突出的技术优势。
Description
技术领域
本实用新型涉及晶圆制造技术领域,具体涉及一种新型晶圆低耗氮清洗后旋干机。
背景技术
晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片,其原始材料是硅。高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种,然后慢慢拉出,形成圆柱形的单晶硅。硅晶棒在经过研磨,抛光,切片后,形成硅晶圆片,也就是晶圆。
在晶圆的制造工艺中,表面清洗是必要的技术环节,清洗完成后,需要尽快使其表面干燥。现有技术中,这一过程主要是利用旋干机完成的。目前,常规旋干机的效率较为低下,单次处理数量较少,干燥时间较长,难以满足工艺要求。
发明内容
本实用新型旨在针对现有技术的技术缺陷,提供一种新型晶圆低耗氮清洗后旋干机,以解决常规旋干机效率较低的技术问题。
为实现以上技术目的,本实用新型采用以下技术方案:
新型晶圆低耗氮清洗后旋干机,包括机体,机仓,转轴,转盘,托盘,卡爪,排水管,气体调节管,电机,皮带,门体,端盖,其中,在机体的内部具有机仓,在机仓的内部设置有转轴,在转轴上固定连接有转盘,在转盘上具有若干托盘,在托盘上设置有卡爪,在机仓的下端固定连接有排水管,在机仓的侧端固定连接有气体调节管,在机仓的内部固定连接有电机,在电机的主轴与转轴之间绕接有皮带,在机体的侧端设置有门体,在机体的顶端设置有端盖。
作为优选,气体调节管连接至真空泵或氮气气源。
作为优选,在机体的下端设置有若干万向脚轮。
作为优选,在转轴上固定连接有若干转盘,若干转盘沿竖向间隔排列。
作为优选,在转轴上以及电机的主轴上分别固结有皮带轮,皮带绕接在两个皮带轮上。
本实用新型提供了一种新型晶圆低耗氮清洗后旋干机。该技术方案对旋干机的内部构造进行了创新性改进。具体来看,本实用新型采用单转轴驱动,在单转轴上纵向排列多个转盘,从而在有限的空间中充分扩大了承载能力;同时,转盘上设置多个带有卡爪的托盘,可对晶圆起到有效的固定作用;机仓内部设置排水管和气体调节管,其中气体调节管可连接至氮气气源或真空泵,从而引入氮气保护或构建真空环境,进而提升干燥速度。应用本实用新型,可显著增进处理效率和干燥速度,具有良好的使用效果和突出的技术优势。
附图说明
图1是本实用新型的俯视图;
图2是本实用新型的侧视图;
图中:
1、机体 2、机仓 3、转轴 4、转盘
5、托盘 6、卡爪 7、排水管 8、气体调节管
9、电机 10、皮带 11、门体 12、端盖。
具体实施方式
以下将对本实用新型的具体实施方式进行详细描述。为了避免过多不必要的细节,在以下实施例中对属于公知的结构或功能将不进行详细描述。以下实施例中所使用的近似性语言可用于定量表述,表明在不改变基本功能的情况下可允许数量有一定的变动。除有定义外,以下实施例中所用的技术和科学术语具有与本实用新型所属领域技术人员普遍理解的相同含义。
实施例1
新型晶圆低耗氮清洗后旋干机,如图1、图2所示,包括机体1,机仓2,转轴3,转盘4,托盘5,卡爪6,排水管7,气体调节管8,电机9,皮带10,门体11,端盖12,其中,在机体1的内部具有机仓2,在机仓2的内部设置有转轴3,在转轴3上固定连接有转盘4,在转盘4上具有若干托盘5,在托盘5上设置有卡爪6,在机仓2的下端固定连接有排水管7,在机仓2的侧端固定连接有气体调节管8,在机仓2的内部固定连接有电机9,在电机9的主轴与转轴3之间绕接有皮带10,在机体1的侧端设置有门体11,在机体1的顶端设置有端盖12。
实施例2
新型晶圆低耗氮清洗后旋干机,如图1、图2所示,包括机体1,机仓2,转轴3,转盘4,托盘5,卡爪6,排水管7,气体调节管8,电机9,皮带10,门体11,端盖12,其中,在机体1的内部具有机仓2,在机仓2的内部设置有转轴3,在转轴3上固定连接有转盘4,在转盘4上具有若干托盘5,在托盘5上设置有卡爪6,在机仓2的下端固定连接有排水管7,在机仓2的侧端固定连接有气体调节管8,在机仓2的内部固定连接有电机9,在电机9的主轴与转轴3之间绕接有皮带10,在机体1的侧端设置有门体11,在机体1的顶端设置有端盖12。其中,气体调节管8连接至真空泵或氮气气源。在机体1的下端设置有若干万向脚轮。在转轴3上固定连接有若干转盘4,若干转盘4沿竖向间隔排列。在转轴3上以及电机9的主轴上分别固结有皮带轮,皮带10绕接在两个皮带轮上。
以上对本实用新型的实施例进行了详细说明,但所述内容仅为本实用新型的较佳实施例,并不用以限制本实用新型。凡在本实用新型的申请范围内所做的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (5)
1.新型晶圆低耗氮清洗后旋干机,其特征在于包括机体(1),机仓(2),转轴(3),转盘(4),托盘(5),卡爪(6),排水管(7),气体调节管(8),电机(9),皮带(10),门体(11),端盖(12),其中,在机体(1)的内部具有机仓(2),在机仓(2)的内部设置有转轴(3),在转轴(3)上固定连接有转盘(4),在转盘(4)上具有若干托盘(5),在托盘(5)上设置有卡爪(6),在机仓(2)的下端固定连接有排水管(7),在机仓(2)的侧端固定连接有气体调节管(8),在机仓(2)的内部固定连接有电机(9),在电机(9)的主轴与转轴(3)之间绕接有皮带(10),在机体(1)的侧端设置有门体(11),在机体(1)的顶端设置有端盖(12)。
2.根据权利要求1所述的新型晶圆低耗氮清洗后旋干机,其特征在于,气体调节管(8)连接至真空泵或氮气气源。
3.根据权利要求1所述的新型晶圆低耗氮清洗后旋干机,其特征在于,在机体(1)的下端设置有若干万向脚轮。
4.根据权利要求1所述的新型晶圆低耗氮清洗后旋干机,其特征在于,在转轴(3)上固定连接有若干转盘(4),若干转盘(4)沿竖向间隔排列。
5.根据权利要求1所述的新型晶圆低耗氮清洗后旋干机,其特征在于,在转轴(3)上以及电机(9)的主轴上分别固结有皮带轮,皮带(10)绕接在两个皮带轮上。
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CN202121601409.0U CN214892392U (zh) | 2021-07-15 | 2021-07-15 | 新型晶圆低耗氮清洗后旋干机 |
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Cited By (1)
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CN117410214A (zh) * | 2023-12-14 | 2024-01-16 | 山东强茂电子科技有限公司 | 一种晶圆制造清洗后旋干设备 |
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2021
- 2021-07-15 CN CN202121601409.0U patent/CN214892392U/zh active Active
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN117410214A (zh) * | 2023-12-14 | 2024-01-16 | 山东强茂电子科技有限公司 | 一种晶圆制造清洗后旋干设备 |
CN117410214B (zh) * | 2023-12-14 | 2024-02-20 | 山东强茂电子科技有限公司 | 一种晶圆制造清洗后旋干设备 |
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