CN214487609U - 涂布面密度趋势的调节装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种涂布面密度趋势的调节装置,所述涂布面密度趋势的调节装置包括:下模头,所述下模头具有朝上敞开的模头腔体;涂布垫片,所述涂布垫片安装于所述下模头的上方且具有与所述模头腔体连通的出料口;数显定位仪和压片,所述压片安装于所述下模头,所述数显定位仪与所述压片相连且用于驱动所述压片运动以调节所述出料口的流通截面。本实用新型实施例的涂布面密度趋势的调节装置,通过数显定位仪调整压片与下模头的相对位置,以改变出料口的形状尺寸,从而调整浆料在模头腔体各个部位的浆料流动状态,进而调整涂布面密度趋势,以使得涂布面密度整体趋势正常,从而提高了涂布质量,且调节装置的结构简单,易于加工,制造成本低。
Description
技术领域
本实用新型涉及电池制造技术领域,尤其是涉及一种涂布面密度趋势的调节装置。
背景技术
通常情况下,一种结构的涂布模头腔体设计只能适应固定范围下的浆料特性,而匀浆工艺的改变、生产环境的波动、物料包装的大小、设备规格的变化等因素都会对成品浆料特性起到一定的作用,进而直接影响到涂布面密度趋势,导致涂布面密度不符合产品标准。现有技术中,涂布模头面密度调节只能通过对应异常点位对面密度单点调整,无法从根本上改变腔体结构设计,解决面密度异常趋势调节的难题,存在改进的空间。
实用新型内容
本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本实用新型的一个目的在于提出一种涂布面密度趋势的调节装置,可以根据涂布面密度趋势状况,手动调整模头内部腔体的结构设计形状尺寸,以调整浆料在模头腔体各个部位浆料流动状态,进而调整涂布面密度趋势的效果。
根据本实用新型实施例的涂布面密度趋势的调节装置,包括:下模头,所述下模头具有朝上敞开的模头腔体;涂布垫片,所述涂布垫片安装于所述下模头的上方且具有与所述模头腔体连通的出料口;数显定位仪和压片,所述压片安装于所述下模头,所述数显定位仪与所述压片相连且用于驱动所述压片运动以调节所述出料口的流通截面。
根据本实用新型实施例的涂布面密度趋势的调节装置,通过数显定位仪调整压片与下模头的相对位置,以改变出料口的形状尺寸,从而调整浆料在模头腔体各个部位的浆料流动状态,进而调整涂布面密度趋势,以使得涂布面密度整体趋势正常,从而提高了涂布质量,且调节装置的结构简单,易于加工,制造成本低。
根据本实用新型实施例的涂布面密度趋势的调节装置,所述压片可活动地安装于所述下模头的上表面和所述涂布垫片之间。
根据本实用新型实施例的涂布面密度趋势的调节装置,所述数显定位仪包括定位座和驱动件,所述定位座安装于所述下模头,所述驱动件可活动地安装于所述定位座,所述驱动件与所述压片相连且用于驱动所述压片运动,所述定位座集成有显示模块,所述显示模块用于显示所述驱动件的位移量。
根据本实用新型实施例的涂布面密度趋势的调节装置,所述定位座具有螺纹孔,所述驱动件包括调节螺杆,所述调节螺杆贯穿所述螺纹孔且与所述定位座螺纹连接,所述调节螺杆的第一端与所述压片相连,所述调节螺杆的第二端设有握持旋钮。
根据本实用新型实施例的涂布面密度趋势的调节装置,所述压片为多个,每个所述压片对应连接有两个所述数显定位仪,所述涂布垫片设有多组所述出料口,每组所述出料口包括两个所述出料口,且两个所述数显定位仪与两个所述出料口一一对应。
根据本实用新型实施例的涂布面密度趋势的调节装置,所述压片、所述数显定位仪和所述出料口均为多个,且多个所述压片、多个所述数显定位仪和多个所述出料口一一对应。
根据本实用新型实施例的涂布面密度趋势的调节装置,任意一个所述数显定位仪设置为单独可调。
根据本实用新型实施例的涂布面密度趋势的调节装置,多个所述压片沿所述模头腔体的长度方向依次布置。
根据本实用新型实施例的涂布面密度趋势的调节装置,还包括:上模头,所述上模头安装于所述下模头的上方,且所述压片与所述涂布垫片位于所述上模头和所述下模头之间,所述上模头和所述下模头通过贯穿所述涂布垫片的连接件可拆卸地相连,且所述压片设有用于避让所述连接件的避让孔。
根据本实用新型实施例的涂布面密度趋势的调节装置,所述下模头的上部还设有定位销,所述压片设有调整孔,所述定位销伸至所述调整孔内且与所述压片定位配合,所述调整孔的延伸方向与所述压片的运动方向相同,所述压片的最大位移量大于所述出料口的宽度。
本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本实用新型的实践了解到。
附图说明
本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:
图1是根据本实用新型实施例的涂布面密度趋势的调节装置的结构示意图;
图2是根据本实用新型实施例的涂布面密度趋势的调节装置的结构示意图(俯视图);
图3是根据本实用新型实施例的上模头和下模头的安装示意图。
附图标记:
涂布面密度趋势的调节装置100,
下模头1,连接板11,涂布垫片2,
数显定位仪3,定位座31,显示模块311,驱动件32,握持旋钮321,调节螺杆322,
压片4,调整孔41,上模头5,连接件6,定位销7,支撑架8。
具体实施方式
下面详细描述本实用新型的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本实用新型,而不能理解为对本实用新型的限制。
下面参考图1-图3描述根据本实用新型实施例的涂布面密度趋势的调节装置100。
如图1所实施,根据本实用新型实施例的涂布面密度趋势的调节装置100,包括:下模头1、涂布垫片2、数显定位仪3和压片4。
需要说明的是,下模头1安装在支撑架8的上端面处,且朝上延伸设置,支撑架8设有两个沿高度方向延伸的支脚,使得调节装置100能够与地面保持一定间距,从而便于操作人员进行操作。
下模头1具有朝上敞开的模头腔体,模头腔体适于储存用于加工涂布的浆料,其中,模头腔体的下周壁设有与外界连通的开孔,以使得浆料能够通过开孔进入模头腔体。需要说明的是,开孔连接有泵体,泵体适于将外界的浆料通过开孔泵入模头腔体,并使得模头腔体内的浆料从上方稳定溢出,从而对涂布的外表面进行加工。
涂布垫片2安装于下模头1的上方,且涂布垫片2具有与模头腔体连通的出料口,其中,涂布垫片2的出料口沿下模头1的宽度方向朝向一侧敞开,通过将涂布垫片2安装在模头腔体的上端,以对浆料进行限位,使得模头腔体内的浆料从上方溢出后,经由出料口朝向涂布方向流动,以对涂布进行加工。
压片4安装于下模头1,数显定位仪3与压片4相连,且数显定位仪3用于驱动压片4运动以调节出料口的流通截面。其中,数显定位仪3沿下模头1的宽度方向朝远离出料口的一端延伸设置,从而避开出料口,以避免浆料污染数显定位仪3而影响操作人员的操作。
可以理解的是,通过数显定位仪3的调节,压片4可以朝出料口方向移动,以使得压片4可以选择性地对出料口进行封堵,从而调节出料口的流通截面,以在泵体流量保持不变的情况下,起到改变模头腔体结构,改变浆料从出料口流出时的流动状态,从而调节涂布面密度趋势,达到面密度整体趋势正常且产品合格的目的。
本实用新型实施例的涂布面密度趋势的调节装置100,通过数显定位仪3调整压片4与下模头1的相对位置,以改变出料口的形状尺寸,从而调整浆料在模头腔体各个部位的浆料流动状态,进而调整涂布面密度趋势,以使得涂布面密度整体趋势正常,从而提高了涂布质量,且调节装置100的结构简单,易于加工,制造成本低。
在一些实施例中,如图3所示,压片4可活动地安装于下模头1的上表面和涂布垫片2之间。也就是说,通过将压片4设置在下模头1的上表面和涂布垫片2之间,在数显定位仪3的驱动下,压片4产生移动以直接改变出料口与模头腔体的连通面积,从而实现了出料口的流通截面的线性调节,保证了模头内部腔体结构变化可控。
在一些实施例中,如图1所示,数显定位仪3包括定位座31和驱动件32,定位座31安装于下模头1,驱动件32可活动地安装于定位座31,驱动件32与压片4相连,且驱动件32用于驱动压片4运动,定位座31集成有显示模块311,显示模块311用于显示驱动件32的位移量。
其中,如图3所示,下模头1的左侧面上设置有沿左右方向延伸的连接板11,连接板11的右端与下摸头的左侧面固定相连,连接板11的左端设有朝上延伸设置的翻边结构,以使连接板11整体构造为L型,定位座31贴合安装在翻边结构的左侧面,以与下模头1的左侧面间隔开,从而为驱动件32的安装预留空间。
需要说明的是,驱动件32可活动地安装在定位座31,且驱动件32可沿下模头1的宽度方向(如图3左右方向)活动,通过将驱动件32与压片4相连,使得驱动件32可以带动压片4沿下模头1的宽度方向(如图3左右方向)运动,以调节压片4与出料口的相对位置,从而改变出料口的流通截面的形状尺寸。如在驱动件32驱动压片4朝图3左侧运动时,压片4对出料口的遮挡部分的面积变小,以使出流口的实际出流面积增大,而在驱动件32驱动压片4朝图3右侧运动时,压片4对出料口的遮挡部分的面积变大,以使出流口的实际出流面积增小。
其中,通过在定位座31上集成有显示模块311,使得操作人员可以实时得知驱动件32的位移量,从而根据位移量计算出料口的实际流通截面,以准确调节涂布面密度趋势。
在一些实施例中,如图1所示,定位座31具有螺纹孔,驱动件32包括调节螺杆322,调节螺杆322贯穿螺纹孔且与定位座31螺纹连接,调节螺杆322的第一端与压片4相连,调节螺杆322的第二端设有握持旋钮321。
其中,定位座31设有沿下模头1宽度方向(图3左右方向)贯通的螺纹孔,连接板11的翻边上设有对应的通孔,调节螺杆322贯穿螺纹孔与定位座31螺接,并沿下模头1的宽度方向伸至压片4处与压片4相连,驱动件32能够相对定位座31产生移动,从而带动压片4相对下模头1产生相对移动,以调节出料口的流通截面的位置尺寸。
需要说明的是,如图3所示,调节螺杆322的第一端(图3中右端)的上表面构造为平面,且间隔设置有两个朝上敞开的连接孔,压片4上设有对应的通孔,通过将压片4的下侧面贴合在第一端的上表面处,并使得连接件6对应穿过通孔并伸至连接孔内,从而将压片4牢牢固定在调节螺杆322的第一端(图3中右端),使压片4可以随调节螺杆322运动,保证了调节过程的稳定性。
可以理解的是,通过操作人员旋转握持旋钮321,使得调节螺杆322与定位座31产生相对转动,通过螺接配合将转动转化为移动,使得压片4可以随驱动件32相对下模头1移动,操作方便,便于操作人员对驱动件32进行手动调节。
在一些实施例中,如图2所示,压片4为多个,每个压片4对应连接有两个数显定位仪3,涂布垫片2设有多组出料口,每组出料口包括两个出料口,且两个数显定位仪3与两个出料口一一对应。需要说明的是,涂布垫片2的多个出料口沿下模头1的长度方向间隔设置,以避免浆料在涂抹至涂布前重新混合在一起,从而保证了调节的有效性。
其中,单个压片4对应一组出料口,单个压片4对应两个数显定位仪3,两个数显定位仪3间隔设置在下模头1远离出料口的一侧,通过两个数显定位仪3分别与两个出料口对应设置,在数显定位仪3驱动压片4隔断出料口与模头腔体的连通的过程中,压片4能够准确调节单个出料口的流通截面,从而提高了涂布面密度趋势调节的准确性,这样,两个出料口可共用一个压片4,以减小压片4的数量,降低压片4的设置成本。
在一些实施例中,压片4、数显定位仪3和出料口均为多个,且多个压片4、多个数显定位仪3和多个出料口一一对应。也就是说,每个出料口都对应设置有单独的压片4和数显定位仪3,操作人员可以通过操作数显定位仪3,以对单个出料口的流通截面进行调整,大大提高了出料口的调整精度,从而提高了涂布质量。
在一些实施例中,任意一个数显定位仪3设置为单独可调,从而保证了调节过程的多样化和准确性。
在具体的执行过程中,当中间两列主料涂宽位置的面密度整体低于两边两列的面密度时,可以通过拧转中间两个数显定位仪3,调整中间出料口的流通截面,使得浆料的流动出料状态变化,使得中间出料口所形成涂宽处的极片面密度趋势发生变化,以调整中间两列涂宽位置面密度。
又或者单列涂宽位置的面密度异常时,如对应涂宽位置面密度异常低于其它列时,只需拧动该出料口对应的数显定位仪3使之带动压片4进行移动,从而调整对应出料口的流通截面,即可起到调整对应涂宽位置面密度的作用。
在一些实施例中,多个压片4沿模头腔体的长度方向依次布置,通过多个压片4共同配合,以完全封闭模头腔体,使得模头腔体内的浆料只能从出料口溢出,避免了浆料污染其它零件的情况,且保证了出料口的流通截面能够有效决定浆料的流动情况。
在一些实施例中,根据本实用新型实施例的涂布面密度趋势的调节装置100,还包括:上模头5。上模头5安装于下模头1的上方,且压片4与涂布垫片2位于上模头5和下模头1之间,上模头5和下模头1通过贯穿涂布垫片2的连接件6可拆卸地相连,且压片4设有用于避让连接件6的避让孔。
也就是说,上模头5固定在下模头1的上方,以对压片4进行限位,使得压片4始终在同一平面内进行活动,从而调整与出料口的相对位置,改变出料口的流通截面的尺寸长度。上模头5、下模头1、压片4和涂布垫片2的出料口共同配合,以限定出浆料的出流通道,保证浆料从一侧稳定流出,避免外溢至其它部件导致涂布质量变差。
需要说明的是,压片4的避让孔构造为单个沿厚度方向的贯穿孔,避让孔具有足够大的面积以避让所有连接件6,以使得压片4相对下模头1移动时,避让孔的内壁始终不与连接件6接触,从而保证了调节过程的稳定性,且通过设置单个避让孔,大大节约了加工成本,同时实现了压片4的轻量化设计,提高了材料利用率。
其中,下模头1设有多个朝上敞开的连接孔,上模头5和涂布垫片2对应设有多个沿高度方向的通孔,多个连接件6适于依次穿过上模头5、涂布垫片2和下模头1,以将涂布垫片2牢牢固定在下模头1和上模头5之间,并使得涂布垫片2在数显定位仪3调节压片4的过程中始终保持稳定,从而保证出料口的稳定性。
在一些实施例中,下模头1的上部还设有定位销7,压片4设有调整孔41,定位销7伸至调整孔41内且与压片4定位配合,调整孔41的延伸方向与压片4的运动方向相同,压片4的最大位移量大于出料口的宽度。其中,如图2和图3所示,压片4远离出料口的一侧沿下模头1的长度方向分别设有两个调整孔41,当定位销7处于调整孔41的最右侧(图3中右侧)时,压片4处于起始移动位置,数显定位仪3的示数为零。需要说明的是,调整孔41沿下模头1宽度方向的长度大于出料口的宽度,使得定位销7处于最大调节位置时,压片4能够完全封闭出料口,从而提高了数显定位仪3的调节范围。
其中,压片4的右侧面到避让孔内壁的距离大于压片4的最大位移量,以保证在压片4最大位移位置时浆料不会进入避让孔,从而保证调节过程的稳定性。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
在本实用新型的描述中,“第一特征”、“第二特征”可以包括一个或者更多个该特征。
在本实用新型的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上。
在本实用新型的描述中,第一特征在第二特征“之上”或“之下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。
在本实用新型的描述中,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,本领域的普通技术人员可以理解:在不脱离本实用新型的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由权利要求及其等同物限定。
Claims (10)
1.一种涂布面密度趋势的调节装置(100),其特征在于,包括:
下模头(1),所述下模头(1)具有朝上敞开的模头腔体;
涂布垫片(2),所述涂布垫片(2)安装于所述下模头(1)的上方且具有与所述模头腔体连通的出料口;
数显定位仪(3)和压片(4),所述压片(4)安装于所述下模头(1),所述数显定位仪(3)与所述压片(4)相连且用于驱动所述压片(4)运动以调节所述出料口的流通截面。
2.根据权利要求1所述的涂布面密度趋势的调节装置(100),其特征在于,所述压片(4)可活动地安装于所述下模头(1)的上表面和所述涂布垫片(2)之间。
3.根据权利要求1或2所述的涂布面密度趋势的调节装置(100),其特征在于,所述数显定位仪(3)包括定位座(31)和驱动件(32),所述定位座(31)安装于所述下模头(1),所述驱动件(32)可活动地安装于所述定位座(31),所述驱动件(32)与所述压片(4)相连且用于驱动所述压片(4)运动,所述定位座(31)集成有显示模块(311),所述显示模块(311)用于显示所述驱动件(32)的位移量。
4.根据权利要求3所述的涂布面密度趋势的调节装置(100),其特征在于,所述定位座(31)具有螺纹孔,所述驱动件(32)包括调节螺杆(322),所述调节螺杆(322)贯穿所述螺纹孔且与所述定位座(31)螺纹连接,所述调节螺杆(322)的第一端与所述压片(4)相连,所述调节螺杆(322)的第二端设有握持旋钮(321)。
5.根据权利要求1所述的涂布面密度趋势的调节装置(100),其特征在于,所述压片(4)为多个,每个所述压片(4)对应连接有两个所述数显定位仪(3),所述涂布垫片(2)设有多组所述出料口,每组所述出料口包括两个所述出料口,且两个所述数显定位仪(3)与两个所述出料口一一对应。
6.根据权利要求1所述的涂布面密度趋势的调节装置(100),其特征在于,所述压片(4)、所述数显定位仪(3)和所述出料口均为多个,且多个所述压片(4)、多个所述数显定位仪(3)和多个所述出料口一一对应。
7.根据权利要求5或6所述的涂布面密度趋势的调节装置(100),其特征在于,任意一个所述数显定位仪(3)设置为单独可调。
8.根据权利要求5或6所述的涂布面密度趋势的调节装置(100),其特征在于,多个所述压片(4)沿所述模头腔体的长度方向依次布置。
9.根据权利要求1所述的涂布面密度趋势的调节装置(100),其特征在于,还包括:上模头(5),所述上模头(5)安装于所述下模头(1)的上方,且所述压片(4)与所述涂布垫片(2)位于所述上模头(5)和所述下模头(1)之间,所述上模头(5)和所述下模头(1)通过贯穿所述涂布垫片(2)的连接件(6)可拆卸地相连,且所述压片(4)设有用于避让所述连接件(6)的避让孔。
10.根据权利要求1所述的涂布面密度趋势的调节装置(100),其特征在于,所述下模头(1)的上部还设有定位销(7),所述压片(4)设有调整孔(41),所述定位销(7)伸至所述调整孔(41)内且与所述压片(4)定位配合,所述调整孔(41)的延伸方向与所述压片(4)的运动方向相同,所述压片(4)的最大位移量大于所述出料口的宽度。
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Date | Code | Title | Description |
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GR01 | Patent grant | ||
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