CN214476453U - 硼化杜镁丝 - Google Patents

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朱向阳
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Abstract

本实用新型公开了一种硼化杜镁丝,包括铁镍合金基材、包裹于所述铁镍合金基材外表面的第一镍层、包裹于于所述第一镍层外表面的铜层、包裹于于所述铜层外表面的第二镍层、包裹于于所述第二镍层外表面的硼化层,所述第一镍层厚度为2‑3微米,所述铜层厚度为所述铁镍合金基材直径的0.12‑0.135倍,所述第二镍层的厚度为1‑1.5微米,所述硼化层的厚度为5‑10微米。

Description

硼化杜镁丝
技术领域
本实用新型涉及一种硼化杜镁丝。
背景技术
杜美丝又称覆铜镍铁合金丝,为纯铜包覆于镍铁合金上。氧化杜美丝,就是于铜层表面生成氧化亚铜,主要使用于半导体产业中的玻封二极管中及电路板的电容镶嵌。氧化亚铜能有效的与加热后的玻璃紧密的封合在一起,用来达到密封的效果。氧化杜美丝外表层与玻璃有着相近的膨胀系数,能于加热封接时与玻璃同时收缩,使经表面加工处理后的杜美丝与玻璃紧密的结合在一起,避免了膨胀系数不匹配可能造成的玻璃破裂及密封不良现象。
目前现有生产的杜美丝,其产品缺点是与玻璃封接易产生气泡与慢性漏气、易吸潮氧化霉变、保存期短、表面硼层牢固性差、制作导丝时焊接性能差等。其传统的生产工艺通常采用镀铜技术,其存在镀层不稳定的问题,影响产品品质。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有技术中存在的缺陷,提供一种硼化杜镁丝,增强镀铜层与铁镍合金基材之间的结合力。
为实现上述目的,本实用新型的技术方案是提供了一种硼化杜镁丝,包括铁镍合金基材、包裹于所述铁镍合金基材外表面的第一镍层、包裹于于所述第一镍层外表面的铜层、包裹于于所述铜层外表面的第二镍层、包裹于于所述第二镍层外表面的硼化层,所述第一镍层厚度为2-3微米,所述铜层厚度为所述铁镍合金基材直径的0.12-0.135倍,所述第二镍层的厚度为1-1.5微米,所述硼化层的厚度为5-10微米。
进一步改进的是,所述第一镍层、所述第二镍层均为镀锡层。
进一步改进的是,所述铜层采用套铜管或者镀铜。
本实用新型的优点和有益效果在于:在铁镍合金基材表面预镀镍,而后再加工铜层,由此大大提高了镀铜层与基材之间的结合力,大大提高了硼化杜镁丝各镀层之间的结合力,保证了产品的稳定性。
附图说明
图1为本实用新型示意图。
其中:1、铁镍合金基材;2、第一镍层;3、铜层;4、第二镍层;5、硼化层。
具体实施方式
下面结合实施例,对本实用新型的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案,而不能以此来限制本实用新型的保护范围。
如图1所示,一种硼化杜镁丝,包括铁镍合金基材1、包裹于所述铁镍合金基材外表面的第一镍层2、包裹于于所述第一镍层2外表面的铜层3、包裹于于所述铜层3外表面的第二镍层4、包裹于于所述第二镍层4外表面的硼化层5,所述第一镍层2厚度为2-3微米,所述铜层3厚度为所述铁镍合金基材直径的0.12-0.135倍,所述第二镍层4的厚度为1-1.5微米,所述硼化层5的厚度为5-10微米。
如铁镍合金基材1直径为5.8mm时,铜层3的厚度为0.725mm,本实施例中铜层可以采用套铜管的方式,如CN201810747196.9公开了其具体的工艺,本申请中不再赘述,另外也可以采用传统的镀铜工艺。
本实施例中优选地,所述第一镍层2、所述第二镍层4均为镀锡层。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型技术原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (3)

1.一种硼化杜镁丝,其特征在于:包括铁镍合金基材、包裹于所述铁镍合金基材外表面的第一镍层、包裹于于所述第一镍层外表面的铜层、包裹于于所述铜层外表面的第二镍层、包裹于于所述第二镍层外表面的硼化层,所述第一镍层厚度为2-3微米,所述铜层厚度为所述铁镍合金基材直径的0.12-0.135倍,所述第二镍层的厚度为1-1.5微米,所述硼化层的厚度为5-10微米。
2.如权利要求1所述硼化杜镁丝,其特征在于:所述第一镍层、所述第二镍层均为镀锡层。
3.如权利要求1所述硼化杜镁丝,其特征在于:所述铜层采用套铜管或者镀铜。
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