CN214123849U - 一种陶瓷基板清洗用放置治具 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及基板清洗用具技术领域,尤其涉及一种陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,包括治具本体,所述治具本体上表面开设有若干基板放置位,所述基板放置位的周边设有定位挡框,所述基板放置位上开设有若干导流槽,所述导流槽的端部均向所述治具本体外部相连通。在治具本体上开设的若干基板放置位和定位挡框,能够同时对多个基板进行固定,防止其左右移动或与其他基板聚集;基板放置位底部开设的导流槽,能够使I PA(异丙醇)等洗涤液体从基板底部流动,进而确保玻璃与基板之间冲洗掉的石蜡全部带出,使清洗效果更佳。
Description
技术领域
本实用新型涉及基板的清洗用具技术领域,尤其涉及一种陶瓷基板清洗用放置治具。
背景技术
以往的陶瓷基板切割工艺是将陶瓷基板粘贴在UV膜上,再进行激光切割,切割完后UV膜取下,由于UV膜粘性强,导致取下UV膜后,陶瓷基板接触UV膜的那一面还残留一些胶,直接就导致产品报废,良率十分低下。为了解决这个问题,通过各种的试验,得出在陶瓷基板上放一个保护玻璃可以有效地解决这个问题,且脱离玻璃的时候,不会对陶瓷基板造成任何刮伤,也不会在陶瓷基板上留有残胶等杂物,以满足客户的需求。为了让切割后的陶瓷基板不留有残胶,需要把陶瓷基板放入IPA(异丙醇)液体中静置一段时间,以确保陶瓷基板与保护玻璃之间的石蜡被清理干净。
但是,基板的放置却是一个难题,直接将陶瓷基板放置到洗槽中,那各陶瓷基板之间容易相互影响,甚至造成划伤等;而且若基板直接放置到洗槽中,会增大基板表面与其他基板或者洗槽的接触面积,不利于基板表面的清洗,清洁。
实用新型内容
为解决上述背景技术中提出的问题,本实用新型提供一种陶瓷基板清洗用放置治具。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种陶瓷基板清洗用放置治具,包括治具本体,所述治具本体上表面开设有若干基板放置位,所述基板放置位的周边设有定位挡框,所述基板放置位上开设有若干导流槽,所述导流槽的端部均向所述治具本体外部相连通。
优选地,所述基板放置位在所述治具本体上呈网格状布设,所述治具本体外围边缘处及各相邻所述基板放置位之间均设有围设有定位挡框。
优选地,所述基板放置位呈圆形、矩形或者其它与所述陶瓷基板相匹配的形状。
优选地,围设于矩形基板放置位周边的所述定位挡框的转角处呈倒圆角设置。
优选地,所述导流槽在所述治具本体上纵横交错设置,并在长度和/或宽度方向上贯穿整个治具本体。
优选地,所述导流槽的深度≥0.5mm,导流槽宽度≥1mm。
优选地,所述治具本体的上表面为铁氟龙材质。
优选地,所述治具本体为铁氟龙材质。
优选地,所述治具本体的下表面上设有一层铝合金板。
优选地,所述治具本体上开设有若干固定孔。
本实用新型的有益效果是:在治具本体上开设的若干基板放置位和定位挡框,能够同时对多个基板进行固定,防止其左右移动或与其他基板聚集;基板放置位底部开设的导流槽,能够使IPA(异丙醇)等洗涤液体从基板底部流动,进而确保玻璃与基板之间冲洗掉的石蜡全部带出,使清洗效果更佳。
附图说明
图1是治具本体的立体结构图。
图2是图1中B处的放大图。
图3是治具本体的正视图。
图4是图3中A-A处的截面图。
其中:1-治具本体,2-基板放置位,3-定位挡框,4-导流槽,5-倒圆角,6-铝合金板,7-定位孔。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型做进一步说明。
实施例1
一种陶瓷基板清洗用放置治具,如图1到图4所示,包括治具本体1,所述治具本体1上表面开设有若干基板放置位2,所述基板放置位2的周边设有定位挡框3,所述基板放置位2上开设有若干导流槽4,所述导流槽4的端部均向所述治具本体1外部相连通。所述基板放置位2在所述治具本体1上呈网格状布设,所述治具本体1外围边缘处及各相邻所述基板放置位2之间均设有围设有定位挡框3。
当将若干个陶瓷基板均放置到相适配的基板放置位2内,在治具本体1上开设的若干基板放置位2和定位挡框3,能够同时对多个陶瓷基板进行固定,防止其左右移动或与其他基板聚集;基板放置位3底部开设的导流槽4,能够使IPA(异丙醇)等洗涤液体从陶瓷基板底部流动,进而确保玻璃与陶瓷基板之间冲洗掉的石蜡全部带出,使清洗效果更佳。
在有些实施例中,所述基板放置位2呈圆形、矩形或者其它与所述陶瓷基板相匹配的形状,以方便适应不同形状的陶瓷基板的放置。
在有些实施例中,围设于矩形基板放置位2周边的所述定位挡框3的转角处呈倒圆角5设置。由于基板一般是四方直角的,因此在将基板放入治具中或拿出的时候,需要保证产品的四个角不会被磕坏,因此在基板放置位2周边的定位挡框2内侧的四个拐角处需要倒圆角。
在有些实施例中,所述导流槽4在所述治具本体1上纵横交错设置,并在长度和/或宽度方向上贯穿整个治具本体1,方便各导流槽4相互连通,便于洗涤废液从底部排出。
在有些实施例中,所述导流槽4的深度≥0.5mm,导流槽4宽度≥1mm。
在有些实施例中,所述治具本体1的上表面为铁氟龙材质,具有很好的耐热、耐腐蚀性能,具有很好的滑动性和不黏性,极大的减小了清洗的污渍或石蜡附着在治具本体1上的可能性。
在有些实施例中,所述治具本体1为铁氟龙材质。所述治具本体1的下表面上设有一层铝合金板6。由于铁氟龙材质较为柔软,为防止工作时治具本体1容易发生弯曲,故而在治具本体1的下表面贴附有一层铝合金板6层,以便对底板1起到固定作用。
在有些实施例中,所述治具本体1上开设有5个带有螺纹的固定孔7,以方便对治具本体1的固定。
以上实施方式仅用于说明本实用新型,而并非对本实用新型的限制,有关技术领域普通技术人员,在不脱离本实用新型精神和范围的情况下,还可以做出各种变化和变型,因此所有等同的技术方案也属本实用新型的范畴,本实用新型专利保护范围应由权利要求限定。
Claims (10)
1.一种陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,包括治具本体(1),所述治具本体(1)上表面开设有若干基板放置位(2),所述基板放置位(2)的周边设有定位挡框(3),所述基板放置位(2)上开设有若干导流槽(4),所述导流槽(4)的端部均向所述治具本体(1)外部相连通。
2.根据权利要求1所述的陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,所述基板放置位(2)在所述治具本体(1)上呈网格状布设,所述治具本体(1)外围边缘处及各相邻所述基板放置位(2)之间均设有围设有定位挡框(3)。
3.根据权利要求1所述的陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,所述基板放置位(2)呈圆形、矩形或者其它与所述陶瓷基板相匹配的形状。
4.根据权利要求3所述的陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,围设于矩形基板放置位(2)周边的所述定位挡框(3)的转角处呈倒圆角(5)设置。
5.根据权利要求1所述的陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,所述导流槽(4)在所述治具本体(1)上纵横交错设置,并在长度和/或宽度方向上贯穿整个治具本体(1)。
6.根据权利要求1所述的陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,所述导流槽(4)的深度≥0.5mm,导流槽(4)宽度≥1mm。
7.根据权利要求1所述的陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,所述治具本体(1)的上表面为铁氟龙材质。
8.根据权利要求1所述的陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,所述治具本体(1)为铁氟龙材质。
9.根据权利要求8所述的陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,所述治具本体(1)的下表面上设有一层铝合金板(6)。
10.根据权利要求1所述的陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,所述治具本体(1)上开设有若干固定孔(7)。
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CN202120347235.3U CN214123849U (zh) | 2021-02-07 | 2021-02-07 | 一种陶瓷基板清洗用放置治具 |
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CN214123849U true CN214123849U (zh) | 2021-09-03 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113698083A (zh) * | 2021-09-26 | 2021-11-26 | 浙江美迪凯光学半导体有限公司 | 一种厚玻璃精确定位切割工艺 |
CN114101937A (zh) * | 2021-11-26 | 2022-03-01 | 浙江美迪凯光学半导体有限公司 | 一种陶瓷基板粘蜡切割工艺 |
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- 2021-02-07 CN CN202120347235.3U patent/CN214123849U/zh active Active
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