CN203367242U - 蚀刻置具 - Google Patents

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Abstract

本实用新型提供一种蚀刻置具,用于夹持基板以供该基板的蚀刻制程的进行,其包含:底座、上盖、及第一密封止挡组件,基板置放于自底座下凹的容置部内,借助上盖及设于底座周缘的固定件来将基板夹持于其中,该上盖具有由内缘所形成的中间篓空部,以露出该基板的部分的上蚀刻面,该内缘并延伸至该基板上方以使该上盖遮蔽该基板的上蚀刻面的其余部分,其中该上盖在覆盖该基板的面上具有环绕该上盖内缘的第一凹槽,并于该第一凹槽内设有与上盖及基板接触的第一密封止挡组件,因此,本实用新型的蚀刻置具可适用于较薄的基板的蚀刻制程。

Description

蚀刻置具
技术领域
本实用新型涉及一种蚀刻置具,尤其涉及一种用于夹持基板以供该基板的蚀刻制程的进行的蚀刻置具。 
背景技术
蚀刻技术已广泛应用于各种基板的加工,如液晶玻璃、触控面板、硅芯片等板状基材或其他薄膜基板等,随着薄型化、轻量化的需求带动下,各种基板的厚度越来越薄,也使得薄型基板的蚀刻难度越来越高。 
传统上,对于薄型基板,例如厚度为0.5mm以下(例如:薄至0.05mm以下)的基板的蚀刻,在制程上常会因易破裂情形的发生而导致良率相当低。本实用新型即是对薄型基板的蚀刻提出一种改进方案。 
发明内容
本实用新型的一目的在于使薄型基板蚀刻的良率大幅提升。 
本实用新型的另一目的在于使薄型基板在湿制程(清洗、显影、蚀刻、去膜、吹烘干)下提高其良率。 
为达上述目的及其他目的,本实用新型的用于夹持基板以供该基板可顺利进行蚀刻制程的蚀刻置具,包含有:底座,自顶面向下凹陷有供该基板置放的容置部,该底座周缘并设有至少一固定件;上盖,借助该至少一固定件固定于该底座的容置部周围的该顶面上,该上盖具有由内缘形成的中间篓空部,以露出该基板的部分的上蚀刻面,该内缘并延伸至该基板上方以使该上盖遮蔽该基板的上蚀刻面的其余部分,其中,该上盖在覆盖该基板的面上具有环绕该上盖的内缘的第一凹槽;以及第一密封止挡组件,设于该第一凹槽内以围绕该上盖的内缘,该第一密封止挡组件与该上盖及该基板接触。 
在本实用新型的一实施例中,该底座的容置部的底面更包含贯穿该底座的多个通孔,该等通孔对应于该基板于该蚀刻制程中所需的下蚀刻图案止挡层。 
在本实用新型的一实施例中,该底座的容置部的底面为与该基板紧靠而不具有通孔的一平坦面。 
在本实用新型的一实施例中,该底座的容置部的底面于中间部位具有一开口,使该底座呈一环状。此外,进一步地,该蚀刻置具还包含有:网片,具有多个网孔,其设置于该容置部上以供该上盖于盖合时将该网片的边缘夹持于该基板与该容置部之间。 
在本实用新型的一实施例中,该上盖更包含覆盖于该底座的顶面上且环绕该第一凹槽外围的第二凹槽,第二密封止挡组件设于该第二凹槽内以围绕该第一凹槽,该第二密封止挡组件与该上盖及该底座的顶面相接触。 
在本实用新型的一实施例中,该底座在周缘还包含有一挂钩延伸部。 
在本实用新型的一实施例中,该第一及第二密封止挡组件为O型环(O-ring)。 
因此,薄型基板由于稳固地被夹持在底座的容置部中,使得基板例如:浸泡于蚀刻液的蚀刻过程中,除了蚀刻面之外,基板皆可被定位及保护住,而不易在运送或浸泡入蚀刻液的瞬间造成基板的破裂或刮伤等情况,进而可大幅提高制作的良率。 
附图说明
图1A为本实用新型一实施例中的蚀刻置具夹持基板的立体剖面视图。 
图1B为图1A的剖面线的正视剖面图。 
图2为图1A的各部件分解示意图。 
图3A为本实用新型另一实施例中的蚀刻置具夹持基板的立体剖面视图。 
图3B为图3A的剖面线的正视剖面图。 
图4为图3A的各部件分解示意图。 
图5为本实用新型再一实施例中的蚀刻置具夹持基板的立体示意图。 
图6为本实用新型再一实施例中的蚀刻置具夹持基板的立体剖面视图。 
图7为本实用新型再一实施例中的蚀刻置具夹持基板的立体剖面视图。符号说明: 
100   上盖 
110   第一密封止挡组件 
120   第二密封止挡组件 
200a  底座 
200b  底座 
200c  底座 
200d  底座 
200e  底座 
210   底座的顶面 
220   容置部 
230   固定件 
240   通孔 
280   挂钩延伸部 
300   基板 
310   上蚀刻图案止挡层 
320   下蚀刻图案止挡层 
400   蚀刻部 
500   网片 
具体实施方式
为充分了解本实用新型的目的、特征及功效,现借由下述具体的实施例,并配合所附的图式,对本实用新型做一详细说明,说明如后: 
本实用新型提出的蚀刻置具可让薄型式(例如基板厚度为5mm以下,但不以此为限)的基板被顺利的蚀刻出所需的图样而不易在制成过程中发生破裂或刮伤。本实用新型的蚀刻置具可用于单面蚀刻的基板使用或双面蚀刻的基板使用,其仅需采用不同的底座。接下来将佐以图式做个实施态样的说明。 
首先,请同时参照图1A及图1B,图1A为本实用新型一实施例中的蚀刻置具夹持基板的立体剖面视图;图1B为图1A的剖面线的正视剖面图。本实施例中的蚀刻置具包含:底座200a、上盖100、及第一密封止挡组件110。底座200a的顶面210向下凹陷有供基板300置放的一容置部220,该基板300可被容置且定位在该容置部220中,其中,该容置部220的深度对应基板300的厚度加上附着于基板上用来产生蚀刻图案的上蚀刻图案止挡层310(在后续的图3B中更加上一层下蚀刻图案止挡层320)。该底座200a周缘则设有至少一固定件230,其用于固定后续覆盖于基板上的上盖100,图1A及图1B以卡扣组件作为该固定件230的示例,应了解的是任何其他的固定组件皆可适用本实用新型。 
上盖100借助该至少一固定件230而被固定于该底座200a的该顶面210上,其中该顶面210位于容置部220的周围,该上盖100则是通过该顶面210作为抵靠之用。该上盖100为中间篓空,该中间篓空部的范围是通过上盖100的内缘所定义,该中间篓空部用于露出该基板300的部分的上蚀刻面(亦即,露出一部分的上蚀刻图案止挡层310),上盖100的内缘并延伸至该基板300上方以使该上盖100遮蔽该基板300的上蚀刻面的其余部分(亦即,遮蔽其余的上蚀刻图案止挡层310)。 
此外,该上盖100在覆盖该基板300的面上具有环绕该上盖100内缘的第一凹槽,该第一凹槽内设有第一密封止挡组件110。该第一密封止挡组件110与该上盖100及该基板300接触,以止挡蚀刻液的渗入。其中,该第一密封止挡组件110例如可以是弹性材质制成的O型环(O-ring),然而,本处及后续所提及的密封止挡组件亦可为其他形状例如:方形、椭圆形等可达密封止挡功效的形状。 
进一步地,如图1A及图1B所示,除了该第一密封止挡组件110外,还增设第二密封止挡组件120来提高防止外侧蚀刻液渗入的效果。其中,该上盖100在覆盖于该底座200a的顶面210上且环绕该第一凹槽外围处设有第二凹槽,第二密封止挡组件120即设于该第二凹槽内以围绕该第一凹槽,该第二密封止挡组件120同样地与该上盖100及该底座200a的顶面210相接触。此外,第二密封止挡组件120例如可以是弹性材质制成的O型环(O-ring)。 
接着请参阅图2,依据图1A的各部件分解示意图。该基板300借助所附加的上蚀刻图案止挡层310来进行单方向性的图案化蚀刻制程。该基板300被定位于该底座200a的容置部220中,该上盖100借助底座200a的顶面210及固定组件230的搭配将待蚀刻的薄型的基板300稳固地夹持于其中,使其余后续的蚀刻制程不易发生碎裂、破裂、刮伤等情况。图1A、1B及图2所示例的该底座200a的容置部220的底面为与该基板300紧靠而不具有通孔的一平坦面。 
接着请同时参照图3A、3B及图4,图3A为本实用新型另一实施例中的蚀刻置具夹持基板的立体剖面视图;图3B依据图3A的剖面线的正视剖面图;图4依据图3A的各部件分解示意图。本实施例与图1A、图1B的差异在于本实施例是将底座进行进一步的变化以供该基板300需要双面蚀刻制程时使用,使该基板300形成有穿透性的孔洞。为使该基板下方也可同时性地被蚀刻,该底座200b的容置部220的底面还包含贯穿该底座200b的多个通孔240,该等通孔240对应于该基板300于该蚀刻制程中所需的下蚀刻图案止挡层320(由于基板300形成穿透性的孔洞,因此下蚀刻图案止挡层320会对应到上蚀刻图案止挡层310),在实施态样中,该底座200b的通孔240通常会较下蚀刻图案止挡层320所露出的孔洞(供蚀刻液咬蚀)还大。其中,该孔壁可为直孔状或上窄下宽的喇叭孔状,图3A及图3B以上窄下宽的喇叭孔状作为示例。 
图3A、3B及图4的实施例也如同前述的实施例般,蚀刻止挡组件可仅具有第一蚀刻止挡组件110或同时具有第一蚀刻止挡组件110及第二蚀刻止挡组件120,以图3A、3B及图4的实施例来说,如图所示,双面的蚀刻制程较佳同时具有第一蚀刻止挡组件110及第二蚀刻止挡组件120,以具有较 佳的防止蚀刻液渗入的效果。 
接着请参照图5,本实施例与前述实施例的不同处在于该底座200c在其周缘更包含有一挂钩延伸部280,其便于在垂直吊挂式的蚀刻制程中的自动化蚀刻制程的进行,以供运送机具通过该挂钩延伸部280来勾取,并可供自蚀刻液槽中的吊起或浸入的进行。其中,图5所示的挂钩延伸部280的方向仅为一种示例,并非为对挂钩延伸部延展形状的限制,举例来说,其挂钩的方向可进行改变。 
接着请参照图6,为本实用新型再一实施例中的蚀刻置具夹持基板的立体剖面视图。本实施例中外加一网片500,该网片500取代了图3A及3B的实施例中的底座200b的通孔240结构。该网片50由于具有多个网孔,因而可供蚀刻液的通过,再通过分别在基板300上下贴附的上蚀刻图案止挡层310及下蚀刻图案止挡层320来形成基板蚀刻制程中的图案化。如图6所示,该网片500设置于容置部上以供该上盖100,在固定件230的协同运作而盖合压紧时,将该网片500的边缘夹持于该基板300与容置部之间。其中,底座200d具有自上而下贯穿的一开口,容置部则是位于该开口侧缘处,用于与该上盖100协同运作来盖合压紧基板300及网片500。此外,本实施例亦可如图5一样,在底座周缘额外包含一挂钩延伸部。 
接着请参照图7,依据本实用新型再一实施例中的蚀刻置具夹持基板的立体剖面视图。其与图6的差异在于图7不具有该网片500,而在该底座200e的容置部的底面的中间部位具有一开口(即自上而下贯通该底座200e),使该底座200e呈一环状外观。容置部位于该开口侧缘处,用于与该上盖100协同运作来盖合压紧基板300。此外,本实施例也可如图5一样,在底座周缘额外包含一挂钩延伸部。 
本实用新型在前述各实施例中皆是以圆形的基板及与该圆形基板搭配的蚀刻置具作为示例,然并非以此为限,其他形状(如:矩形、多角形、异方形等)的基板及依该基板的形状而与其搭配的蚀刻置具皆可适用本实用新型。 
本实用新型在上文中已以较佳实施例公开,但是熟悉本领域的技术人员应理解的是,该实施例仅用于描绘本实用新型,而不应解读为限制本实用新型的范围。应注意的是,所有与该实施例等效的变化与置换,均应设为涵盖 于本实用新型的范畴内。因此,本实用新型的保护范围当以权利要求所界定者为准。 

Claims (8)

1.一种蚀刻置具,用于夹持基板以供该基板的蚀刻制程的进行,其特征在于,其包含: 
底座,自顶面向下凹陷有供该基板置放的容置部,该底座周缘并设有至少一固定件; 
上盖,借助该至少一固定件固定于该底座的容置部周围的该顶面上,该上盖具有由内缘形成的中间篓空部,以露出该基板的部分的上蚀刻面,该内缘并延伸至该基板上方以使该上盖遮蔽该基板的上蚀刻面的其余部分,其中,该上盖在覆盖该基板的面上具有环绕该上盖的内缘的第一凹槽;以及 
第一密封止挡组件,设于该第一凹槽内以围绕该上盖的内缘,该第一密封止挡组件与该上盖及该基板接触。 
2.如权利要求1所述的蚀刻置具,其特征在于,该底座的容置部的底面更包含贯穿该底座的多个通孔,该等通孔对应于该基板于该蚀刻制程中所需的下蚀刻图案止挡层。 
3.如权利要求1所述的蚀刻置具,其特征在于,该底座的容置部的底面为与该基板紧靠而不具有通孔的一平坦面。 
4.如权利要求1所述的蚀刻置具,其特征在于,该底座的容置部的底面于中间部位具有一开口,使该底座呈一环状。 
5.如权利要求4所述的蚀刻置具,其特征在于,还包含: 
网片,具有多个网孔,其设置于该容置部上以供该上盖于盖合时将该网 
片的边缘夹持于该基板与该容置部之间。 
6.如权利要求1至5中任一项所述的蚀刻置具,其特征在于,该上盖还包含覆盖于该底座的顶面上且环绕该第一凹槽外围的第二凹槽,第二密封止挡组件设于该第二凹槽内以围绕该第一凹槽,该第二密封止挡组件与该上盖及该底座的顶面相接触。 
7.如权利要求6所述的蚀刻置具,其特征在于,该底座于周缘还包含有挂钩延伸部。 
8.如权利要求6所述的蚀刻置具,其特征在于,该第一及第二密封止挡组件为O型环。 
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