CN214051850U - 一种中药散剂研磨装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种中药散剂研磨装置，包括上下布置的研磨平台和研磨底座，研磨平台上方设有研磨组件；研磨组件包括位于研磨平台上方的驱动台和驱动机构，本实用新型中的研磨平台能够上下移动，在研磨过程中驱动杆周向转动能够带动摆动杆摆动，使各个研磨辊在研磨平台上滚动实现对药材的研磨；研磨辊在反复滚动过程中逐渐完成对药材的精细化研磨，不仅显著提高了药材研磨效率，并且有利于提高药材品质和药品生产质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及中药材处理技术领域，具体涉及一种中药散剂研磨装置。
背景技术
腋臭俗称狐臭，又名腋臭、腋气，出自《肘后救卒方》，是指腋窝等褶皱部位散发难闻气味，腋下分泌物具有特异臭味的病证。是湿热郁结于腠理汗孔所致，或因遗传所得。由于地域差异性，黄色人种的体味极轻，狐臭患者就如鹤立鸡群一般格外突出，周围的人就感觉特别刺鼻。现有技术中治疗狐臭主要是通过药物和手术两种途径，由于手术途径存在一定风险，因此以药物治疗位柱，药物治疗的方式主要采用多种中药材制成药膏使用；在制备过程中需要对密陀僧、空青、冰片等中药研磨成散剂，现有技术中的研磨设备研磨效率较低并且研磨成型后颗粒较大，在一定程度上降低了生产效率和成品质量。
实用新型内容
针对现有技术的缺陷，本实用新型的目的在于提供一种中药散剂研磨装置；能够对粉碎后的中药材进行高效精细研磨。
本实用新型采用的技术方案是：一种中药散剂研磨装置，包括上下布置的研磨平台和研磨底座，所述研磨平台能够沿竖向升降；所述研磨平台上方设有研磨组件；所述研磨组件包括位于研磨平台上方的驱动台和驱动机构，所述驱动台能够沿水平方向往复滑动，所述驱动台上设有若干间隔布置的研磨辊；所述驱动机构包括摆动杆和驱动杆，所述驱动杆下端与摆动杆中部滑动配合，所述驱动杆绕其上端周向转动时，所述摆动杆绕其上端摆动；所述摆动杆下端铰接有联动杆，所述联动杆远离摆动杆的一端与驱动台铰接相连；当所述驱动杆绕其上端转动时，能够带动驱动台沿水平方向往复滑动。
本技术方案中：研磨平台位于研磨底座上方并且能够上下移动，当研磨平台上升后能够与研磨组件的研磨辊滚动配合。各类药材混合后可放置在研磨平台上即可通过研磨辊进行精细化研磨。研磨辊通过摆动结构驱动使其对药材进行高效精细化研磨，即驱动杆周向转动过程中可带动摆动杆绕其上端摆动，摆动杆在摆动过程中通过联动杆拉动驱动台在水平方向往复移动，进而使各个研磨辊在研磨平台上滚动；研磨辊在反复滚动过程中逐渐完成对药材的精细化研磨，完成研磨后研磨平台能够向下移动一方面有利于卸下中药粉末另一方面便于在后续研磨操作中上料，通过上述研磨结构显著提高了药材研磨效率，有利于提高药材品质和药品生产质量。
优选的，所述研磨平台上表面设有能够与研磨辊滚动配合的研磨槽，所述研磨槽端部设有下料口。
优选的，所述研磨槽底壁设有硬质光滑层。
优选的，所述研磨辊上套有研磨套，所述研磨套表面均匀布置有研磨凸起。
优选的，所述研磨平台对应研磨槽远离下料口的一端设有下料滑块，所述下料滑块能够沿研磨槽滑动，所述下料滑块前端边缘设有清除中药粉的刷毛部。
优选的，所述研磨平台端部设有气缸模块，所述气缸模块输出端与下料滑块相连。
优选的，所述研磨底座对应下料口一端设有收集仓。
优选的，所述研磨底座上端设有沿竖向布置的驱动螺杆和若干导向柱，所述导向柱与研磨平台插接配合，所述驱动螺杆与研磨平台螺纹配合，所述研磨底座内还设有与驱动螺杆传动连接的电机模块。
优选的，所述研磨底座下端设有若干抗震垫块。
优选的，所述驱动台两端设有定位部，所述定位部与驱动台滑动配合。
本实用新型的有益效果是：本实用新型提供的中药压片装置的研磨平台能够上下移动，在研磨过程中驱动杆周向转动能够带动摆动杆摆动，使各个研磨辊在研磨平台上滚动实现对药材的研磨；研磨辊在反复滚动过程中逐渐完成对药材的精细化研磨，不仅显著提高了药材研磨效率，并且有利于提高药材品质和药品生产质量。本实用新型结构合理、自动化程度高、操作方便，具有较高的实用价值。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。在所有附图中，类似的元件或部分一般由类似的附图标记标识。附图中，各元件或部分并不一定按照实际的比例绘制。
图1为本实施例提供的中药散剂研磨装置的结构示意图。
附图标记：研磨底座100、收集仓110、研磨平台200、驱动台300、研磨辊400、驱动杆500、摆动杆600、联动杆700、硬质光滑层800、下料滑块900、气缸模块1000、导向柱1100、驱动螺杆1200、抗震垫块1300、定位部1400。
具体实施方式
下面将结合附图对本实用新型技术方案的实施例进行详细的描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案，因此只作为示例，而不能以此来限制本实用新型的保护范围。
如图1所示，本实施例提供一种中药散剂研磨装置，包括上下布置的研磨平台200和研磨底座100，所述研磨平台200能够沿竖向升降；所述研磨平台200上方设有研磨组件；各类药材混合后可放置在研磨平台200上通过研磨组件进行精细化研磨。具体的，研磨组件包括位于研磨平台200上方的驱动台300和驱动机构，所述驱动台300能够沿水平方向往复滑动，所述驱动台300上设有若干间隔布置的研磨辊400；所述驱动机构包括摆动杆600和驱动杆500，所述驱动杆500下端与摆动杆600中部滑动配合，所述驱动杆500绕其上端周向转动时，所述摆动杆600绕其上端摆动；所述摆动杆600下端铰接有联动杆700，所述联动杆700远离摆动杆600的一端与驱动台300铰接相连；当所述驱动杆500绕其上端转动时，能够带动驱动台300沿水平方向往复滑动。这样，当研磨平台200上升后与研磨组件的研磨辊400滚动配合；研磨辊400通过摆动结构驱动使其对药材进行高效精细化研磨，即驱动杆500周向转动过程中可带动摆动杆600绕其上端摆动，摆动杆600在摆动过程中通过联动杆700拉动驱动台300在水平方向往复移动，进而使各个研磨辊400在研磨平台200上滚动；研磨辊400在反复滚动过程中逐渐完成对药材的精细化研磨，完成研磨后研磨平台200能够向下移动一方面有利于卸下中药粉末另一方面便于在后续研磨操作中上料。
如图1所示，为了便于上料和下料，本实施例在研磨平台200上表面设有能够与研磨辊400滚动配合的研磨槽，所述研磨槽端部设有下料口，并且研磨槽底壁设有硬质光滑层800。设置研磨槽能够对药材进行高效研磨，同时有利于在研磨完成后从下料口下料；硬质光滑层800可提高研磨槽底壁光滑层度和坚硬度，有利于快速完成研磨并清除完成研磨后的中药粉末成品。由于研磨过程中部分药材规格较大，为了便于破碎研磨，本实施例在研磨辊400上套有研磨套，所述研磨套表面均匀布置有研磨凸起。通过设置研磨凸起有利于破碎研磨规格较大的药材。
如图1所示，当药材完成研磨后呈粉末状，难以快速收集，本实施例在研磨平台200对应研磨槽远离下料口的一端设有下料滑块900，所述下料滑块900能够沿研磨槽滑动，所述下料滑块900前端边缘设有清除中药粉的刷毛部。此外，在研磨平台200端部设有气缸模块1000，所述气缸模块1000输出端与下料滑块900相连。所述研磨底座100对应下料口一端设有收集仓110。这样，气缸模块1000能够驱动下料滑块900沿研磨槽滑动，通过刷毛部将中药粉末从研磨槽内收集至收集仓110内。
如前所述，研磨平台200能够上下移动，本实施例在研磨底座100上端设有沿竖向布置的驱动螺杆1200和若干导向柱1100，所述导向柱1100与研磨平台200插接配合，所述驱动螺杆1200与研磨平台200螺纹配合，所述研磨底座100内还设有与驱动螺杆1200传动连接的电机模块。这样，通过电机模块运行即可带动驱动螺杆1200周向转动，使研磨平台200沿导向柱1100上下稳定移动，有利于完成上下料和研磨操作。此外，为了提高设备平稳性，研磨底座100下端设有若干抗震垫块1300。驱动台300两端设有定位部1400，所述定位部1400与驱动台300滑动配合。抗震垫块1300可避免设备剧烈震动，在定位部1400作用下确保驱动台300在水平方向稳定移动。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的范围，其均应涵盖在本实用新型的权利要求和说明书的范围当中。
Claims (10)
1.一种中药散剂研磨装置，包括上下布置的研磨平台(200)和研磨底座(100)，所述研磨平台(200)能够沿竖向升降；所述研磨平台(200)上方设有研磨组件；其特征在于：
所述研磨组件包括位于研磨平台(200)上方的驱动台(300)和驱动机构，所述驱动台(300)能够沿水平方向往复滑动，所述驱动台(300)上设有若干间隔布置的研磨辊(400)；所述驱动机构包括摆动杆(600)和驱动杆(500)，所述驱动杆(500)下端与摆动杆(600)中部滑动配合，所述驱动杆(500)绕其上端周向转动时，所述摆动杆(600)绕其上端摆动；所述摆动杆(600)下端铰接有联动杆(700)，所述联动杆(700)远离摆动杆(600)的一端与驱动台(300)铰接相连；当所述驱动杆(500)绕其上端转动时，能够带动驱动台(300)沿水平方向往复滑动。
2.根据权利要求1所述的中药散剂研磨装置，其特征在于：所述研磨平台(200)上表面设有能够与研磨辊(400)滚动配合的研磨槽，所述研磨槽端部设有下料口。
3.根据权利要求2所述的中药散剂研磨装置，其特征在于：所述研磨槽底壁设有硬质光滑层(800)。
4.根据权利要求1所述的中药散剂研磨装置，其特征在于：所述研磨辊(400)上套有研磨套，所述研磨套表面均匀布置有研磨凸起。
5.根据权利要求1所述的中药散剂研磨装置，其特征在于：所述研磨平台(200)对应研磨槽远离下料口的一端设有下料滑块(900)，所述下料滑块(900)能够沿研磨槽滑动，所述下料滑块(900)前端边缘设有清除中药粉的刷毛部。
6.根据权利要求5所述的中药散剂研磨装置，其特征在于：所述研磨平台(200)端部设有气缸模块(1000)，所述气缸模块(1000)输出端与下料滑块(900)相连。
7.根据权利要求5所述的中药散剂研磨装置，其特征在于：所述研磨底座(100)对应下料口一端设有收集仓(110)。
8.根据权利要求1所述的中药散剂研磨装置，其特征在于：所述研磨底座(100)上端设有沿竖向布置的驱动螺杆(1200)和若干导向柱(1100)，所述导向柱(1100)与研磨平台(200)插接配合，所述驱动螺杆(1200)与研磨平台(200)螺纹配合，所述研磨底座(100)内还设有与驱动螺杆(1200)传动连接的电机模块。
9.根据权利要求1所述的中药散剂研磨装置，其特征在于：所述研磨底座(100)下端设有若干抗震垫块(1300)。
10.根据权利要求1所述的中药散剂研磨装置，其特征在于：所述驱动台(300)两端设有定位部(1400)，所述定位部(1400)与驱动台(300)滑动配合。
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