CN213856917U - 一种与传送装置相结合的覆膜装置 - Google Patents

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徐嘉宝
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Abstract

本实用新型公开了一种与传送装置相结合的覆膜装置,包括传送装置、覆膜箱、树脂箱及收集箱。所述传送装置呈倾斜向上设置,所述传送装置低处为放料端,高处为出料端,所述出料端连接所述覆膜箱;所述覆膜箱从所述出料端呈倾斜向下设置,所述覆膜箱下端连接所述收集箱,所述覆膜箱为三面开放的凹槽,从所述出料端下来的砂粒可沿所述覆膜箱下滑到所述收集箱所述覆膜箱承载面设有若干挡条;所述树脂箱位于所述覆膜箱上方,所述树脂箱顶部设有开口,底部设有喷头,所述喷头对准所述覆膜箱承载面。砂粒一边沿覆膜箱向下滚动,一边与树脂融合,实现了连续化生产,节省了生产时间,提高了覆膜砂的生产速率。

Description

一种与传送装置相结合的覆膜装置
技术领域
本实用新型属于制备覆膜砂的技术领域,尤其涉及一种与传送装置相结合的覆膜装置。
背景技术
砂粒表面在造型前覆一层固体树脂膜的型砂或芯砂称之为覆膜砂,有冷法和热法两种覆膜工艺:冷法用乙醇将树脂溶解,并在混砂过程中加入乌洛托品,使二者包覆在砂粒表面,乙醇挥发,得覆膜砂;热法把砂预热到一定温度,加树脂使其熔融,搅拌使树脂包覆在砂粒表面,加乌洛托品水溶液及润滑剂,冷却、破碎、筛分得覆膜砂,用于铸钢件、铸铁件。无论是冷法,还是热法,都需要将树脂均匀的包裹于砂粒表面,而现有技术中,多把砂粒和树脂同时投放到同一搅拌桶内,利用搅拌桨混匀砂粒,完成覆膜,这种技术不能连续作业,只有完成上一批砂粒的覆膜,才能再次倒入新一批砂粒,有必要设计一款可连续作业的覆膜装置。
实用新型内容
为解决现有技术不足,本实用新型提供一种与传送装置相结合的覆膜装置,集传送装置与覆膜箱于一体,通过传送装置往上运输砂粒,再运输到覆膜箱,砂粒一边沿覆膜箱向下滚动,一边与来自树脂箱的树脂融合,实现连续化生产,节省生产时间,提高覆膜砂的生产速率。
为了实现本实用新型的目的,拟采用以下方案:
一种与传送装置相结合的覆膜装置,包括传送装置、覆膜箱、树脂箱及收集箱。
传送装置呈倾斜向上设置,传送装置低处为放料端,高处为出料端,出料端连接覆膜箱;
覆膜箱从出料端呈倾斜向下设置,覆膜箱下端连接收集箱,覆膜箱为三面开放的凹槽,从出料端下来的砂粒可沿覆膜箱承载面下滑到收集箱,覆膜箱的承载面设有若干挡条;
树脂箱位于覆膜箱上方,树脂箱顶部设有开口,底部设有喷头,喷头对准覆膜箱承载面。
进一步的,还包括砂粒箱,砂粒箱位于传送装置的放料端上方,砂粒箱顶部开放,砂粒箱底部设有下料口。
进一步的,传送装置侧面连接有第一组支撑杆,覆膜箱侧面连接有第二组支撑杆,树脂箱侧面连接有第三组支撑杆,砂粒箱侧面连接有第四组支撑杆。
进一步的,传送装置两侧壁上方连接有挡板。
进一步的,喷头为倾斜方向设置,喷头的倾斜方向与覆膜箱相反。
进一步的,收集箱顶部开放,收集箱内设有滤网,滤网把收集箱分为上下两个腔体。
进一步的,滤网呈倾斜方向设置,滤网的高端为覆膜箱的低端。
本实用新型的有益效果在于:
1、本实用新型集传送装置与覆膜箱于一体,传送装置倾斜方向向上设置,从低端方便放料,通过传送装置往上运输砂粒,砂粒从出料端运输到覆膜箱,树脂箱位于覆膜箱上方,砂粒一边沿覆膜箱向下滚动,一边与来自树脂箱的树脂融合,以此可完成所有砂粒的覆膜,本装置可实现连续化生产,节省了生产时间,提高了覆膜砂的生产速率,实用性强;
2、本实用新型还设置有砂粒箱,位于传送装置的放料端上方,砂粒箱底部设有下料口,下料口内径较小,通过控制砂粒的下料量,保证砂粒铺洒到传送装置为薄层,避免砂粒过多过厚而影响最终的覆膜均匀度;
3、传送装置两侧壁上方连接有挡板,防止砂粒沿传送装置两侧撒落;
4、覆膜箱的承载面设有若干挡条,起到在砂粒下落时的阻挡作用,从而增加砂粒的滚动频率,使砂粒与树脂更加全面的接触,提升覆膜均匀度;
5、喷头对准覆膜箱底部,且喷头为倾斜方向设置,喷头的倾斜方向与覆膜箱倾斜方向相反,树脂通过喷头倾斜射出,由于重力作用,可形成树脂幕,从而增加了树脂的喷射范围,用最少的喷头达到更好的覆膜效果;
6、收集箱内设有滤网,滤网把收集箱分为上下两个腔体,上层腔体用于收集覆膜好的砂粒,下层腔体用于收集多余的树脂,回收的树脂可重复利用,节约了资源和成本;
7、收集箱内的滤网呈倾斜方向设置,滤网的高端为覆膜箱的低端,可使覆膜好的砂粒往滤网的低端滚动,防止从覆膜箱下来的砂粒堆积在一起。
附图说明
图1为本实用新型实施例的结构图;
图2为本实用新型实施例的部分结构图一;
图3为本实用新型实施例的正视图;
图4为本实用新型实施例的部分结构图二。
具体实施方式
如图1所示,为本实施例提供的一种与传送装置相结合的覆膜装置,包括传送装置1、覆膜箱2、树脂箱3及收集箱4。
具体的,砂粒依次通过传送装置1、覆膜箱2,最后进入收集箱4,传送装置1呈倾斜向上设置,传送装置1低处为放料端,高处为出料端,出料端下方连接覆膜箱2。
具体的,覆膜箱2从出料端呈倾斜向下设置,覆膜箱2下端连接收集箱4,覆膜箱2为三面开放的凹槽,从出料端下来的砂粒可沿覆膜箱2下滑到收集箱4,覆膜箱2承载面设有若干挡条22,在砂粒沿覆膜箱2下滑时,挡条22具有阻挡的作用,可增加砂粒的滚动频率,使砂粒与树脂更加全面的接触,在本实施例的结构图4中,挡条22端面为三角形,挡条22朝向覆膜箱2的一面仍是倾斜向下的,防止砂粒积聚。
砂粒在覆膜箱2内向下滚动时,同时与来自树脂箱3的树脂融合在一起,完成覆膜。
具体的,树脂箱3位于覆膜箱2上方,树脂箱3顶部设有开口33,底部设有喷头32,喷头32对准覆膜箱2承载面。
更具体的,如图3所示,喷头32为倾斜方向设置,喷头32的倾斜方向与覆膜箱2倾斜方向相反,树脂通过喷头32倾斜射出,由于重力作用,树脂可形成树脂幕,从而增加了树脂的喷射范围。
更具体的,如图2所示,还包括砂粒箱5,砂粒箱5位于传送装置1的放料端上方,砂粒箱5顶部开放,砂粒箱5底部设有下料口52,下料口52内径较小,通过控制砂粒的下料量,保证砂粒铺洒到传送装置1为薄层,避免砂粒过多过厚而影响最终的覆膜均匀度。
更具体的,传送装置1侧面连接有第一组支撑杆11,覆膜箱2侧面连接有第二组支撑杆21,树脂箱3侧面连接有第三组支撑杆31,砂粒箱5侧面连接有第四组支撑杆51。
优选的,传送装置1两侧壁上方连接有挡板12,可防止砂粒沿传送装置1两侧撒落。
优选的,收集箱4顶部开放,收集箱4内设有滤网41,滤网41把收集箱分为上下两个腔体,上层腔体用于收集覆膜好的砂粒,下层腔体用于收集多余的树脂,回收的树脂可重复利用。
优选的,滤网41呈倾斜方向设置,滤网41的高端为覆膜箱2的低端,可使覆膜好的砂粒往滤网41的低端滚动,防止从覆膜箱2下来的砂粒堆积在一起。
本装置的操作流程为:先通过开口31,往树脂箱3内倒入充足的树脂备用,然后打开传送装置1的电源,从砂粒箱5上方投入待处理的砂粒,砂粒通过下料口51下落到传送装置1,随机被运输到覆膜箱2,在即将达到覆膜箱2时,打开喷头32的控制开关,树脂射入到覆膜箱2,完成覆膜的砂粒继续下滑到收集箱4内,多余的树脂通过滤网41流入到收集箱4的下层腔体内,待完成所有砂粒覆膜后,关闭喷头32的开关和传送装置1的电源。
作为优选,第二组支撑杆21可以设于一导轨,导轨与输送方向垂直布置,第二组支撑杆21连接一由电机驱动的曲柄机构,在电机和曲柄机构的作用下,第二组支撑杆21可沿导轨往复运动,在提到承载面缓流的同时可以避免堆积。具体的,往复运动的行程范围始终包括喷头有效覆盖区域。
以上实施例仅用于说明本实用新型的技术思想及特点,并不表示是唯一的或是限制本实用新型。本领域技术人员应理解,在不脱离本实用新型的范围情况下,对本实用新型进行的各种改变或同等替换,均属于本实用新型保护的范围。

Claims (7)

1.一种与传送装置相结合的覆膜装置,其特征在于,包括传送装置(1)、覆膜箱(2)、树脂箱(3)及收集箱(4);
所述传送装置(1)呈倾斜向上设置,所述传送装置(1)低处为放料端,高处为出料端,所述出料端连接所述覆膜箱(2);
所述覆膜箱(2)从所述出料端呈倾斜向下设置,所述覆膜箱(2)下端连接所述收集箱(4),所述覆膜箱(2)为三面开放的凹槽,从所述出料端下来的砂粒可沿所述覆膜箱(2)下滑到所述收集箱(4)所述覆膜箱(2)承载面设有若干挡条(22);
所述树脂箱(3)位于所述覆膜箱(2)上方,所述树脂箱(3)顶部设有开口(33),底部设有喷头(32),所述喷头(32)对准所述覆膜箱(2)承载面。
2.根据权利要求1所述的与传送装置相结合的覆膜装置,其特征在于,还包括砂粒箱(5),所述砂粒箱(5)位于所述传送装置(1)的所述放料端上方,所述砂粒箱(5)顶部开放,所述砂粒箱(5)底部设有下料口(52)。
3.根据权利要求2所述的与传送装置相结合的覆膜装置,其特征在于,所述传送装置(1)侧面连接有第一组支撑杆(11),所述覆膜箱(2)侧面连接有第二组支撑杆(21),所述树脂箱(3)侧面连接有第三组支撑杆(31),所述砂粒箱(5)侧面连接有第四组支撑杆(51)。
4.根据权利要求1所述的与传送装置相结合的覆膜装置,其特征在于,所述传送装置(1)两侧壁上方连接有挡板(12)。
5.根据权利要求1所述的与传送装置相结合的覆膜装置,其特征在于,所述喷头(32)为倾斜方向设置,所述喷头(32)的倾斜方向与所述覆膜箱(2)相反。
6.根据权利要求1所述的与传送装置相结合的覆膜装置,其特征在于,所述收集箱(4)顶部开放,所述收集箱(4)内设有滤网(41),所述滤网(41)把所述收集箱分为上下两个腔体。
7.根据权利要求6所述的与传送装置相结合的覆膜装置,其特征在于,所述滤网(41)呈倾斜方向设置,所述滤网(41)的高端为所述覆膜箱(2)的低端。
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