CN213611848U - 一种化妆品用粉末加工均匀研磨装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种化妆品用粉末加工均匀研磨装置，旨在解决研磨盘与壳体的内壁之间间距不可调，无法研磨出不同细度的化妆品粉末的问题。其技术方案要点是：包括支撑架，支撑架内固定连接有安装块,安装块的两侧均固定连接有壳体，支撑架内设置有双向丝杆，双向丝杆的左旋螺纹段和右旋螺纹段上均套设有螺母座，两侧螺母座的下端面均设置有带动杆，壳体的上端面设置有通孔，带动杆的一端转动连接有研磨盘，研磨盘与壳体的内壁之间形成有研磨通道，安装块上设置有凹槽。本实用新型的一种化妆品用粉末加工均匀研磨装置能够通过调节研磨通道的大小来调节粉末的细度，使其能够满足不同的化妆品粉末加工需求，提高了化妆品的后续加工质量。

Description

一种化妆品用粉末加工均匀研磨装置

技术领域

本实用新型涉及化妆品加工制备领域，更具体地说，它涉及一种化妆品用粉末加工均匀研磨装置。

背景技术

目前，业内对物料进行打磨抛光、去毛刺的操作大都是靠人工用砂纸、布伦、铲刀等工具来完成，这样不仅工作效率低，需要耗费大量人工，而且容易对工作人员产生毒害，不仅影响生产周期和成本，而且也不健康、环保。因此，业内开发了多种化妆品用振动研磨机以便替代人工操作，然而现有技术中的研磨机无法有效地对整个物料的各个部位进行有效的研磨，普遍存在研磨不充分、多死角等技术问题，并不能从根本上取代人工操作。

针对上述问题，公开号为CN205435886U的中国专利公开的一种化妆品研磨装置，其包括筒体等，保护台安装于筒体顶端上，研磨腔位于筒体内，旋转轴和研磨片都位于研磨腔中，研磨片都固定于旋转轴上，阀门位于输送管内且位于筒体一侧，输送管的一端与研磨腔连通，过滤器位于输送管的另一端，过滤网安装于过滤器下侧，容器位于过滤器下方，原料入口、研磨介质入口都位于保护台上且与研磨腔连通。

上述方案旋转轴带动研磨片进行转动，研磨片转动从而带动化妆品原料和研磨介质进行研磨，使研磨充分，操作简单。但是上述方案中研磨片和研磨腔之间的间距是固定不变的，无法研磨出不同颗粒大小的化妆品粉末，无法满足不同情况下的使用需求，影响了化妆品粉末的后续加工质量。

因此需要提出一种方案来解决这个问题。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种化妆品用粉末加工均匀研磨装置，通过设置双向丝杆带动研磨盘移动来实现研磨盘与壳体内壁之间间距的可调，达到能够满足不同情况下的化妆品粉末加工需求的目的。

本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种化妆品用粉末加工均匀研磨装置，包括支撑架，所述支撑架内固定连接有安装块,所述安装块的两侧均固定连接有壳体，所述支撑架内设置有与其转动连接的双向丝杆，所述双向丝杆的左旋螺纹段和右旋螺纹段上均套设有螺母座，两侧所述螺母座的下端面均设置有一端与其固定连接的带动杆，所述壳体的上端面设置有通孔，所述带动杆的另一端穿过通孔伸入到壳体内，所述带动杆伸入壳体的一端转动连接有研磨盘，所述研磨盘与壳体远离安装块一侧的内壁之间形成有研磨通道，所述安装块上设置有供研磨盘伸入的凹槽，所述凹槽与壳体的内腔导通。

通过采用上述技术方案，物料通过进料口进入到壳体内后会进入到研磨通道内进行研磨，当需要对化妆品粉末的研磨细度进行调整时，转动双向丝杆，双向丝杆旋转后就能带动两侧的螺母座彼此靠近或是彼此远离，当两侧的螺母座在双向丝杆的带动下彼此靠近时，螺母座就能通过带动杆带动两侧的研磨盘向靠近安装块的一侧移动，研磨盘与壳体内壁之间的间距就会增大，研磨通道的宽度就会增大，研磨出来的化妆品粉末颗粒就会更大，当两侧的螺母座在丝杆的带动下向彼此远离时，两侧的研磨盘也就会在带动杆的带动下向彼此远离，研磨通道的宽度就会缩小，研磨的粉末颗粒就会更小，这样就能根据需要对研磨通道的宽度进行调节，使其能够满足更多情况下的使用需求，提高了化妆品粉末的加工质量。

本实用新型进一步设置为：所述支撑架内设置有与其固定连接的限位杆，两侧所述螺母座上均设置有供限位杆穿过的通槽。

通过采用上述技术方案，在双向丝杆旋转的过程中，螺母座会沿着限位杆进行移动，防止螺母座会随着丝杆产生旋转，使螺母座在移动的过程中更加稳定。

本实用新型进一步设置为：所述通槽的内壁上设置有若干阵列分布的万向滚珠，所述万向滚珠与限位杆的表面贴合。

通过采用上述技术方案，在螺母座沿着限位杆移动的过程中，万向滚珠会贴着限位杆的表面滚动，减小了限位杆与螺母座之间的摩擦，使螺母座的移动更加顺畅。

本实用新型进一步设置为：两侧所述螺母座上分别设置有一端与其转动连接的支杆一和支杆二，所述支撑架的内壁上设置有滑槽，所述滑槽内设置有与其滑动连接的滑块，所述支杆一和支杆二的另一端均与滑块通过同一转轴转动连接。

通过采用上述技术方案，在两侧的螺母座随着双向丝杆的旋转进行移动的过程中，螺母座的移动会带动支杆一和支杆二会以与滑块的转轴连接处为圆心进行旋转，滑块会随着螺母座的位置变化沿着滑槽移动，使螺母座在移动的过程中更加稳定。

本实用新型进一步设置为：所述滑块与滑槽的内壁之间设置有弹性件，所述弹性件的两端分别与滑块和滑槽的内壁固定连接。

通过采用上述技术方案，在滑块沿着滑槽移动的过程中，弹性件会随着滑块的移动进行伸缩，使滑块在移动的过程中更加稳定，防止滑块从滑槽内脱落。

本实用新型进一步设置为：两侧所述壳体的上端面均设置有进料口，所述壳体的内壁上设置有用于将物料导向研磨通道的导料斜坡。

通过采用上述技术方案，导料斜坡能够更加准确的将物料导向研磨通道，避免物料从进料口进入到壳体内后会落入到缝隙内，造成物料的浪费。

本实用新型进一步设置为：所述壳体的内壁上固定连接有位于研磨盘下方的过滤网。

通过采用上述技术方案，过滤网能够对化妆品粉末进行过滤筛选，提高了研磨装置的工作效率。

本实用新型进一步设置为：所述支撑架上安装有电机，所述双向丝杆的一端与电机的输出轴连接。

通过采用上述技术方案，需要转动双向丝杆时，启动电机就能带动双向丝杆进行旋转，使双向丝杆的转动更加方便省力。

综上所述，本实用新型具有以下有益效果：

转动双向丝杆，双向丝杆旋转后就能带动两侧的螺母座彼此靠近或是彼此远离，当两侧的螺母座在双向丝杆的带动下彼此靠近时，螺母座就能通过带动杆带动两侧的研磨盘向靠近安装块的一侧移动，研磨盘与壳体内壁之间的间距就会增大，研磨通道的宽度就会增大，研磨出来的化妆品粉末颗粒就会更大，当两侧的螺母座在丝杆的带动下向彼此远离时，两侧的研磨盘也就会在带动杆的带动下向彼此远离，研磨通道的宽度就会缩小，研磨的粉末颗粒就会更小，这样就能根据需要对研磨通道的宽度进行调节，使其能够满足更多情况下的使用需求，提高了化妆品粉末的加工质量。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图，表明研磨装置的结构特征。

图中：1、支撑架；2、安装块；3、壳体；4、双向丝杆；5、螺母座；6、带动杆；7、研磨盘；8、研磨通道；9、限位杆；10、支杆一；11、支杆二；12、滑槽；13、滑块；14、弹性件；15、进料口；16、导料斜坡；17、过滤网；18、电机。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本实用新型进行详细描述。

一种化妆品用粉末加工均匀研磨装置，如图1所示，包括支撑架1，支撑架1内固定连接有安装块2,安装块2的两侧均焊接固定有壳体3，支撑架1内设有一端与其通过转轴转动连接的双向丝杆4，支撑架1上安装有电机18，电机18为伺服电机，双向丝杆4的另一端与电机18的输出轴通过联轴器连接，双向丝杆4的左旋螺纹段和右旋螺纹段上均套设有螺母座5，两侧螺母座5的下端面均设有一端与其焊接固定的带动杆6，壳体3的上端面开设有供带动杆6穿过的通孔，带动杆6伸入壳体3的一端转动连接有研磨盘7，研磨盘7与带动杆6之间安装有用于驱动研磨盘7旋转的驱动电机，研磨盘7与壳体3远离安装块2一侧的内壁之间形成有研磨通道8。

安装块2上开设有供研磨盘7伸入的凹槽，凹槽与壳体3的内腔导通，壳体3的内壁上固定连接有位于研磨盘7下方的过滤网17，两侧壳体3的上端面均设有进料口15，壳体3的内壁上固定连接有用于将物料导向研磨通道8的导料斜坡16。

支撑架1内设有与其焊接固定的限位杆9，两侧螺母座5上均设有供限位杆9穿过的通槽，通槽的内壁上设有若干阵列分布的万向滚珠，万向滚珠与限位杆9的表面贴合。

两侧螺母座5上分别设有一端与其通过转轴转动连接的支杆一10和支杆二11，支撑架1的内壁上设有滑槽12，滑槽12内设有与其滑动连接的滑块13，支杆一10和支杆二11的另一端均与滑块13通过同一根转轴转动连接，滑块13与滑槽12的内壁之间设有弹性件14，弹性件14为弹簧，弹性件14的两端分别与滑块13和滑槽12的内壁固定连接。

物料通过进料口15进入到壳体3内后会进入到研磨通道8内进行研磨，当需要对化妆品粉末的研磨细度进行调整时，转动双向丝杆4，双向丝杆4旋转后就能带动两侧的螺母座5彼此靠近或是彼此远离，当两侧的螺母座5在双向丝杆4的带动下彼此靠近时，螺母座5就能通过带动杆6带动两侧的研磨盘7向靠近安装块2的一侧移动，研磨盘7与壳体3内壁之间的间距就会增大，研磨通道8的宽度就会增大，研磨出来的化妆品粉末颗粒就会更大，当两侧的螺母座5在丝杆的带动下向彼此远离时，两侧的研磨盘7也就会在带动杆6的带动下向彼此远离，研磨通道8的宽度就会缩小，研磨的粉末颗粒就会更小，这样就能根据需要对研磨通道8的宽度进行调节，使其能够满足更多情况下的使用需求，提高了化妆品粉末的后续加工质量。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (8)

1.一种化妆品用粉末加工均匀研磨装置，包括支撑架(1)，所述支撑架(1)内固定连接有安装块(2),其特征在于：所述安装块(2)的两侧均固定连接有壳体(3)，所述支撑架(1)内设置有与其转动连接的双向丝杆(4)，所述双向丝杆(4)的左旋螺纹段和右旋螺纹段上均套设有螺母座(5)，两侧所述螺母座(5)的下端面均设置有一端与其固定连接的带动杆(6)，所述壳体(3)的上端面设置有供带动杆(6)穿过的通孔，所述带动杆(6)伸入壳体(3)的一端转动连接有研磨盘(7)，所述研磨盘(7)与壳体(3)远离安装块(2)一侧的内壁之间形成有研磨通道(8)，所述安装块(2)上设置有供研磨盘(7)伸入的凹槽，所述凹槽与壳体(3)的内腔导通。

2.根据权利要求1所述的一种化妆品用粉末加工均匀研磨装置，其特征在于：所述支撑架(1)内设置有与其固定连接的限位杆(9)，两侧所述螺母座(5)上均设置有供限位杆(9)穿过的通槽。

3.根据权利要求2所述的一种化妆品用粉末加工均匀研磨装置，其特征在于：所述通槽的内壁上设置有若干阵列分布的万向滚珠，所述万向滚珠与限位杆(9)的表面贴合。

4.根据权利要求1所述的一种化妆品用粉末加工均匀研磨装置，其特征在于：两侧所述螺母座(5)上分别设置有一端与其转动连接的支杆一(10)和支杆二(11)，所述支撑架(1)的内壁上设置有滑槽(12)，所述滑槽(12)内设置有与其滑动连接的滑块(13)，所述支杆一(10)和支杆二(11)的另一端均与滑块(13)通过同一转轴转动连接。

5.根据权利要求4所述的一种化妆品用粉末加工均匀研磨装置，其特征在于：所述滑块(13)与滑槽(12)的内壁之间设置有弹性件(14)，所述弹性件(14)的两端分别与滑块(13)和滑槽(12)的内壁固定连接。

6.根据权利要求1所述的一种化妆品用粉末加工均匀研磨装置，其特征在于：两侧所述壳体(3)的上端面均设置有进料口(15)，所述壳体(3)的内壁上设置有用于将物料导向研磨通道(8)的导料斜坡(16)。

7.根据权利要求1所述的一种化妆品用粉末加工均匀研磨装置，其特征在于：所述壳体(3)的内壁上固定连接有位于研磨盘(7)下方的过滤网(17)。

8.根据权利要求1所述的一种化妆品用粉末加工均匀研磨装置，其特征在于：所述支撑架(1)上安装有电机(18)，所述双向丝杆(4)的一端与电机(18)的输出轴连接。

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