CN213592077U - 一种覆铜陶瓷基板（dbc）用激光设备吸附平台 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种覆铜陶瓷基板(DBC)用激光设备吸附平台，包括靠山、取板槽、吸附孔位置和底部型腔，所述靠山的下方垂直安设有吸附区域，且吸附区域的内部开设有取板槽，所述取板槽的上方垂直开设有吸附孔位置，且吸附孔位置的内部开设有第一吸附孔类型。该覆铜陶瓷基板(DBC)用激光设备吸附平台，与现有的激光设备吸附平台相比，该装置通过激光设备吸附平台的边缘吸附孔设计，让产品吸附更加平整，在生产完成后，产品被掰开成小片产品时，切割边缘更加光滑、平整、无毛刺，同时在生产切割时，切割线边缘不产生黑色脏污，底部型腔的设计可保持两个独立型腔，确保产品在加工时，陶瓷粉尘污染互不干扰，相互独立。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种覆铜陶瓷基板(DBC)用激光设备吸附平台。
背景技术
现有技术中激光切割生产时，使用的吸附平台，在切割生产过程中，产品边缘出现粉尘，要进行毛刷清洁，甚至有些脏污，无法清洁干净，对于车用DBC的产品生产，其要求如下：第一、车用DBC的产品有翘曲要求，现有技术产品切割生产时，吸附平台对车用DBC翘曲产品的吸附不平整，尤其对于翘曲度大的产品，吸附不平整，在生产完成后，产品被掰开成小片产品时，容易出现毛刺，第二、车用DBC的产品多使用氧化锆陶瓷，现有技术产品生产切割，切割线边缘容易产生黑色脏污。
现有的激光设备吸附平台，在切割生产过程中，摆放产品时，需要增加辅助靠山，产品摆放位置不准确，同时在产品完成加工后，现有技术的吸附平台没有取板槽，拿取产品不方便。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是现有的激光设备吸附平台，在切割生产过程中，摆放产品时，需要增加辅助靠山，产品摆放位置不准确，同时在产品完成加工后，现有技术的吸附平台没有取板槽，拿取产品不方便，克服现有技术的缺陷，提供一种覆铜陶瓷基板(DBC)用激光设备吸附平台。
为了解决上述技术问题，本实用新型提供了如下的技术方案：
本实用新型一种覆铜陶瓷基板(DBC)用激光设备吸附平台，包括靠山、取板槽、吸附孔位置和底部型腔，所述靠山的下方垂直安设有吸附区域，且吸附区域的内部开设有取板槽，所述取板槽的上方垂直开设有吸附孔位置，且吸附孔位置的内部开设有第一吸附孔类型，所述第一吸附孔类型的内部固定连接有第二吸附孔类型，所述吸附区域的下方垂直开设有底部型腔。
优选的，所述靠山的下表面与吸附区域的上表面之间紧密贴合，且吸附区域的中轴线与底部型腔的中轴线相重合。
优选的，所述取板槽呈对称状安置于吸附区域的内表面，且取板槽的中轴线与吸附孔位置的中轴线相重合。
优选的，所述吸附孔位置的内部尺寸与第一吸附孔类型的外部尺寸相吻合，且第一吸附孔类型的中轴线与第二吸附孔类型的中轴线相重合。
优选的，所述第一吸附孔类型的内部尺寸与第二吸附孔类型的外部尺寸相吻合，且第二吸附孔类型的中轴线与底部型腔的中轴线相平行。
优选的，所述底部型腔的上表面与吸附区域的下表面之间紧密贴合，且吸附区域的中轴线与靠山的中轴线相重合。
本实用新型所达到的有益效果是：
1、通过第一吸附孔类型和第二吸附孔类型的配合设计，能够保证在车用 DBC的产品切割生产过程中，产品边缘无粉尘，能够确保车用DBC的产品的激光切割生产时，大大降低产品毛刺的问题，尤其对于车用DBC翘曲度大的产品，通过激光设备吸附平台的边缘吸附孔设计，让产品吸附更加平整，在生产完成后，产品被掰开成小片产品时，切割边缘更加光滑、平整、无毛刺。
2、通过靠山和吸附孔位置的配合设置，能够确保在车用DBC切割生产过程中，摆放产品时，吸附平台集成辅助靠山，摆放产品更加方便，能够确保车用DBC产品，氧化锆陶瓷产品，在生产切割时，切割线边缘不产生黑色脏污，保持两个独立型腔，确保产品在加工时，陶瓷粉尘污染互不干扰，相互独立。
3、通过取板槽的设计，因取板槽的宽度为20毫米，纵深15毫米，取板槽的设置，可以快速取出已完成加工的产品，提高生产效率，同时能够确保车用DBC产品，在激光切割生产时，产品完成加工后，利用取板槽，拿取产品更加方便。
附图说明
附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：
图1是本实用新型实施例的产品吸附区域示意图；
图2是本实用新型实施例的正面结构示意图；
图3是本实用新型实施例的底座平面示意图；
图4是本实用新型实施例的平面示意图；
图5是本实用新型实施例的又一平面示意图；
图6是本实用新型实施例的平台构成示意图。
图中：1、靠山；2、吸附区域；3、取板槽；4、吸附孔位置；5、第一吸附孔类型；6、第二吸附孔类型；7、底部型腔。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
如图1和图2所示，本发明提供的一种实施例：一种覆铜陶瓷基板(DBC) 用激光设备吸附平台，包括靠山1、取板槽3、吸附孔位置4和底部型腔7，靠山1的下方垂直安设有吸附区域2，且吸附区域2的内部开设有取板槽3，取板槽3呈对称状安置于吸附区域2的内表面，且取板槽3的中轴线与吸附孔位置4的中轴线相重合，靠山1的下表面与吸附区域2的上表面之间紧密贴合，且吸附区域2的中轴线与底部型腔7的中轴线相重合，通过靠山1和吸附孔位置4的配合设置，能够确保在车用DBC切割生产过程中，摆放产品时，吸附平台集成辅助靠山1，摆放产品更加方便，能够确保车用DBC产品，氧化锆陶瓷产品，在生产切割时，切割线边缘不产生黑色脏污，底部型腔7 设计可保持两个独立型腔，确保产品在加工时，陶瓷粉尘污染互不干扰，相互独立；
如图1和图2所示，取板槽3的上方垂直开设有吸附孔位置4，且吸附孔位置4的内部开设有第一吸附孔类型5，吸附孔位置4的内部尺寸与第一吸附孔类型5的外部尺寸相吻合，且第一吸附孔类型5的中轴线与第二吸附孔类型6的中轴线相重合，第一吸附孔类型5的内部尺寸与第二吸附孔类型6的外部尺寸相吻合，且第二吸附孔类型6的中轴线与底部型腔7的中轴线相平行，通过靠山1和吸附孔位置4的配合设置，能够确保在车用DBC切割生产过程中，摆放产品时，吸附平台集成辅助靠山1，摆放产品更加方便，能够确保车用DBC产品，氧化锆陶瓷产品，在生产切割时，切割线边缘不产生黑色脏污，保持两个独立型腔，确保产品在加工时，陶瓷粉尘污染互不干扰，相互独立；
如图1和图2所示，第一吸附孔类型5的内部固定连接有第二吸附孔类型6，吸附区域2的下方垂直开设有底部型腔7，通过取板槽3的设计，因取板槽3的宽度为20毫米，纵深15毫米，底部型腔7的上表面与吸附区域2 的下表面之间紧密贴合，且吸附区域2的中轴线与靠山1的中轴线相重合，可以快速取出已完成加工的产品，提高生产效率，同时能够确保车用DBC产品，在激光切割生产时，产品完成加工后，利用取板槽，拿取产品更加方便。
工作原理：将覆铜陶瓷基板(DBC)用激光设备吸附平台安装在激光设备上，并且进行调平测试，以及抽气测试，确认没有漏气现象，将所需要进行激光加工车用DBC产品，分别置于两个工位的吸附孔位置4区域，以靠山1 为位置限制点，进行放置，产品要覆盖吸附孔位置4，每一个吸附孔直径为3 毫米的通孔，通孔表面进行0.5毫米的倒直角加工，产品在吸附过程中，需要对产品进行测试，观察其吸附平整度是否达到要求，根据激光切割设备CCD影像，检查吸附差异性，根据图2，第一吸附孔类型5是在产品中间区域矩阵式分布，矩阵式分布的横向孔的圆心距的间距是一致的，间距为16.1毫米，矩阵式分布的纵向孔的圆心距的间距是一致的，间距为16.5毫米。通过矩阵式的孔位排列，让车用DBC产品内部的吸附力受力均匀，在第二吸附孔类型 6，属于产品吸附边缘排列孔，设置孔第二吸附孔类型6与第一吸附孔类型5 间距较小，圆心距相距6毫米，这样的设计方式，有助于车用DBC产品在生产过程中的吸附稳定性，尤其是对车用DBC产品边缘的吸附，同时也可以保护产品边缘不让陶瓷粉尘进入产品内部，靠近靠山1的吸附孔位置4距离靠山1边缘4.5毫米，有效改善产品靠山1边缘处吸附不平整的问题，在进行工艺参数输入后，对产品进行加工生产，根据图3，底部型腔7设计深度为5 毫米，底部型腔7不可开槽深度太深，深度越大，内部型腔体积越大，越容易积累陶瓷粉尘，对产品在生产加工不利，保持两个独立型腔，确保产品在加工时，陶瓷粉尘污染互不干扰，相互独立，当完成产品加工后，如图1，卸掉抽气压力后，通过取板槽3将产品从覆铜陶瓷基板(DBC)用激光设备吸附平台上取出，取板槽3的宽度为20毫米，纵深15毫米，取板槽3的设置，可以快速取出已完成加工的产品，提高生产效率，这就是该覆铜陶瓷基板 (DBC)用激光设备吸附平台的工作原理。
最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种覆铜陶瓷基板(DBC)用激光设备吸附平台，包括靠山(1)、取板槽(3)、吸附孔位置(4)和底部型腔(7)，其特征在于：所述靠山(1)的下方垂直安设有吸附区域(2)，且吸附区域(2)的内部开设有取板槽(3)，所述取板槽(3)的上方垂直开设有吸附孔位置(4)，且吸附孔位置(4)的内部开设有第一吸附孔类型(5)，所述第一吸附孔类型(5)的内部固定连接有第二吸附孔类型(6)，所述吸附区域(2)的下方垂直开设有底部型腔(7)。
2.根据权利要求1所述的一种覆铜陶瓷基板(DBC)用激光设备吸附平台，其特征在于：所述靠山(1)的下表面与吸附区域(2)的上表面之间紧密贴合，且吸附区域(2)的中轴线与底部型腔(7)的中轴线相重合。
3.根据权利要求1所述的一种覆铜陶瓷基板(DBC)用激光设备吸附平台，其特征在于：所述取板槽(3)呈对称状安置于吸附区域(2)的内表面，且取板槽(3)的中轴线与吸附孔位置(4)的中轴线相重合。
4.根据权利要求1所述的一种覆铜陶瓷基板(DBC)用激光设备吸附平台，其特征在于：所述吸附孔位置(4)的内部尺寸与第一吸附孔类型(5)的外部尺寸相吻合，且第一吸附孔类型(5)的中轴线与第二吸附孔类型(6)的中轴线相重合。
5.根据权利要求1所述的一种覆铜陶瓷基板(DBC)用激光设备吸附平台，其特征在于：所述第一吸附孔类型(5)的内部尺寸与第二吸附孔类型(6)的外部尺寸相吻合，且第二吸附孔类型(6)的中轴线与底部型腔(7)的中轴线相平行。
6.根据权利要求1所述的一种覆铜陶瓷基板(DBC)用激光设备吸附平台，其特征在于：所述底部型腔(7)的上表面与吸附区域(2)的下表面之间紧密贴合，且吸附区域(2)的中轴线与靠山(1)的中轴线相重合。
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2020
- 2020-09-10 CN CN202021965333.5U patent/CN213592077U/zh active Active
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