CN213023932U - 一种新型的用于光刻涂胶的胶杯 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种新型的用于光刻涂胶的胶杯，涉及半导体技术领域，包括外罩、内罩、以及用于固定外罩、内罩的底座；外罩、内罩和底座中部共同形成一涂胶空间；外罩的外罩壁与内罩的内罩壁之间形成一隔层空间，底座内部开设有一液流通道，涂胶空间产生的胶液可通过隔层空间进入液流通道；液流通道为倾斜设置，液流通道的最低点A处开设有一用于胶液汇聚并排出的出液孔；本实用新型能够使胶杯内部的胶液通过位于最低点A处的出液孔排出，通过不同的倾斜角度、倾斜方式的设置，对胶液在液流通道内的流动起到进一步汇聚的作用，不会出现堆积的现象，使得胶杯无需清洗或极大减少清洗次数，从而提高整体的工作效率；解决胶杯不易清洗的问题。

Description

一种新型的用于光刻涂胶的胶杯

技术领域

本实用新型涉及半导体技术领域，尤其是一种新型的用于光刻涂胶的胶杯。

背景技术

现有半导体加工技术领域中，光刻技术是指在光照作用下，借助光刻胶将掩膜版上的图形转移到基片上的技术；其中，涂胶是光刻工艺过程的关键步骤，因光刻胶有一定的粘度，涂胶腔体工作一段时间之后就会在胶杯上残留一些光刻胶，随着残留胶液的增多，将会引起胶液反溅、排风变化等，进而影响涂胶工艺；所以涂胶腔体工作一段时间之后就需要对胶杯进行清洗，目前一般采用的方法有将胶杯从设备上拆下进行清洗，或者直接在胶杯内喷洒清洗液的方式进行清洗；

如中国发明专利CN104607430A所公开的一种胶杯自动清洗的方法。所述方法是在涂胶平台上设有胶杯和胶臂，所述胶臂上设有多个涂胶胶嘴，各涂胶胶嘴分别与一路胶管连接，所述胶臂上还设有清洗喷嘴，所述清洗喷嘴通过清洗管路与清洗液罐连接，所述清洗喷嘴通过胶臂移动到胶杯内晶元的上方、并喷洒清洗液，所述晶元旋转将清洗液甩到胶杯内壁上对残留胶液进行清洗；该发明专利的胶杯自动清洗的方法较为复杂，并且清洗效果不佳。

实用新型内容

一、要解决的技术问题

本实用新型是针对现有技术所存在的上述缺陷，特提出一种新型的用于光刻涂胶的胶杯，解决了现有光刻工艺过程中，胶杯内部胶液容易堆积的问题，同时还解决了胶杯中胶液不易清洗的问题。

二、技术方案

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种新型的用于光刻涂胶的胶杯，包括外罩、内罩、以及用于固定外罩、内罩的底座；

外罩、内罩和底座中部共同形成一涂胶空间；外罩的外罩壁与内罩的内罩壁之间形成一隔层空间，底座内部开设有一液流通道，涂胶空间产生的胶液可通过隔层空间进入液流通道；

液流通道为倾斜设置，液流通道的最低点A处开设有一用于胶液汇聚并排出的出液孔。

其中，外罩的外罩环口处设有外罩挡圈。

其中，外罩挡圈为三角形或方形或多边形或其他各种异形结构，外罩挡圈用于防止胶液沿着外罩内壁流动，外罩挡圈设有至少一层。

其中，内罩的内罩环口处设有内罩挡圈。

其中，内罩挡圈为三角形或方形或多边形或其他各种异形结构，内罩挡圈用于防止胶液沿着内罩内壁流动，内罩挡圈设有至少一层。

其中，底座包括底座内壁、底座外壁和底座底板，三者共同形成液流通道。

其中，底座底板的上表面为闭合的环形平面和/或曲面设计。

其中，底座底板的最高点为B，最高点为B远离最低点A设置，最低点A与最高点为B之间设有高度差k1。

其中，高度差k1的取值范围为7mm≤k1≤10mm。

其中，底座底板的上表面为螺旋面或其他非闭合的环形平面和/或曲面设计。

其中，平面V为底座的一剖面，在平面V上，底座内壁与底座底板设有交点M，底座外壁与底座底板设有交点N，交点M与交点N之间设有高度差k2，4mm≤k2≤6mm。

其中，交点M所在位置高于交点N所在位置。

其中，交点M所在位置低于交点N所在位置。

其中，交点M与交点N之间还有一中间点，中间点所在位置高于交点M及交点N所在位置。

其中，底座为圆柱形，平面V为过轴心的一剖面。

其中，内罩内还设有一分流罩，内罩内壁与分流罩内环抵接并固定，内罩与分流罩之间形成一抽风空间，底座内壁顶部与分流罩抵接并固定，底座外壁与外罩壁抵接并固定。

其中，分流罩外环与内罩壁之间设有间隙。

其中，分流罩内环所在的水平位置高于分流罩外环所在的水平位置。

其中，分流罩内环与分流罩外环之间还设有加强筋。

其中，分流罩上开设有至少一抽风上通道，底座上开设有与之相对应并可对接的至少一抽风下通道，抽风上通道与抽风空间连通，抽风下通道与外界连通。

其中，底座外壁顶部与外罩壁底部设有相配合的卡接结构。

其中，内罩内壁底部与分流罩内环顶部设有相配合的卡接结构。

其中，卡扣结构包括台阶与台阶槽的配合结构。

其中，卡扣结构包括卡扣与卡扣槽的配合结构。

三、有益效果

与现有技术相比，本实用新型的用于光刻涂胶的胶杯通过倾斜的液流通道的设置，能够很方便的使胶杯内部的胶液通过位于最低点A处的出液孔排出，不会出现堆积的现象，使得胶杯无需清洗或极大减少清洗次数，从而提高整体的工作效率；

进一步，通过不同的倾斜角度、倾斜方式的设置，对胶液在液流通道内的流动起到进一步汇聚的作用，从而解决胶杯内部胶液容易堆积的问题，以及胶杯中胶液不易清洗的问题；

还通过外罩挡圈和内罩挡圈的设置，有效防止了胶液从隔层空间以外的地方飞出的情况，提高了整体的防护性能，以及胶杯的使用效果；进一步，还通过卡扣结构设计，使整体结构固定更加牢固可靠。

附图说明

图1为本实用新型用于光刻涂胶的胶杯的爆炸图；

图2为本实用新型用于光刻涂胶的胶杯的立体图；

图3为本实用新型分流罩的向视图；

图4为本实用新型用于光刻涂胶的胶杯的剖视图1；

图5为本实用新型用于光刻涂胶的胶杯的剖视图2；

图6为本实用新型用于光刻涂胶的胶杯的剖视图3；

图中：1为外罩；2为内罩；3为分流罩；4为底座；5为外罩环口；6为外罩壁；7为内罩环口；8为内罩壁；9为底座内壁；10为底座外壁；11为液流通道；12为涂胶空间；13为液流空间；14为出液孔；15为外罩挡圈；16为内罩挡圈；17为底座底板；18为分流罩内环；19为分流罩外环；20为加强筋；21为抽风上通道；22为抽风下通道；23为抽风空间；24为卡扣结构。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不能用来限制本实用新型的范围。

实施例1：

本实用新型实施例的一种新型的用于光刻涂胶的胶杯，如图1至图6所示，包括外罩1、内罩2、以及用于固定外罩1、内罩2的底座4；

外罩1、内罩2和底座4中部共同形成一涂胶空间12，即，整体上看，本实施例的胶杯近似为一截面为环形的柱状结构，中间的空间即为光刻工艺过程中的涂胶空间12，外罩1、内罩2和底座4都设为环形结构；内罩2套设在外罩1内，外罩1的外罩壁6与内罩2的内罩壁8之间形成一隔层空间13，如图1所示，外罩壁6和内罩壁8都是上小下大的结构，本实施例中，外罩壁6上部近似锥形结构的一部分，下部为柱形结构，内罩壁8上部为具有弧面的锥形结构的一部分，下部为柱形结构，底座4内部开设有一液流通道11，涂胶空间12在工作过程中产生的胶液可通过隔层空间13进入液流通道11，进入方式包括飞溅通过隔层空间13，也包括沿内罩壁8弧形外表面流入到液流通道11内，还包括沿外罩壁6的内表面流入到液流通道11内；

本实施例中，液流通道11为倾斜设置，液流通道11的最低点A处开设有一用于胶液汇聚并排出的出液孔14，即在胶杯正常工作，并且水平放置的情况下，液流通道11为倾斜的方式设置胶液汇聚到液流通道11的最低点A处，并能够有效将胶液通过位于最低点A处的出液孔14排出；具体的，如图5所示，底座4包括底座内壁9、底座外壁10和底座底板17，三者共同形成液流通道11；本实施例中，底座底板17的上表面为闭合的环形平面和/或曲面设计，即底座底板17的上表面有一最高点B，最高点B远离最低点A设置，通过最高点B两侧都可以沿底座底板17的上表面到达最低点A，最低点A与最高点B之间设有高度差k1，图6中所示k1为最高位置与最低位置的中点之间的间距；本实施例中，高度差k1的取值范围为7mm≤k1≤10mm，本实施例中k1为8mm，高度差k1过低会大大降低胶液的流动性，能够很方便的使胶液通过位于最低点A处的出液孔14排出，不会出现堆积的现象，使得胶杯无需清洗或极大减少清洗次数，从而提高整体的工作效率。

实施例2：

如图3所示，相较于实施例1，在本实施例中，外罩1的外罩环口5处设有外罩挡圈15，即外罩环口5为外罩壁6上部的一圈环形开口，用于形成涂胶空间12，并且外罩挡圈15为三角形或方形或多边形或其他各种异形结构，由于胶液具有一定腐蚀性，外罩挡圈15主要用于防止胶液飞溅出外罩1或沿外罩壁6的外壁流出，本实施例中，外罩挡圈15的横截面为三角形，外罩挡圈15下部即为三角形的一伸出的顶角，起到阻挡作用。

并且，外罩挡圈15可以在外罩环口5处设有至少一层，还可通过两层或两层以上的设计，起到进一步的防护作用。

如图3所示，内罩2的内罩环口7处设有内罩挡圈16；内罩挡圈16为三角形或方形或多边形或其他各种异形结构，内罩挡圈16用于防止胶液沿着内罩2内壁流动，同时防止胶液沿着内罩2内壁进入其内部。

并且，内罩挡圈16可以在内罩环口7处设有至少一层，还可通过两层或两层以上的设计，起到进一步的防护作用。

实施例3：

相较于实施例1，在本实施例中，底座底板17的上表面为螺旋面或其他非闭合的环形平面和/或曲面设计；具体的，本实施例中，底座底板17的上表面采用螺旋面设计，即最低点A与最高点B在俯视时重合，通过最高点B一侧沿底座底板17的上表面到达最低点A，进而能够有效将胶液通过位于最低点A处的出液孔14排出。

实施例4：

相较于实施例1和实施例3，在本实施例中，平面V为底座4的一剖面，在平面V上，本实施例中，底座4为圆柱形，平面V为过轴心的一剖面，底座内壁9与底座底板17设有交点M，底座外壁10与底座底板17设有交点N，交点M与交点N之间设有高度差k2，4mm≤k2≤6mm，本实施例中，k2为5mm，交点M与交点N的高低根据同一水平面进行比较，即在本实施例中，同一位置处的底座底板17的内外存在高度差，交点M所在位置高于交点N所在位置，能够使得胶液更容易汇聚到液流通道11的最低点A处；交点M与交点N的连线与水平面之间的夹角为3°～15°，本实施例中，该夹角角度为10°。

本实施例中，根据不同设计需要，还可以将交点M所在位置设为低于交点N所在位置，再或者交点M与交点N之间还有一中间点，中间点所在位置高于交点M及交点N所在位置，上述设计都能起到相同的效果。

实施例5：

相较于实施例1，在本实施例中，内罩2内还设有一分流罩3，内罩2内壁与分流罩内环18抵接并固定，内罩2与分流罩3之间形成一抽风空间23，底座内壁9顶部与分流罩3抵接并固定，底座外壁10与外罩壁6抵接并固定。

分流罩外环19与内罩壁8之间设有间隙，起到连通液流通道11与抽风空间23的效果。

如图3所示，分流罩内环18所在的水平位置高于分流罩外环19所在的水平位置，即分流罩3也为近似锥形结构的设计；分流罩内环18与分流罩外环19之间还设有加强筋20，起到增强整体的结构强度的效果。

并且，在分流罩3上开设有至少一抽风上通道21，底座4上开设有与之相对应并可对接的至少一抽风下通道22，本实施例中，抽风上通道21与抽风下通道22各设有对称的两个，抽风上通道21与抽风空间23连通，抽风下通道22与外界连通；通过抽风装置将抽风空间23内的空气抽出。

底座外壁10顶部与外罩壁6底部设有相配合的卡接结构24；在内罩2内壁底部与分流罩内环18顶部设有相配合的卡接结构24，具体来说，卡扣结构24包括台阶与台阶槽的配合结构，或者卡扣结构24包括卡扣与卡扣槽的配合结构；本实施例中，底座外壁10顶部与外罩壁6还通过扁平凸起契合接触实现紧固防止分离。

以上仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (15)

1.一种新型的用于光刻涂胶的胶杯，其特征在于，所述用于光刻涂胶的胶杯包括外罩(1)、内罩(2)、以及用于固定外罩(1)、内罩(2)的底座(4)；

所述外罩(1)、内罩(2)和底座(4)中部共同形成一涂胶空间(12)；所述外罩(1)的外罩壁(6)与内罩(2)的内罩壁(8)之间形成一隔层空间(13)，所述底座(4)内部开设有一液流通道(11)，所述涂胶空间(12)产生的胶液可通过所述隔层空间(13)进入所述液流通道(11)；

所述液流通道(11)为倾斜设置，所述液流通道(11)的最低点A处开设有一用于胶液汇聚并排出的出液孔(14)；

所述底座(4)包括底座内壁(9)、底座外壁(10)和底座底板(17)，三者共同形成液流通道(11)；

所述内罩(2)内还设有一分流罩(3)，所述内罩(2)内壁与分流罩内环(18)抵接并固定，所述内罩(2)与分流罩(3)之间形成一抽风空间(23)，所述底座内壁(9)顶部与所述分流罩(3)抵接并固定，所述底座外壁(10)与所述外罩壁(6)抵接并固定。

2.如权利要求1所述的一种新型的用于光刻涂胶的胶杯，其特征在于，所述外罩(1)的外罩环口(5)处设有外罩挡圈(15)。

3.如权利要求2所述的一种新型的用于光刻涂胶的胶杯，其特征在于，所述外罩挡圈(15)为三角形或方形或多边形，所述外罩挡圈(15)用于防止胶液沿着外罩(1)内壁流动；所述外罩挡圈(15)设有至少一层。

4.如权利要求1所述的一种新型的用于光刻涂胶的胶杯，其特征在于，所述内罩(2)的内罩环口(7)处设有内罩挡圈(16)。

5.如权利要求4所述的一种新型的用于光刻涂胶的胶杯，其特征在于，所述内罩挡圈(16)为三角形或方形或多边形，所述内罩挡圈(16)用于防止胶液沿着内罩(2)内壁流动；所述内罩挡圈(16)设有至少一层。

6.如权利要求1所述的一种新型的用于光刻涂胶的胶杯，其特征在于，所述底座底板(17)的上表面为闭合的环形平面和/或曲面设计。

7.如权利要求6所述的一种新型的用于光刻涂胶的胶杯，其特征在于，所述底座底板(17)的最高点为B，所述最低点A与最高点为B之间设有高度差k1，所述高度差k1的取值范围为7mm≤k1≤10mm。

8.如权利要求1所述的一种新型的用于光刻涂胶的胶杯，其特征在于，所述底座底板(17)的上表面为螺旋面或非闭合的环形平面和/或曲面设计。

9.如权利要求6～8中任一所述的一种新型的用于光刻涂胶的胶杯，其特征在于，平面V为底座(4)的一剖面，在平面V上，所述底座内壁(9)与底座底板(17)设有交点M，所述底座外壁(10)与底座底板(17)设有交点N，所述交点M与所述交点N之间设有高度差k2，所述高度差k2的取值范围为4mm≤k2≤6mm。

10.如权利要求9所述的一种新型的用于光刻涂胶的胶杯，其特征在于，所述交点M所在位置高于所述交点N所在位置。

11.如权利要求9所述的一种新型的用于光刻涂胶的胶杯，其特征在于，所述交点M所在位置低于所述交点N所在位置。

12.如权利要求9所述的一种新型的用于光刻涂胶的胶杯，其特征在于，所述交点M与所述交点N之间还有一中间点，所述中间点所在位置高于所述交点M及交点N所在位置。

13.如权利要求9所述的一种新型的用于光刻涂胶的胶杯，其特征在于，所述底座(4)为圆柱形，所述平面V为过圆柱轴心的一剖面。

14.如权利要求1所述的一种新型的用于光刻涂胶的胶杯，其特征在于，所述内罩壁(8)与分流罩外环(19)之间设有间隙。

15.如权利要求1所述的一种新型的用于光刻涂胶的胶杯，其特征在于，所述分流罩(3)上开设有至少一抽风上通道(21)，所述底座(4)上开设有与之相对应并可对接的至少一抽风下通道(22)，所述抽风上通道(21)与所述抽风空间(23)连通，所述抽风下通道(22)与外界连通。

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