CN212886979U - 研磨机 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种研磨机，包括：吸附盘、第一转轴、真空泵、研磨盘和第二转轴。其中，吸附盘呈矩形，包括吸附端面，吸附端面上设有吸附孔，吸附孔用于将待磨件进行吸附；第一转轴为空心轴，第一转轴与吸附盘远离吸附端面相连；真空泵与吸附盘相连，连轴套套设于第一转轴的一端，以使第一转轴与真空泵转动连接；研磨盘设置在吸附盘的下方，研磨盘上设有打磨件，打磨件用于对待磨件进行打磨抛光处理；第二转轴与研磨盘相连。本实用新型所提供的研磨机尤其适于制作大幅面岩心标本切片，不容易使大幅面岩心标本切片在打磨抛光过程中损伤或损毁，并可以较大程度上保存岩心上的完整性，以有效避免地质资料的浪费。

Description

研磨机

技术领域

本实用新型涉及机械设备领域，具体而言，涉及一种研磨机。

背景技术

目前，抛光机或是研磨机是一种应用很广泛的机械，通过电机带动研磨盘旋转，使研磨盘上的打磨件与待磨件的表面相摩擦，进行研磨、抛光等工艺。现有的抛光机或是研磨机对于大幅面的待磨件，尤其是对于大幅面岩心标本切片并不适用，抛光机或是研磨机上的固定件无法对大幅面的岩心标本切片进行比较稳定的固定，容易使岩心标本切片在打磨抛光过程中损伤或损毁。尤其是针对一些较为难以取得，或是较为珍贵的地质资料，将会造成对地质资料的极大浪费。

实用新型内容

为了改善上述技术问题至少之一，本实用新型的一个目的在于提供一种研磨机，能够实现对大幅面的待磨件的研磨、抛光等工艺，并且具有较好的工艺效果。

为实现上述目的，本实用新型的技术方案提供了一种研磨机，包括：吸附盘，包括吸附端面，所述吸附盘呈矩形，所述吸附端面上设有吸附孔，所述吸附孔用于将待磨件吸附在所述吸附盘；第一转轴，所述第一转轴为空心轴，所述第一转轴的一端与所述吸附盘远离所述吸附端面的一侧相连；真空泵，与所述吸附盘相连，所述连轴套套设于所述第一转轴的另一端，以使所述第一转轴与所述连轴套转动连接；研磨盘，设置在所述吸附盘的下方，所述研磨盘上设有打磨件，所述打磨件用于对所述待磨件进行打磨抛光处理；第二转轴，与所述研磨盘相连。

具体而言，本实用新型所提供的研磨机采用了真空吸附的方式，使的待磨件可以吸附在吸附盘的表面，同时吸附盘的表面上设置有多个吸附孔，通过多个吸附将待磨件固定在吸附盘的表面上，可以对大幅面的待磨件具有更好的固定作用，且使得待磨件的受力更加均匀，以使待磨件与吸附盘表面的贴合更加紧密，对于厚度比较小的待磨件，可以相应减少在打磨抛光过程中待磨件损伤或是损坏的可能性。尤其是对于大幅面的岩心标本切片，岩心部分存在一定的松散性，如果直接使用相关技术中的夹具进行固定，过大的夹持力与过小的夹持力都无法满足固定的要求，无法较好的控制岩心标本切片上的受力情况，容易使岩心标本切片损坏或是从夹具中脱离。

第一转轴与吸附盘相连，第二转轴与研磨盘相连，吸附盘与研磨盘相对设置，通过第一转轴带动吸附盘旋转，第二转轴带动研磨盘旋转，使得研磨盘上的打磨件对吸附盘上的待磨件进行打磨抛光处理。

由于岩心标本切片通常为矩形形状，本申请所提供的研磨机将吸附盘设置为矩形，这样可以使的吸附盘与岩心标本切片的外形更加适配，同时在打磨抛光处理的过程中，岩心标本切片被吸附在吸附盘围设出的范围内，由吸附盘对岩心标本切片提供支撑，以减少岩心标本切片各处受力不均的可能性，从而减少岩心标本切片被损毁的风险。

另外，本实用新型提供的上述技术方案中的研磨机还可以具有如下附加技术特征：

在上述技术方案中，所述研磨盘呈圆形，所述第二转轴与所述研磨盘同轴设置，所述吸附盘的旋转半径小于等于所述研磨盘的旋转半径。

通过将研磨盘设置为圆形，圆形更加适于进行旋转，且第二转轴与研磨盘同轴，减少了研磨盘的旋转空间，进而减少了研磨机的实际的使用面积，更方便研磨机的布设。另外，可以理解，为了能够对大幅面岩心标本切片进行打磨抛光处理，研磨盘的尺寸最好也要比较大，这样可以在大幅面岩心标本切片旋转的过程中，从下方起到稳定的支持作用，使大幅面岩心标本切片在旋转过程保持在平面状态，从而降低大幅面岩心标本切片的个别部位可能由于受力不均而导致大幅面岩心标本切片损毁的风险。

在上述技术方案中，所述吸附端面呈矩形，所述研磨盘的直径与所述吸附端面的长边边长的比值在2：1至1：1之间。

本方案中将吸附端面设置为与大幅面岩心标本切片的外形适配的形状，通过合理设置吸附孔的分布，可以使设置在矩形的吸附端面上的吸附孔均匀分布到大幅面岩心标本切片的各个部位，尤其在大幅面岩心标本切片的边角位置，能够提供较好的吸附作用，较大程度地使大幅面岩心标本切片完全贴合在吸附端面上。值得一提的是，一些大幅面岩心标本切片的厚度也较小，还有一些大幅面岩心标本切片的岩心比较松散，通过将吸附端面设置为矩形，可以使多个吸附孔分布在大幅面岩心标本切片的各个位置上，以具有更加均匀的吸附效果，从而使得大幅面岩心标本切片在旋转过程中更加稳定。

另外，通过合理设置研磨盘与吸附端面的大小关系，可以使得研磨盘与吸附端面相互配合，起到更加全面、均匀的研磨抛光效果。同时，还可以通过控制吸附端面的大小，控制吸附盘的大小。在一些方案中，第一转轴的轴线与所述第二转轴的轴线间隔设置，在待磨件能够进行全面研磨的基础上，减少研磨盘的尺寸可以起到节约成本，以及减少实际占用空间的效果。

在上述技术方案中，所述吸附盘包括夹具，所述夹具与所述吸附端面相连；所述夹具包括两个凸筋，两个所述凸筋对称设在所述吸附端面两侧，用于对所述待磨件进行限位。

上吸式的真空吸附方式需要克服待磨件本身的重力，在待磨件与打磨件的相对运动下实现研磨，但由于重力与吸附力作用方向相反，在待磨件与打磨件的摩擦过程中，待磨件容易与吸附端面之间发生相对位移，一方面容易产生横向的拉扯力，破坏待磨件，尤其针对厚度较小的大幅面岩心标本切片容易发生损毁。通过设置夹具，对待磨件的横向进行限位，使得待磨件在打磨抛光处理的过程中更加稳定，并提高研磨机的使用可靠性。

其中，通过设置对称分布的两个凸筋，可以从两侧夹持待磨件，在待磨件旋转的过程中，位于旋转方向前侧的凸筋可以起到一定的保护作用，减少打磨件对待磨件的吸附端面的连接处的破坏，位于旋转方向后侧的凸筋可以起到止挡作用，防止待磨件向旋转方向的反方向平移，从而通过前后两个凸筋相配合可以提高待磨件的安装稳固性，并提高吸附盘的使用可靠性。

在上述技术方案中，所述夹具的高度设置在0.1毫米至5毫米之间；其中，所述夹具的高度指的是所述夹具的底端至所述吸附端面的距离。

通常大幅面岩心标本切片的厚度为1毫米至10毫米的范围内，而一些厚度较小的大幅面岩心标本切片的厚度在0.1毫米至5毫米的范围内。在打磨抛光处理的过程中，最理想的情况是夹具的高度略小于大幅面岩心标本切片的厚度，通过合理设置夹具的高度，这样既可以通过夹具的加持作用进一步提高待磨件的安装稳固性，也可以避免过高，影响研磨效果。可以理解，夹具的高度可以根据大幅面岩心标本切片的厚度选为3毫米、5毫米、8毫米等。

在上述任一技术方案中，所述吸附孔的数量为多个，相邻的两个所述吸附孔之间的距离相等，两两相邻的三个所述吸附孔的连线呈等边三角形。

将两两相邻的三个吸附孔设置为呈等边三角形的分布方式，可以使分布在大幅面岩心标本切片上的相邻的两个吸附孔之间的距离相等。这样可以使得作用在大幅面岩心标本切片上的吸附力更加均匀。尤其是对于一些厚度较小或者岩心比较松散的大幅面岩心标本切片，可以有效降低在打磨抛光处理过程中，大幅面岩心标本切片发生损毁的可能性，进而极大提高了地质资料被制作为标本的成品率，避免了地质资料的浪费。

三个吸附孔呈等边三角形的形式相较于四个吸附孔呈正方形的方式而言，吸附孔的分布更加致密，对于大幅面岩心标本切片的吸附作用更好，有助于提高大幅面岩心标本切片的稳固性。

在上述技术方案中，所述吸附端面的长边边长在200毫米至500毫米的范围内，短边边长在50毫米至200毫米的范围内；相邻的两个所述吸附孔之间的距离在10毫米至20毫米之间。

通常大幅面岩心标本切片呈矩形，矩形的长边边长在200毫米至500毫米的范围内，短边边长在50毫米至200毫米的范围内。通过限定吸附端面的尺寸，可以使吸附端面与大幅面岩心标本切片更加适配。且为了能够适配大幅面岩心标本切片，将两个所述吸附孔之间的距离在10毫米至20毫米之间，则可以保证在短边的方向上至少有两个或三个吸附孔，这样可以有效地固定大幅面岩心标本切片。且由于大幅面岩心标本切片的厚度较小，同样需要吸附孔的分布比较致密，以避免在打磨抛光过程中，大幅面岩心标本切片的部分起伏，而导致打磨抛光效果不好或是发生损伤。

在上述任一技术方案中，所述打磨件包括打磨砂纸，所述打磨砂纸与所述研磨盘可拆卸连接；其中，所述打磨砂纸的型号包括120目、150目、240目、400目、600目、800目、1000目、1500目、2000目中的至少一种。

对于吸附盘在上方、研磨盘在下方的情况，通常研磨盘的尺寸大于吸附盘的尺寸，因此选用打磨砂纸可以铺满整个研磨盘的平面，通过设置大幅面的打磨砂纸，可以降低打磨抛光过程中，待磨件上出现未研磨区域的可能性。同时，打磨砂纸与研磨盘可拆卸连接，有利于打磨砂纸的更换。其中打磨砂纸可以是粘贴在研磨盘上的，也可以是包裹住研磨盘的上表面在研磨盘的侧面进行固定的。

本方案中，还提供了多种型号的打磨砂纸，从而可以采用多级打磨砂纸对待磨件进行打磨抛光处理，每级砂纸的目数依次增大，每次的打磨时间在1至2分钟。由于打磨处理工艺中，选用的砂纸的目数及其顺序对打磨处理的效果及处理时间影响很大，通过多级砂纸可以分别对大幅面岩心标本切片进行不同程度的粗磨、中磨、细磨以及精磨处理。比如，依次使用型号分别为120目、150目、600目、1000目的打磨砂纸依次进行打磨，可以得到具有光滑研磨面的大幅面岩心标本切片。

在上述任一技术方案中，所述第一转轴连接有第一驱动设备，所述第二转轴连接有第二驱动设备；所述第一驱动设备包括变频电机和正反转控制装置，所述变频电机与所述正反转控制装置相连；和/或所述第二驱动设备为驱动电机。

第一转轴用于带动吸附盘转动，第二转轴用于带动研磨盘转动。其中，通过将与第一转轴相连接的第一驱动设备设置为变频电机和正反转控制装置，使得吸附盘的旋转速度可调，旋转方向可调。通过不同的旋转速度，可以实现对待磨件的粗磨、中磨、细磨或精磨等要求，使待磨件的被研磨面具有不同的研磨效果。比如转速较慢，较适宜进行粗磨处理；转速较快，则较适宜进行精磨处理。

通过不同的旋转方向，使得第一转轴既可以与第二转轴同样顺时针转动或逆时针，也可以一个顺时针转动另一个逆时针转动，以达到不同的研磨要求。比如第一转轴与第二转轴沿同向转动，研磨盘与吸附盘相对转动的速度较慢，较适宜进行研磨处理等。比如第一转轴与第二转轴沿相反方向转动，研磨盘与吸附盘相对转动的速度较快，较适宜进行抛光处理。

在上述任一技术方案中，所述第一转轴的轴线与所述第二转轴的轴线间隔设置。

通过将第一转轴的轴线与所述第二转轴的轴线间隔设置，即第一转轴与第二转轴不是同轴设置。可以理解的是，以吸附盘为例，旋转半径越大的部位旋转的线速度也越大，打磨抛光的效果也越好，这样在吸附盘旋转的过程中，设置在吸附盘上的待磨件，远离吸附盘的旋转轴线的线速度大，打磨抛光的效果好，靠近吸附盘的旋转轴线的线速度小，打磨抛光的效果差。同样道理，研磨盘的旋转半径越大的部位旋转的线速度也越大，打磨抛光的效果也越好。通过将第一转轴的轴线与所述第二转轴的轴线间隔设置，可以利用研磨盘的旋转半径大的部位对吸附盘上的旋转半径小的部位进行打磨，从而提高研磨盘上某个位置与吸附盘上对应的位置之间的相对转动速度，以提高对待磨件整体打磨抛光效果。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述部分中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是本实用新型一个实施例所述的研磨机的结构示意图；

图2是本实用新型一个实施例所述的研磨机的局部的立体结构示意图；

图3是本实用新型一个实施例所述的吸附盘的立体结构示意图；

图4是本实用新型一个实施例所述的研磨机的结构示意图。

其中，图1至图4中附图标记与部件名称之间的对应关系为：

11吸附盘；12第一转轴；111吸附端面；112吸附孔；113凸筋；114旋转气阀；13真空泵；131连轴套；14第一驱动设备；21研磨盘；22第二转轴；23打磨件；24第二驱动设备；41伺服进进电机；42传动丝杆。

具体实施方式

为了能够更清楚地理解本实用新型的上述目的、特征和优点，下面结合附图和具体实施方式对本实用新型进行进一步的详细描述。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型，但是，本实用新型还可以采用其他不同于在此描述的其他方式来实施，因此，本实用新型的保护范围并不受下面公开的具体实施例的限制。

下面参照图1至图4描述本实用新型一些实施例中的研磨机。

本申请提供了一种研磨机，包括：吸附盘11、第一转轴12、真空泵13、研磨盘21和第二转轴22。

实施例一

如图1所示，本实施例所提供的研磨机包括吸附盘11、第一转轴12、真空泵13、研磨盘21和第二转轴22。其中，吸附盘11呈矩形，包括吸附端面111，吸附端面111上设有吸附孔112，吸附孔112用于将待磨件进行吸附；第一转轴12为空心轴，第一转轴12与吸附盘11远离吸附端面111相连；真空泵13与吸附盘11相连，连轴套131套设于第一转轴12的一端，以使第一转轴12与真空泵13转动连接；研磨盘21设置在吸附盘11的下方，研磨盘21上设有打磨件23，打磨件23用于对待磨件进行打磨抛光处理；第二转轴22与研磨盘21相连。

具体而言，本实用新型所提供的研磨机采用了真空吸附的方式，使的待磨件可以吸附在吸附盘11的表面，同时吸附盘11的表面上设置有多个吸附孔112，通过多个吸附将待磨件固定在吸附盘11的表面上，可以对大幅面的待磨件具有更好的固定作用，且使得待磨件的受力更加均匀，以使待磨件与吸附盘11表面的贴合更加紧密，对于厚度比较小的待磨件，可以相应减少在打磨抛光过程中待磨件损伤或是损坏的可能性。尤其是对于大幅面的岩心标本切片，岩心部分存在一定的松散性，如果直接使用相关技术中的夹具进行固定，过大的夹持力与过小的夹持力都无法满足固定的要求，无法较好的控制岩心标本切片上的受力情况，容易使岩心标本切片损坏或是从夹具中脱离。

第一转轴12与吸附盘11相连，第二转轴22与研磨盘21相连，吸附盘11与研磨盘21相对设置，通过第一转轴12带动吸附盘11旋转，第二转轴22带动研磨盘21旋转，使得研磨盘21上的打磨件23对吸附盘11上的待磨件进行打磨抛光处理。

由于岩心标本切片通常为矩形形状，本申请所提供的研磨机将吸附盘11设置为矩形，这样可以使的吸附盘11与岩心标本切片的外形更加适配，同时在打磨抛光处理的过程中，岩心标本切片被吸附在吸附盘11围设出的范围内，由吸附盘11对岩心标本切片提供支撑，以减少岩心标本切片各处受力不均的可能性，从而减少岩心标本切片被损毁的风险。

实施例二

在上述实施例的基础上，进一步地，研磨盘21呈圆形，第二转轴22与研磨盘21同轴设置，吸附盘11的旋转半径R1小于等于研磨盘21的旋转半径R2。

如图2所示，通过将研磨盘21设置为圆形，圆形更加适于进行旋转，且第二转轴22与研磨盘21同轴，减少了研磨盘21的旋转空间，进而减少了研磨机的实际的使用面积，更方便研磨机的布设。另外，可以理解，为了能够对大幅面岩心标本切片进行打磨抛光处理，研磨盘21的尺寸最好也要比较大，这样可以在大幅面岩心标本切片旋转的过程中，从下方起到稳定的支持作用，使大幅面岩心标本切片在旋转过程保持在平面状态，从而降低大幅面岩心标本切片的个别部位可能由于受力不均而导致大幅面岩心标本切片损毁的风险。

进一步地，吸附端面111呈矩形。

将吸附端面111设置为与大幅面岩心标本切片的外形适配的形状，通过合理设置吸附孔112的分布，可以使设置在矩形的吸附端面111上的吸附孔112均匀分布到大幅面岩心标本切片的各个部位，尤其在大幅面岩心标本切片的边角位置，能够提供较好的吸附作用，较大程度地使大幅面岩心标本切片完全贴合在吸附端面111上。值得一提的是，一些大幅面岩心标本切片的厚度也较小，还有一些大幅面岩心标本切片的岩心比较松散，通过将吸附端面111设置为矩形，可以使多个吸附孔112分布在大幅面岩心标本切片的各个位置上，以具有更加均匀的吸附效果，从而使得大幅面岩心标本切片在旋转过程中更加稳定。

实施例三

在上述任一实施例的基础上，进一步地，如图3所示，吸附盘11包括夹具，夹具与吸附端面111相连；夹具包括两个凸筋113，两个凸筋113对称设在吸附端面111两侧，用于对待磨件进行限位。

上吸式的真空吸附方式需要克服待磨件本身的重力，在待磨件与打磨件23的相对运动下实现研磨，但由于重力与吸附力作用方向相反，在待磨件与打磨件23的摩擦过程中，待磨件容易与吸附端面111之间发生相对位移，一方面容易产生横向的拉扯力，破坏待磨件，尤其针对厚度较小的大幅面岩心标本切片容易发生损毁。通过设置夹具，对待磨件的横向进行限位，使得待磨件在打磨抛光处理的过程中更加稳定，并提高研磨机的使用可靠性。

其中，通过设置对称分布的两个凸筋113，可以从两侧夹持待磨件，在待磨件旋转的过程中，位于旋转方向前侧的凸筋113可以起到一定的保护作用，减少打磨件23对待磨件的吸附端面111的连接处的破坏，位于旋转方向后侧的凸筋113可以起到止挡作用，防止待磨件向旋转方向的反方向平移，从而通过前后两个凸筋113相配合可以提高待磨件的安装稳固性，并提高吸附盘11的使用可靠性。

进一步地，夹具的高度H设置在0.1毫米至5毫米之间；其中，夹具的高度指的是夹具的底端至吸附端面111的距离。

通常大幅面岩心标本切片的厚度为1毫米至10毫米的范围内，而一些厚度较小的大幅面岩心标本切片的厚度在0.1毫米至5毫米的范围内。在打磨抛光处理的过程中，最理想的情况是夹具的高度略小于大幅面岩心标本切片的厚度，通过合理设置夹具的高度，这样既可以通过夹具的加持作用进一步提高待磨件的安装稳固性，也可以避免过高，影响研磨效果。可以理解，夹具的高度可以根据大幅面岩心标本切片的厚度选为3毫米、5毫米、8毫米等。

进一步地，如图3所示，吸附孔112的数量为多个，相邻的两个吸附孔112之间的距离d相等，两两相邻的三个吸附孔112的连线呈等边三角形。

将两两相邻的三个吸附孔112设置为呈等边三角形的分布方式，可以使分布在大幅面岩心标本切片上的相邻的两个吸附孔112之间的距离相等。这样可以使得作用在大幅面岩心标本切片上的吸附力更加均匀。尤其是对于一些厚度较小或者岩心比较松散的大幅面岩心标本切片，可以有效降低在打磨抛光处理过程中，大幅面岩心标本切片发生损毁的可能性，进而极大提高了地质资料被制作为标本的成品率，避免了地质资料的浪费。

三个吸附孔112呈等边三角形的形式相较于四个吸附孔112呈正方形的方式而言，吸附孔112的分布更加致密，对于大幅面岩心标本切片的吸附作用更好，有助于提高大幅面岩心标本切片的稳固性。

实施例四

在上述任一实施例的基础上，进一步地，如图3所示，吸附端面111的长边边长L2在200毫米至500毫米的范围内，短边边长W在50毫米至200毫米的范围内；相邻的两个吸附孔112之间的距离d在10毫米至20毫米之间。

通常大幅面岩心标本切片呈矩形，矩形的长边边长在200毫米至500毫米的范围内，短边边长在50毫米至200毫米的范围内。通过限定吸附端面111的尺寸，可以使吸附端面111与大幅面岩心标本切片更加适配。且为了能够适配大幅面岩心标本切片，将两个吸附孔112之间的距离在10毫米至20毫米之间，则可以保证在短边的方向上至少有两个或三个吸附孔112，这样可以有效地固定大幅面岩心标本切片。且由于大幅面岩心标本切片的厚度较小，同样需要吸附孔112的分布比较致密，以避免在打磨抛光过程中，大幅面岩心标本切片的部分起伏，而导致打磨抛光效果不好或是发生损伤。

实施例五

在上述任一实施例的基础上，进一步地，打磨件23包括打磨砂纸，打磨砂纸与研磨盘21可拆卸连接；其中，打磨砂纸的型号包括120目、150目、240目、400目、600目、800目、1000目、1500目、2000目中的至少一种。

对于吸附盘11在上方、研磨盘21在下方的情况，通常研磨盘21的尺寸大于吸附盘11的尺寸，因此选用打磨砂纸可以铺满整个研磨盘21的平面，通过设置大幅面的打磨砂纸，可以降低打磨抛光过程中，待磨件上出现未研磨区域的可能性。同时，打磨砂纸与研磨盘21可拆卸连接，有利于打磨砂纸的更换。其中打磨砂纸可以是粘贴在研磨盘21上的，也可以是包裹住研磨盘21的上表面在研磨盘21的侧面进行固定的。

本实施例中，还提供了多种型号的打磨砂纸，从而可以采用多级打磨砂纸对待磨件进行打磨抛光处理，每级砂纸的目数依次增大，每次的打磨时间在1至2分钟。由于打磨处理工艺中，选用的砂纸的目数及其顺序对打磨处理的效果及处理时间影响很大，通过多级砂纸可以分别对大幅面岩心标本切片进行不同程度的粗磨、中磨、细磨以及精磨处理。比如，依次使用型号分别为120目、150目、600目、1000目的打磨砂纸依次进行打磨，可以得到具有光滑研磨面的大幅面岩心标本切片。

实施例六

在上述任一实施例的基础上，进一步地，第一转轴12连接有第一驱动设备，第二转轴22连接有第二驱动设备；第一驱动设备包括变频电机和正反转控制装置，变频电机与正反转控制装置相连；第二驱动设备为驱动电机。

第一转轴12用于带动吸附盘11转动，第二转轴22用于带动研磨盘21转动。其中，通过将与第一转轴12相连接的第一驱动设备设置为变频电机和正反转控制装置，使得吸附盘11的旋转速度可调，旋转方向可调。通过不同的旋转速度，可以实现对待磨件的粗磨、中磨、细磨或精磨等要求，使待磨件的被研磨面具有不同的研磨效果。比如转速较慢，较适宜进行粗磨处理；转速较快，则较适宜进行精磨处理。

通过不同的旋转方向，使得第一转轴12既可以与第二转轴22同样顺时针转动或逆时针，也可以一个顺时针转动另一个逆时针转动，以达到不同的研磨要求。比如第一转轴12与第二转轴22沿同向转动，研磨盘21与吸附盘11相对转动的速度较慢，较适宜进行研磨处理等。比如第一转轴12与第二转轴22沿相反方向转动，研磨盘21与吸附盘11相对转动的速度较快，较适宜进行抛光处理。

实施例七

在上述任一实施例的基础上，进一步地，第一转轴12的轴线与第二转轴22的轴线间隔设置。

通过将第一转轴12的轴线与第二转轴22的轴线间隔设置，即第一转轴12与第二转轴22不是同轴设置。可以理解的是，以吸附盘11为例，旋转半径越大的部位旋转的线速度也越大，打磨抛光的效果也越好，这样在吸附盘11旋转的过程中，设置在吸附盘11上的待磨件，远离吸附盘11的旋转轴线的线速度大，打磨抛光的效果好，靠近吸附盘11的旋转轴线的线速度小，打磨抛光的效果差。同样道理，研磨盘21的旋转半径越大的部位旋转的线速度也越大，打磨抛光的效果也越好。通过将第一转轴12的轴线与第二转轴22的轴线间隔设置，可以利用研磨盘21的旋转半径大的部位对吸附盘11上的旋转半径小的部位进行打磨，从而提高研磨盘21上某个位置与吸附盘11上对应的位置之间的相对转动速度，以提高对待磨件整体打磨抛光效果。

进一步地，所述研磨盘21的半径R2与所述吸附端面111的长边边长L2的比值在2：1至1：1之间。

通过合理设置研磨盘21与吸附端面111的大小关系，可以使得研磨盘21与吸附端面111相互配合，起到更加全面、均匀的研磨抛光效果。同时，还可以通过控制吸附端面111的大小，控制吸附盘11的大小。在一些方案中，第一转轴12的轴线与所述第二转轴22的轴线间隔设置，在待磨件能够进行全面研磨的基础上，减少研磨盘21的尺寸可以起到节约成本，以及减少实际占用空间的效果。

在一些实施例中，吸附端面111为矩形，吸附盘11为矩形，吸附端面111的长边边长L2等于吸附盘11的长边边长L1。

下面以一个具体实施例说明本申请所提供的研磨机的具体结构。

如图4所示，研磨机包括相对设置的吸附盘11和研磨盘21，研磨盘21设在吸附盘11的下方，研磨盘21与第二驱动设备24相连，第二驱动设备24为变频电机，吸附盘11与第一驱动设备14相连，第一驱动设备14为旋转电机，吸附盘11与第一驱动设备14之间设有旋转气阀114，旋转气阀114和真空泵13相连，使吸附盘11通过旋转气阀114与真空泵13连通，从而在真空泵13启动后将待磨件吸附在吸附盘11上，旋转气阀114不影响吸附盘11的旋转。另外研磨机还包括伺服电机41和传动丝杆42，第一驱动设备14与传动丝杆42相连，并适于沿传动丝杆42的延伸方向上下往复运动，伺服电机41和传动丝杆42相互配合作为升降机构用于精确控制吸附盘11的升降行程。

综上，本申请所提供的研磨机适于对大幅面且厚度较小的待磨件进行打磨抛光处理，尤其适于制作大幅面岩心标本切片，不容易使大幅面岩心标本切片在打磨抛光过程中损伤或损毁，可以较大程度上保存岩心上的完整性，以有效避免地质资料的浪费。

在本实用新型中，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述的目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性；术语“多个”则指两个或两个以上，除非另有明确的限定。术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语均应做广义理解，例如，“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；“相连”可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或单元必须具有特定的方向、以特定的方位构造和操作，因此，不能理解为对本实用新型的限制。

在本说明书的描述中，术语“一个实施例”、“一些实施例”、“具体实施例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或实例。而且，描述的具体特征、结构、材料或特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种研磨机，其特征在于，包括：

吸附盘，包括吸附端面，所述吸附盘呈矩形，所述吸附端面上设有吸附孔，所述吸附孔用于将待磨件吸附在所述吸附盘；

第一转轴，所述第一转轴为空心轴，所述第一转轴的一端与所述吸附盘远离所述吸附端面的一侧相连；

真空泵，与所述吸附盘相连，连轴套套设于所述第一转轴的另一端，以使所述第一转轴与所述连轴套转动连接；

研磨盘，设置在所述吸附盘的下方，所述研磨盘上设有打磨件，所述打磨件用于对所述待磨件进行打磨抛光处理；

第二转轴，与所述研磨盘相连。

2.根据权利要求1所述的研磨机，其特征在于，

所述研磨盘呈圆形，所述第二转轴与所述研磨盘同轴设置，所述吸附盘的旋转半径小于等于所述研磨盘的旋转半径。

3.根据权利要求2所述的研磨机，其特征在于，

所述吸附端面呈矩形，所述研磨盘的直径与所述吸附端面的长边边长的比值在2：1至1：1之间。

4.根据权利要求3所述的研磨机，其特征在于，

所述吸附盘包括夹具，所述夹具与所述吸附端面相连；

所述夹具包括两个凸筋，两个所述凸筋对称设在所述吸附端面两侧，用于对所述待磨件进行限位。

5.根据权利要求4所述的研磨机，其特征在于，

所述夹具的高度设置在0.1毫米至10毫米之间；

其中，所述夹具的高度指的是所述夹具的底端至所述吸附端面的距离。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的研磨机，其特征在于，

所述吸附孔的数量为多个，相邻的两个所述吸附孔之间的距离相等，两两相邻的三个所述吸附孔的连线呈等边三角形。

7.根据权利要求6所述的研磨机，其特征在于，

所述吸附端面的长边边长在200毫米至500毫米的范围内，短边边长在50毫米至200毫米的范围内；

相邻的两个所述吸附孔之间的距离在10毫米至20毫米之间。

8.根据权利要求1至5中任一项所述的研磨机，其特征在于，

所述打磨件包括打磨砂纸，所述打磨砂纸与所述研磨盘可拆卸连接；

其中，其中，所述打磨砂纸的型号包括120目、150目、240目、400目、600目、800目、1000目、1500目、2000目中的至少一种。

9.根据权利要求1至5中任一项所述的研磨机，其特征在于，

所述第一转轴连接有第一驱动设备，所述第二转轴连接有第二驱动设备；

所述第一驱动设备包括变频电机和正反转控制装置，所述变频电机与所述正反转控制装置相连；和/或所述第二驱动设备为驱动电机。

10.根据权利要求1至5中任一项所述的研磨机，其特征在于，

所述第一转轴的轴线与所述第二转轴的轴线间隔设置。

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