CN212886978U - 研磨机 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种研磨机，包括：吸附盘、与吸附盘相连的第一转轴、真空泵、研磨盘以及与研磨盘相连的第二转轴，其中，真空泵与吸附盘上的吸附孔相连，用于将设置在吸附盘上的待磨件吸附在吸附盘的表面上，第一转轴的轴线与第二转轴的轴线间隔设置，可以对待磨件朝向研磨盘的端面进行全面、均匀的打磨抛光处理。本实用新型提供的研磨机适于对大幅面且厚度较小的待磨件进行打磨抛光处理，尤其适于制作大幅面岩心标本切片，可以较大程度上保存岩心上的完整性，并具有较好的打磨抛光效果，进而使得较大程度上保存岩心切片上的构造细节的完整性，便于对大幅面岩心标本切片进行360°全方位观察，非常适于观察展示和展览。

Description

研磨机

技术领域

本实用新型涉及机械设备领域，具体而言，涉及一种研磨机。

背景技术

目前，抛光机或是研磨机是一种应用很广泛的机械，通过电机带动研磨盘旋转，使研磨盘上的打磨件与待磨件的表面相摩擦，进行研磨、抛光等工艺。现有的抛光机可以通过设置真空设备，将待磨件设置在吸附盘的表面进行研磨、抛光等工艺，但是针对大幅面的待磨件，打磨件在旋转过程中研磨的位置相对固定，待磨件的部分部位的研磨或抛光效果并不理想。

实用新型内容

为了改善上述技术问题至少之一，本实用新型的一个目的在于提供一种研磨机，能够实现对大幅面的待磨件的研磨、抛光等工艺，并且具有较好的工艺效果。

为实现上述目的，本实用新型的技术方案提供了一种研磨机，包括：吸附盘，所述吸附盘上设有吸附孔，所述吸附孔用于将待磨件吸附在所述吸附盘上；第一转轴，所述第一转轴为空心轴，所述第一转轴的一端与所述吸附盘相连并与所述吸附孔相连通，所述第一转轴与所述吸附盘同轴设置；真空泵，所述真空泵包括连轴套，所述连轴套套设于所述第一转轴的另一端，以使所述第一转轴与所述连轴套转动连接，且所述真空泵通过所述第一转轴与所述吸附孔相连通；研磨盘，设置在所述吸附盘的上方，所述研磨盘上设有打磨件，所述打磨件用于对所述待磨件进行打磨抛光作业；第二转轴，与所述研磨盘相连；其中，所述第一转轴的轴线与所述第二转轴的轴线间隔设置。

具体而言，本实用新型所提供的研磨机采用了真空吸附的方式，使的待磨件可以吸附在吸附盘的表面，同时吸附盘的表面上设置有多个吸附孔，通过多个吸附将待磨件固定在吸附盘的表面上，可以对大幅面的待磨件具有更好的固定作用，且使得待磨件的受力更加均匀，以使待磨件与吸附盘表面的贴合更加紧密，对于厚度比较小的待磨件，可以相应减少在打磨抛光过程中待磨件损伤或是损坏的可能性。

第一转轴与吸附盘相连，第二转轴与研磨盘相连，吸附盘与研磨盘相对设置，通过第一转轴带动吸附盘旋转，第二转轴带动研磨盘旋转，使得研磨盘上的打磨件对吸附盘上的待磨件进行打磨抛光处理。

本申请所提供的研磨机将第一转轴的轴线与所述第二转轴的轴线间隔设置，即第一转轴与第二转轴不是同轴设置。可以理解的是，以吸附盘为例，旋转半径越大的部位旋转的线速度也越大，打磨抛光的效果也越好，这样在吸附盘旋转的过程中，设置在吸附盘上的待磨件，远离吸附盘的旋转轴线的线速度大，打磨抛光的效果好，靠近吸附盘的旋转轴线的线速度小，打磨抛光的效果差。同样道理，研磨盘的旋转半径越大的部位旋转的线速度也越大，打磨抛光的效果也越好。通过将第一转轴的轴线与所述第二转轴的轴线间隔设置，可以利用研磨盘的旋转半径越大的部位对待磨件上靠近吸附盘的旋转轴线的部分多进行打磨，以提高对待磨件整体打磨抛光效果。

综上，本申请所提供的研磨机适于对大幅面且厚度较小的待磨件进行打磨抛光处理，尤其适于制作大幅面标本切片，比如大幅面岩心标本切片。可以较大程度上保存岩心上的完整性，并具有较好的打磨抛光效果，进而使得较大程度上保存岩心切片上的构造细节的完整性，便于对大幅面岩心标本切片进行360°全方位观察，非常适于观察展示和展览。

另外，本实用新型提供的上述技术方案中的研磨机还可以具有如下附加技术特征：

在上述技术方案中，所述吸附盘包括吸附端面，所述吸附端面呈圆形，所述吸附孔的数量为多个，多个所述吸附孔设在所述吸附端面上；其中，多个所述吸附孔呈矩形阵列分布。

吸附盘包括吸附端面，其中吸附端面可拆卸，可以通过更换不同的吸附端面适用于不同的待磨件。其中吸附端面的类型包括但是不限于尺寸上的区别，吸附孔分布上的区别等。

本方案提供的吸附端面呈圆形，圆形更加适于进行旋转，吸附端面上的多个吸附孔呈矩形阵列分布，则更加适用于矩形的待磨件，比如大幅面岩心标本切片。通过将多个吸附孔设置为呈矩形阵列分布，可以使吸附孔的分布更加适配于大幅面岩心标本切片的外观尺寸，尤其对矩形的四个边和四个顶角都可以通过真空吸附的方式加以固定，使得大幅面岩心标本切片与吸附端面贴合的更加紧密，减少在打磨抛光过程中大幅面岩心标本切片的边角翘起的可能性，从而进一步降低大幅面岩心标本切片被损坏的可能性，提高研磨机的使用可靠性与稳定性。

在上述技术方案中，所述研磨盘呈圆形，所述研磨盘的半径小于所述吸附端面的半径。

圆形的研磨盘易于制作，且将选用砂轮作为打磨件，圆形的砂轮与圆形的研磨盘更加适配。另外由于第一转轴的轴线与第二转轴的轴线间隔设置，在吸附盘和研磨盘的旋转过程中，研磨盘不需要超出吸附盘的旋转范围，这样可以根据第二转轴相对于第一转轴的位置合理设置研磨盘的半径大小，通过减少研磨盘的半径，则可以起到节约设备成本的效果，同时也可以使用小型的砂轮安装在研磨盘上，则起到了节约使用成本的效果。

在上述技术方案中，所述研磨盘的半径与所述吸附端面的半径的比值在2：3至1：3之间；和/或所述第二转轴与所述吸附端面的中心轴线之间的间距在所述吸附端面的半径长度的1/3至2/3范围内。

通过合理设置研磨盘与吸附端面的大小关系，以及第二转轴距离吸附端面的中心轴线的距离，可以使得研磨盘与吸附端面相互配合，起到更加全面、均匀的研磨抛光效果。

在上述技术方案中，所述第二转轴与所述第一转轴之间沿水平方向上的间隔距离为所述吸附端面的半径长度的一半，且所述研磨盘的直径长度等于所述吸附盘的半径长度。

通过将第二转轴与第一转轴之间沿水平方向上的间隔距离设置为吸附端面的半径长度的一半，且研磨盘的直径长度设置为等于吸附盘的半径长度，则可以在进行较为全面、均匀的研磨抛光效果基础上，较大程度的节约成本。

在上述技术方案中，相邻的两个所述吸附孔之间的距离在10毫米至20毫米之间；和/或所述研磨盘在所述吸附盘上的投影位于多个所述吸附孔所围设出的范围内。

为了能够适配大幅面岩心标本切片，通常大幅面岩心标本切片呈矩形，厚度控制在0.1毫米至5毫米的范围内，矩形的长边边长在200毫米至300毫米的范围内，短边边长在50毫米至200毫米的范围内。将两个所述吸附孔之间的距离在10毫米至20毫米之间，则可以保证在短边的方向上至少有两个或三个吸附孔，这样可以有效地固定大幅面岩心标本切片。且由于大幅面岩心标本切片的厚度较小，同样需要吸附孔的分布比较致密，以避免在打磨抛光过程中，大幅面岩心标本切片的部分起伏，而导致打磨抛光效果不好或是发生损伤。

另一方面，使研磨盘在吸附盘上的投影位于多个吸附孔所围设出的范围内，通过合理设置大幅面岩心标本切片的摆放位置，则可以使研磨盘上的打磨件能够更加全面。其中，可以理解的是，研磨盘的直径大于等于大幅面岩心标本切片的长边边长的一半，即研磨盘的直径大于等于100毫米，则在打磨抛光处理过程中，通过第一转轴和第二转轴的旋转，可以使大幅面岩心标本切片处于研磨盘的旋转半径的投影范围内，从而使研磨盘能够对大幅面岩心标本切片的各个位置进行研磨。且根据研磨盘的半径与吸附端面的半径的比值关系，可以将打磨片的直径设在100毫米至200毫米的范围内。

在上述任一技术方案中，所述第一转轴连接有第一驱动设备，所述第二转轴连接有第二驱动设备；所述第一驱动设备包括驱动电机；和/或所述第二驱动设备包括变频电机和正反转控制装置，所述变频电机与所述正反转控制装置相连。

第一转轴用于带动吸附盘转动，第二转轴用于带动研磨盘转动。其中，通过将与第二转轴相连接的第二驱动设备设置为变频电机和正反转控制装置，使得研磨盘的旋转速度可调，旋转方向可调。通过不同的旋转速度，可以实现对待磨件的粗磨、中磨、细磨或精磨等要求，使待磨件的被研磨面具有不同的研磨效果。比如转速较慢，较适宜进行粗磨处理；转速较快，则较适宜进行精磨处理。

通过不同的旋转方向，使得第一转轴既可以与第二转轴同样顺时针转动或逆时针，也可以一个顺时针转动另一个逆时针转动，以达到不同的研磨要求。比如第一转轴与第二转轴沿同向转动，研磨盘与吸附盘相对转动的速度较慢，较适宜进行研磨处理等。比如第一转轴与第二转轴沿相反方向转动，研磨盘与吸附盘相对转动的速度较快，较适宜进行抛光处理。

在上述任一技术方案中，所述打磨件为砂轮，所述研磨盘上设置有安装孔，所述砂轮通过紧固件与所述安装孔相连。

砂轮使用方便，可以通过螺栓安装在研磨盘上，更换也较为简单。其中，砂轮的直径可以与研磨盘的直径相等或近似。

在上述任一技术方案中，所述研磨机还包括：冷却喷头，用于在所述研磨盘旋转的过程中向所述研磨盘与所述吸附盘之间喷射冷却液。

在打磨抛光的过程中，待磨件会产生粉尘，造成环境污染，通过对在研磨盘旋转的过程中向研磨盘的打磨抛光位置喷射冷却液，在起到冷却作用的同时，还可以起到防尘作用。其中，冷却液也可以水或其它具有冷却效果的液体等。

在上述任一技术方案中，所述研磨机还包括：冷却液回收装置，所述冷却液回收装置的一端与所述冷却喷头相连，所述吸附盘包括下端面，所述下端面沿所述第一转轴向远离所述第一转轴的方向向下倾斜延伸，所述下端面远离所述第一转轴的一侧设有集液槽，所述集液槽用于收集经所述吸附孔流入所述吸附盘内的冷却液，所述冷却液回收装置的另一端与所述集液槽相连。

通过设置回收装置回收冷却液，可以减少污染，且将吸附盘的下端面设置为倾斜角度，便于冷却液的收集，减少冷却液流入真空装置，比如真空泵的可能性，从而降低真空泵发生故障的可能性，提高研磨机的使用可靠性。通过设置集液槽，则可以将冷却液集中在集液槽内，更加方便冷却液的收集。同时通过将收集后的冷却液再次输送给冷却喷头，使冷却液循环利用，还可以进一步节约成本。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述部分中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是本实用新型一个实施例所述的研磨机的结构示意图；

图2是本实用新型一个实施例所述的吸附端面和吸附孔的结构示意图；

图3是本实用新型一个实施例所述的吸附端面和吸附孔的结构示意图；

图4是本实用新型一个实施例所述的研磨机的局部结构示意图；

图5是本实用新型一个实施例所述的研磨机的局部结构示意图；

图6是本实用新型一个实施例所述的研磨机的结构示意图。

其中，图1至图6中附图标记与部件名称之间的对应关系为：

11吸附盘；12第一转轴；111吸附端面；112吸附孔；113下端面；114旋转气阀；115传动皮带；13真空泵；131连轴套；132气管；14第一驱动设备；21研磨盘；22第二转轴；23打磨件；24第二驱动设备；25冷却喷头；31集液槽；32第一管路；321阀门；33储液罐；34提升装置；35第二管路；41伺服进进电机；42传动丝杆。

具体实施方式

为了能够更清楚地理解本实用新型的上述目的、特征和优点，下面结合附图和具体实施方式对本实用新型进行进一步的详细描述。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型，但是，本实用新型还可以采用其他不同于在此描述的其他方式来实施，因此，本实用新型的保护范围并不受下面公开的具体实施例的限制。

下面参照图1至图6描述本实用新型一些实施例中的研磨机。

本申请提供了一种研磨机，包括：吸附盘11、第一转轴12、真空泵13、研磨盘21和第二转轴22。

实施例一

如图1所示，本实施例所提供的研磨机包括吸附盘11、第一转轴12、真空泵13、研磨盘21和第二转轴22。其中，吸附盘11上设有吸附孔112，吸附孔112用于将待磨件吸附在吸附盘11上。第一转轴12为空心轴，第一转轴12的一端与吸附盘11相连并与吸附孔112相连通，第一转轴12与吸附盘11同轴设置。真空泵13包括连轴套131，连轴套131套设于第一转轴12的另一端，以使第一转轴12与连轴套131转动连接，且真空泵13通过第一转轴12与吸附孔112相连通。研磨盘21设置在吸附盘11的上方，研磨盘21上设有打磨件23，打磨件23用于对待磨件进行打磨抛光作业。第二转轴22与研磨盘21相连，并且第一转轴12的轴线与第二转轴22的轴线间隔设置。

具体而言，本实用新型所提供的研磨机采用了真空吸附的方式，使的待磨件可以吸附在吸附盘11的表面，同时吸附盘11的表面上设置有多个吸附孔112，通过多个吸附将待磨件固定在吸附盘11的表面上，可以对大幅面的待磨件具有更好的固定作用，且使得待磨件的受力更加均匀，以使待磨件与吸附盘11表面的贴合更加紧密，对于厚度比较小的待磨件，可以相应减少在打磨抛光过程中待磨件损伤或是损坏的可能性。

第一转轴12与吸附盘11相连，第二转轴22与研磨盘21相连，吸附盘11与研磨盘21相对设置，通过第一转轴12带动吸附盘11旋转，第二转轴22带动研磨盘21旋转，使得研磨盘21上的打磨件23对吸附盘11上的待磨件进行打磨抛光处理。

本申请所提供的研磨机将第一转轴12的轴线与第二转轴22的轴线间隔设置，即第一转轴12与第二转轴22不是同轴设置。可以理解的是，以吸附盘11为例，旋转半径越大的部位旋转的线速度也越大，打磨抛光的效果也越好，这样在吸附盘11旋转的过程中，设置在吸附盘11上的待磨件，远离吸附盘11的旋转轴线的线速度大，打磨抛光的效果好，靠近吸附盘11的旋转轴线的线速度小，打磨抛光的效果差。同样道理，研磨盘21的旋转半径越大的部位旋转的线速度也越大，打磨抛光的效果也越好。通过将第一转轴12的轴线与第二转轴22的轴线间隔设置，可以利用研磨盘21的旋转半径越大的部位对待磨件上靠近吸附盘11的旋转轴线的部分多进行打磨，以提高对待磨件整体打磨抛光效果。

综上，本申请所提供的研磨机通过真空泵与吸附盘上的吸附孔相连，将设置在吸附盘上的待磨件吸附在吸附盘的表面上，第一转轴的轴线与第二转轴的轴线间隔设置，可以对待磨件朝向研磨盘的端面进行全面、均匀的打磨抛光处理适于对大幅面且厚度较小的待磨件进行打磨抛光处理，尤其适于制作大幅面标本切片，比如大幅面岩心标本切片。可以较大程度上保存岩心上的完整性，并具有较好的打磨抛光效果，进而使得较大程度上保存岩心切片上的构造细节的完整性，便于对大幅面岩心标本切片进行360°全方位观察，非常适于观察展示和展览。

实施例二

在上述实施例的基础上，如图2和图3所示，吸附盘11包括吸附端面111，吸附端面111呈圆形，吸附孔112的数量为多个，多个吸附孔112设在吸附端面111上；其中，多个吸附孔112呈矩形阵列分布。

吸附盘11包括吸附端面111，其中吸附端面111可拆卸，可以通过更换不同的吸附端面111适用于不同的待磨件。其中吸附端面111的类型包括但是不限于尺寸上的区别，吸附孔112分布上的区别等。

其中，矩形阵列可以是一个，也可以是多个。多个矩形阵列之间可以以不同的角度相互组合，以布满吸附端面111。其中，矩形阵列中两两相邻的四个吸附孔112围设出的形状呈矩形。

进一步地，相邻的两个吸附孔112之间的距离r在10毫米至20毫米之间。

为了能够适配大幅面岩心标本切片，通常大幅面岩心标本切片呈矩形，厚度控制在0.1毫米至5毫米的范围内，矩形的长边边长在200毫米至300毫米的范围内，短边边长在50毫米至200毫米的范围内。将两个吸附孔112之间的距离在10毫米至20毫米之间，则可以保证在短边的方向上至少有两个或三个吸附孔112，这样可以有效地固定大幅面岩心标本切片。且由于大幅面岩心标本切片的厚度较小，同样需要吸附孔112的分布比较致密，以避免在打磨抛光过程中，大幅面岩心标本切片的部分起伏，而导致打磨抛光效果不好或是发生损伤。

其中，沿X轴方向相邻的两个吸附孔112之间的距离与沿Y轴方向相邻的两个吸附孔112之间的距离相等，使得对大幅面岩心标本切片的吸附力更加均匀，以起到较好的稳固效果。

进一步地，研磨盘21在吸附盘11上的投影位于多个吸附孔112所围设出的范围内。

通过使研磨盘21在吸附盘11上的投影位于多个吸附孔112所围设出的范围内，通过合理设置大幅面岩心标本切片的摆放位置，则可以使研磨盘21上的打磨件23能够更加全面。其中，可以理解的是，研磨盘21的直径大于等于大幅面岩心标本切片的长边边长的一半，即研磨盘21的直径大于等于100毫米，则在打磨抛光处理过程中，通过第一转轴12和第二转轴22的旋转，可以使大幅面岩心标本切片处于研磨盘21的旋转半径的投影范围内，从而使研磨盘21能够对大幅面岩心标本切片的各个位置进行研磨。且根据研磨盘21的半径与吸附端面111的半径的比值关系，可以将打磨片的直径设在100毫米至200毫米的范围内。

实施例三

在上述实施例的基础上，如图1至图4所示，研磨盘21呈圆形，研磨盘21的半径小于吸附端面111的半径。

圆形的研磨盘21易于制作，且将选用砂轮作为打磨件23，圆形的砂轮与圆形的研磨盘21更加适配。另外由于第一转轴12的轴线与第二转轴22的轴线间隔设置，在吸附盘11和研磨盘21的旋转过程中，研磨盘21不需要超出吸附盘11的旋转范围，这样可以根据第二转轴22相对于第一转轴12的位置合理设置研磨盘21的半径大小，通过减少研磨盘21的半径，则可以起到节约设备成本的效果，同时也可以使用小型的砂轮安装在研磨盘21上，则起到了节约使用成本的效果。

在一些实施例中，打磨件23为砂轮，研磨盘21上设置有安装孔，砂轮通过紧固件与安装孔相连。

砂轮使用方便，可以通过螺栓安装在研磨盘21上，更换也较为简单。其中，砂轮的直径可以与研磨盘21的直径相等或近似。

进一步地，研磨盘21的半径与吸附端面111的半径的比值在2：3至1：3之间；和/或第二转轴22与吸附端面111的中心轴线之间的间距在吸附端面111的半径长度的1/3至2/3范围内。

通过合理设置研磨盘21与吸附端面111的大小关系，以及第二转轴22距离吸附端面111的中心轴线的距离，可以使得研磨盘21与吸附端面111相互配合，起到更加全面、均匀的研磨抛光效果。

进一步地，如图4所示，第二转轴22与第一转轴12之间沿水平方向上的间隔距离D为吸附端面111的半径长度的一半，且研磨盘21的直径长度等于吸附盘11的半径长度，即R2＝R1/2。其中，R1为吸附端面111的直径长度，R2为研磨盘21的直径长度。

通过将第二转轴22与第一转轴12之间沿水平方向上的间隔距离设置为吸附端面111的半径长度的一半，且研磨盘21的直径长度设置为等于吸附盘11的半径长度，则可以在进行较为全面、均匀的研磨抛光效果基础上，较大程度的节约成本。

实施例四

在上述实施例的基础上，如图1所示，第一转轴12连接有第一驱动设备14，第二转轴22连接有第二驱动设备24；第一驱动设备14包括驱动电机；第二驱动设备24包括变频电机和正反转控制装置，变频电机与正反转控制装置相连。

第一转轴12用于带动吸附盘11转动，第二转轴22用于带动研磨盘21转动。其中，通过将与第二转轴22相连接的第二驱动设备24设置为变频电机和正反转控制装置，使得研磨盘21的旋转速度可调，旋转方向可调。通过不同的旋转速度，可以实现对待磨件的粗磨、中磨、细磨或精磨等要求，使待磨件的被研磨面具有不同的研磨效果。比如转速较慢，较适宜进行粗磨处理；转速较快，则较适宜进行精磨处理。

通过不同的旋转方向，使得第一转轴12既可以与第二转轴22同样顺时针转动或逆时针，也可以一个顺时针转动另一个逆时针转动，以达到不同的研磨要求。比如第一转轴12与第二转轴22沿同向转动，研磨盘21与吸附盘11相对转动的速度较慢，较适宜进行研磨处理等。比如第一转轴12与第二转轴22沿相反方向转动，研磨盘21与吸附盘11相对转动的速度较快，较适宜进行抛光处理。

实施例五

在上述实施例的基础上，如图1和图5所示，研磨机还包括：冷却喷头25，用于在研磨盘21旋转的过程中向研磨盘21与吸附盘11之间喷射冷却液。

在打磨抛光的过程中，待磨件会产生粉尘，造成环境污染，通过对在研磨盘21旋转的过程中向研磨盘21的打磨抛光位置喷射冷却液，在起到冷却作用的同时，还可以起到防尘作用。其中，冷却液也可以水或其它具有冷却效果的液体等。

进一步地，如图5所示，研磨机还包括：冷却液回收装置，冷却液回收装置的一端与冷却喷头25相连，吸附盘11包括下端面113，下端面113沿第一转轴12向远离第一转轴12的方向向下倾斜延伸，下端面113远离第一转轴12的一侧设有集液槽31，集液槽31用于收集经吸附孔112流入吸附盘11内的冷却液，冷却液回收装置的另一端与集液槽31相连。

具体地，冷却液经冷却喷头25喷出后，经吸附孔112流入吸附盘11内，在重力作用下，经倾斜设置的下端面113被收集到集液槽31内，通过第一管路32进入储液罐33中，再经过提升装置34通过第二管路35被提升至冷却喷头25，完成冷却液的循环利用。其中，在第一管路32上可以设置阀门321，控制是否进行冷却液，阀门321可以是电磁阀等，提升装置34可以是提升泵等。

通过设置回收装置回收冷却液，可以减少污染，且将吸附盘11的下端面113设置为倾斜角度，便于冷却液的收集，减少冷却液流入真空装置，比如真空泵13的可能性，从而降低真空泵13发生故障的可能性，提高研磨机的使用可靠性。通过设置集液槽31，则可以将冷却液集中在集液槽31内，更加方便冷却液的收集。同时通过将收集后的冷却液再次输送给冷却喷头25，使冷却液循环利用，还可以进一步节约成本。

下面以一个具体实施例说明本申请所提供的研磨机的具体结构。

如图6所示，研磨机包括相对设置的吸附盘11和研磨盘21，研磨盘21设在吸附盘11的上方，研磨盘21与第二驱动设备24相连，第二驱动设备24可活动地连接在传动丝杆42上，并适于沿传动丝杆42的延伸方向上下往复运动，伺服电机41和传动丝杆42相互配合作为升降机构用于精确控制吸附盘11的升降行程。第一驱动设备14为驱动电机与吸附盘11相连，用于带动吸附盘11旋转，吸附盘11连接有旋转气阀114，旋转气阀114通过气管132和真空泵13相连，使吸附盘11通过旋转气阀114、气管132与真空泵13连通，从而在真空泵13启动后将待磨件吸附在吸附盘11上，旋转气阀114不影响吸附盘11的旋转。

在一些实施例中，吸附盘11与第一驱动设备14不是同轴转动，吸附盘11连接有第一转轴12，第一转轴12与第一驱动设备14的输出轴间通过皮带115传动。

综上所述，本申请所提供的研磨机适于对大幅面且厚度较小的待磨件进行打磨抛光处理，尤其适于制作大幅面岩心标本切片，可以较大程度上保存岩心上的完整性，并具有较好的打磨抛光效果，进而使得较大程度上保存岩心切片上的构造细节的完整性，便于对大幅面岩心标本切片进行360°全方位观察，非常适于观察展示和展览。

在本实用新型中，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述的目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性；术语“多个”则指两个或两个以上，除非另有明确的限定。术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语均应做广义理解，例如，“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；“相连”可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或单元必须具有特定的方向、以特定的方位构造和操作，因此，不能理解为对本实用新型的限制。

在本说明书的描述中，术语“一个实施例”、“一些实施例”、“具体实施例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或实例。而且，描述的具体特征、结构、材料或特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种研磨机，其特征在于，包括：

吸附盘，所述吸附盘上设有吸附孔，所述吸附孔用于将待磨件吸附在所述吸附盘上；

第一转轴，所述第一转轴为空心轴，所述第一转轴的一端与所述吸附盘相连并与所述吸附孔相连通，所述第一转轴与所述吸附盘同轴设置；

真空泵，所述真空泵包括连轴套，所述连轴套套设于所述第一转轴的另一端，以使所述第一转轴与所述连轴套转动连接，且所述真空泵通过所述第一转轴与所述吸附孔相连通；

研磨盘，设置在所述吸附盘的上方，所述研磨盘上设有打磨件，所述打磨件用于对所述待磨件进行打磨抛光作业；

第二转轴，与所述研磨盘相连；

其中，所述第一转轴的轴线与所述第二转轴的轴线间隔设置。

2.根据权利要求1所述的研磨机，其特征在于，

所述吸附盘包括吸附端面，所述吸附端面呈圆形，所述吸附孔的数量为多个，多个所述吸附孔设在所述吸附端面上；

其中，多个所述吸附孔呈矩形阵列分布。

3.根据权利要求2所述的研磨机，其特征在于，

所述研磨盘呈圆形，所述研磨盘的半径小于所述吸附端面的半径。

4.根据权利要求3所述的研磨机，其特征在于，

所述研磨盘的半径与所述吸附端面的半径的比值在2：3至1：3之间；和/或

所述第二转轴与所述吸附端面的中心轴线之间的间距在所述吸附端面的半径长度的1/3至2/3范围内。

5.根据权利要求4所述的研磨机，其特征在于，

所述第二转轴与所述第一转轴之间沿水平方向上的间隔距离为所述吸附端面的半径长度的一半，且所述研磨盘的直径长度等于所述吸附盘的半径长度。

6.根据权利要求2所述的研磨机，其特征在于，

相邻的两个所述吸附孔之间的距离在10毫米至20毫米之间；和/或

所述研磨盘在所述吸附盘上的投影位于多个所述吸附孔所围设出的范围内。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的研磨机，其特征在于，

所述第一转轴连接有第一驱动设备，所述第二转轴连接有第二驱动设备；

所述第一驱动设备包括驱动电机；和/或所述第二驱动设备包括变频电机和正反转控制装置，所述变频电机与所述正反转控制装置相连。

8.根据权利要求1至6中任一项所述的研磨机，其特征在于，

所述打磨件为砂轮，所述研磨盘上设置有安装孔，所述砂轮通过紧固件与所述安装孔相连。

9.根据权利要求1至6中任一项所述的研磨机，其特征在于，还包括：

冷却喷头，用于在所述研磨盘旋转的过程中向所述研磨盘与所述吸附盘之间喷射冷却液。

10.根据权利要求9所述的研磨机，其特征在于，还包括：

冷却液回收装置，所述冷却液回收装置的一端与所述冷却喷头相连，

所述吸附盘包括下端面，所述下端面沿所述第一转轴向远离所述第一转轴的方向向下倾斜延伸，所述下端面远离所述第一转轴的一侧设有集液槽，所述集液槽用于收集经所述吸附孔流入所述吸附盘内的冷却液，所述冷却液回收装置的另一端与所述集液槽相连。

Images