CN212669831U - 一种用于电镀前处理设备的升降机构 - Google Patents

Abstract

本申请涉及一种用于电镀前处理设备的升降机构，其包括固定于行走装置上的垂直导向件，垂直导向件上升降滑移设置有用于固定挂架的滑移块，滑移块靠近环形导轨的一侧上设置有可挂接于环形导轨上的第一滚轮，滑移块远离环形轨道的一侧上设置有第二滚轮，第二滚轮下侧设置有用于持续往复向上顶起第二滚轮的顶起组件。本申请具有提高电镀前处理过程对工件的清洗效率的效果。

Description

一种用于电镀前处理设备的升降机构

技术领域

本申请涉及金属表面处理技术领域，尤其是涉及一种用于电镀前处理设备的升降机构。

背景技术

目前，在各种工件的加工生产中，镀前处理（表面与处理）是工件制造或维修过程中的重要工序，很大程度上影响着工件表面尺寸精度、几何精度、表面粗糙度检测、表面强化性能、力学性能检测，也是保证工件表面处理质量的关键环节。不同金属基体零件要用不同的镀前处理方法，电镀的前处理常用的方法有以下三种：机械法，采用机械设备，磨削，清除制品表面明显的缺陷，如毛刺、氧化皮、焊接残渣等。化学法，依靠化学作用除去油污或氧化物，如在碱性溶液或有机溶剂中除油，在酸性溶液中侵蚀等。电化学法，用电化学方法强化化学除油和侵蚀过程，有时也用于弱侵蚀。

在公告号为CN103469270A的中国专利中公开一种拉链头自动电镀设备，由镀前处理槽、镀中处理槽和镀后处理槽构成的镀槽首尾连接成封闭环，阳级发生器安装在垂直导轨上，垂直导轨与行走装置的链条相连接，阳级发生器上还设置有滚轮，滚轮搁置在水平的环形轨道上，环形轨道在升降装置的驱动下能上升和下降；在控制系统、行走装置和升降装置的作用下，阳级发生器在环形轨道上间歇式地行走，按照上升、行走、下降、停留的顺序循环进行。

现有相关技术中对金属表面的电镀前处理设备也采用类似于上述结构的技术方案进行金属表面的除油、浸渍等处理，并将阳极发生器部分结构改装成可挂设挂具的挂架，但是，单靠将挂具放置于清洗槽中进行清洗，其清洗效率较低，因此需要改进。

实用新型内容

为了提高电镀前处理过程对工件的清洗效率，本申请提供一种用于电镀前处理设备的升降机构。

本申请提供的一种用于电镀前处理设备的升降机构采用如下的技术方案：

一种用于电镀前处理设备的升降机构，其特征在于：包括固定于行走装置上的垂直导向件，所述垂直导向件上升降滑移设置有用于固定挂架的滑移块，所述滑移块靠近环形导轨的一侧上设置有可挂接于环形导轨上的第一滚轮，所述滑移块远离环形轨道的一侧上设置有第二滚轮，所述第二滚轮下侧设置有用于持续往复向上顶起第二滚轮的顶起组件。

通过采用上述技术方案，通过环形轨道与滑移块上的第一滚轮配合将带动挂架进行升降操作，当滑移块滑移至垂直导向件底部时，环形轨道与滑移块脱离作用关系，此时的滑移块上的第二滚轮将配合顶起组件带动滑移块进行轻微的上下滑移，此时进行往复滑移的滑移块将带动其上的挂架以及挂架上的挂具进行升降，使得挂具上的工件与清洗槽内的清洗液接触更加的充分，如此将可提高电镀前处理过程对工件的清洗效率。

优选的，所述顶起组件包括水平设置的横杆，所述横杆设置于第二滚轮下方，还包括电机以及设置于电机轴上的凸轮轴，所述凸轮轴位于横杆下方，当电机带动凸轮轴转动时，所述凸轮轴的凸起部重复将横杆顶起。

通过采用上述技术方案，通过电机带动凸轮转动，通过转动的凸轮轴的凸起部分将横杆间歇式顶起，通过横杆作用至滑移块的第二滚轮上，实现将滑移块进行往复顶起的效果。

优选的，所述横杆上纵向设置有若干件导向板，各所述导向板上开设有纵向设置的限位滑槽，所述限位滑槽内滑移设置有限位柱，所述限位柱的其中一侧设置有用于固定限位柱的固定座。

通过采用上述技术方案，利用导向板及其上的滑移槽配合限位柱来对横杆的往复升降操作进行滑移导向的作用，固定座用于固定限位柱的位置。

优选的，所述限位柱上设置有位于导向板两侧的限位环。

通过采用上述技术方案，限位环的设置将进一步的对导向板进行限位固定。

优选的，所述垂直导向件包括平行设置的两件导轨以及固定于两件导轨两端上的安装块，两所述安装块均与行走装置固定，两所述导轨的相向设置侧均开设有纵向设置的滑移槽，所述滑移块滑移设置于两滑移槽之间。

通过采用上述技术方案，通过设置两件导轨与安装块固定形成供滑移块滑移的垂直导向件，滑移块滑移设置于两件导轨之间，双导轨结构更加稳定。

优选的，所述滑移块靠近滑移槽的两侧上均设置有若干件沿导轨方向排布的第三滚轮，所述第三滚轮的轴线垂直于滑移槽的两侧壁设置。

通过采用上述技术方案，通过在滑移块上设置有第三滚轮将可减少滑移块与导轨之间的摩擦力，使得滑移块的升降滑移更加的流畅。

优选的，所述滑移块靠近滑移槽的两侧上均设置有若干件沿导轨方向排布的第四滚轮，所述第四滚轮的轴线垂直于滑移槽的槽底设置。

通过采用上述技术方案，升降设置的滑移块存在沿滑移槽两侧移动的情况，因此第四滚轮的设置将可进一步的减少滑移块与滑移槽的槽内两侧的摩擦力。

优选的，所述滑移块上靠近滑移槽的两侧上均开设有若干道安装槽，各所述第三滚轮以及第四滚轮均转动设置有固定块，各所述固定块均嵌设固定于相对应的安装槽中。

通过采用上述技术方案，通过固定块对第三滚轮以及第四滚轮进行安装固定，再将各固定块安装固定至滑移块的滑移槽内，如此设置将便于各第三滚轮以及第四滚轮与滑移块的安装固定。

优选的，所述滑移块上设置有纵向贯穿滑移块的通孔，所述通孔同时贯穿固定于安装槽内的各固定块，所述通孔内穿设有锁紧螺栓并配合锁紧螺母将各固定块固定至滑移块上。

通过采用上述技术方案，通过设置锁紧螺栓贯穿通孔并配合锁紧螺母进行锁紧固定，如此将各固定块固定至滑移块上。

综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：

通过设置滑移块滑移设置于垂直导向件上，在滑移块上设置有第一滚轮以及第二滚轮，并设置有用于带动滑移块进行往复升降的顶起组件，如此设置将可提高电镀前处理过程对工件的清洗效率；

通过在横杆上设置导向板、滑移槽、限位柱、限位环以及固定座配合实现对横杆升降的导向作用。

附图说明

图1是本申请实施例的升降机构安装结构示意图；

图2是本申请实施例的顶起组件的结构示意图；

图3是本申请实施例的垂直导向件的爆炸示意图。

附图标记：1、垂直导向件；101、导轨；1011、滑移槽；102、安装块；2、滑移块；3、第一滚轮；4、第二滚轮；5、顶起组件；51、横杆；52、电机；53、凸轮轴；6、导向板；7、限位滑槽；8、限位柱；9、固定座；10、限位环；11、行走装置；12、第三滚轮；13、第四滚轮；14、安装槽；15、固定块；16、通孔；17、锁紧螺栓；18、锁紧螺母。

具体实施方式

以下结合附图1-3对本申请作进一步详细说明。

本申请实施例公开一种用于电镀前处理设备的升降机构。参照图1所示，升降机构包括固定于行走装置11上的垂直导向件1，垂直导向件1上升降滑移设置有用于固定挂架（图中未示出）的滑移块2，滑移块2靠近环形导轨的一侧上设置有可挂接于环形导轨上的第一滚轮3，滑移块2远离环形轨道（图中未示出）的一侧上设置有第二滚轮4，第二滚轮4下侧设置有用于持续往复向上顶起第二滚轮4的顶起组件5。

其中，参见图1、图2所示，顶起组件5包括水平设置于第二滚轮4下侧的横杆51，还包括电机52以及设置于电机52轴上的凸轮轴53，凸轮轴53位于横杆51下方，当电机52带动凸轮轴53转动时，凸轮轴53的凸起部重复将横杆51顶起，进而实现往复将滑移块2顶起的效果。

进一步的，在横杆51的其中一侧上纵向设置有若干件导向板6，各导向板6上均开设有纵向设置的限位滑槽7，各限位滑槽7内均滑移设置有水平设置的限位柱8，各限位柱8的其中一侧设置有用于固定限位柱8的固定座9，在限位柱8上设置有位于导向板6两侧的限位环10，如此设置将可对横杆51的升降操作进行导向引导。

参见图1、图3所示，各垂直导向件1均包括平行设置的两件导轨101以及固定于两件导轨101两端上的安装块102，两端上的安装块102均分别与行走装置11固定，两导轨101的相向设置侧均开设有纵向设置的滑移槽1011，滑移块2滑移设置于两滑移槽1011之间。

为减少滑移块2与导轨101的滑移摩擦力，将在滑移块2靠近滑移槽1011的两侧上均设置有若干件沿导轨101方向排布的第三滚轮12，各第三滚轮12的轴线均垂直于滑移槽1011的两侧壁设置；各滑移块2靠近滑移槽1011的两侧上均设置有若干件沿导轨101方向排布的第四滚轮13，第四滚轮13的轴线垂直于滑移槽1011的槽底设置；如此，将通过滑移块2上的第三滚轮12以及第四滚轮13进一步减少滑移块2与导轨101间的摩擦力。

进一步的，为便于各第三滚轮12以及第四滚轮13与滑移块2安装固定，在各滑移块2上靠近滑移槽1011的两侧上均开设有若干道安装槽14，各第三滚轮12以及第四滚轮13均转动设置有固定块15，各固定块15均嵌设固定于相对应的安装槽14中，在各滑移块2上设置有纵向贯穿滑移块2的通孔16，通孔16同时贯穿固定于安装槽14内的各固定块15，通孔16内穿设有锁紧螺栓17并配合锁紧螺母18将各固定块15固定至滑移块2上。

本申请实施例公开一种用于电镀前处理设备的升降机构的实施原理为：开启电机52，凸轮轴53持续将横杆51间歇式顶起，行走装置11将带动垂直导向件1进行水平移动，环形导轨将带动滑移块2进行升降操作，如此将完成带动挂架及其上挂设有工件的挂具进行升降，并利用顶起组件5的往复顶起作用实现将其重复顶起的目的。

以上均为本申请的较佳实施例，并非依此限制本申请的保护范围，故：凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本申请的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种用于电镀前处理设备的升降机构，其特征在于：包括固定于行走装置（11）上的垂直导向件（1），所述垂直导向件（1）上升降滑移设置有用于固定挂架的滑移块（2），所述滑移块（2）靠近环形导轨的一侧上设置有可挂接于环形导轨上的第一滚轮（3），所述滑移块（2）远离环形轨道的一侧上设置有第二滚轮（4），所述第二滚轮（4）下侧设置有用于持续往复向上顶起第二滚轮（4）的顶起组件（5）。

2.根据权利要求1所述的用于电镀前处理设备的升降机构，其特征在于：所述顶起组件（5）包括水平设置的横杆（51），所述横杆（51）设置于第二滚轮（4）下方，还包括电机（52）以及设置于电机（52）轴上的凸轮轴（53），所述凸轮轴（53）位于横杆（51）下方，当电机（52）带动凸轮轴（53）转动时，所述凸轮轴（53）的凸起部重复将横杆（51）顶起。

3.根据权利要求2所述的用于电镀前处理设备的升降机构，其特征在于：所述横杆（51）上纵向设置有若干件导向板（6），各所述导向板（6）上开设有纵向设置的限位滑槽（7），所述限位滑槽（7）内滑移设置有限位柱（8），所述限位柱（8）的其中一侧设置有用于固定限位柱（8）的固定座（9）。

4.根据权利要求3所述的用于电镀前处理设备的升降机构，其特征在于：所述限位柱（8）上设置有位于导向板（6）两侧的限位环（10）。

5.根据权利要求1所述的用于电镀前处理设备的升降机构，其特征在于：所述垂直导向件（1）包括平行设置的两件导轨（101）以及固定于两件导轨（101）两端上的安装块（102），两所述安装块（102）均与行走装置（11）固定，两所述导轨（101）的相向设置侧均开设有纵向设置的滑移槽（1011），所述滑移块（2）滑移设置于两滑移槽（1011）之间。

6.根据权利要求5所述的用于电镀前处理设备的升降机构，其特征在于：所述滑移块（2）靠近滑移槽（1011）的两侧上均设置有若干件沿导轨（101）方向排布的第三滚轮（12），所述第三滚轮（12）的轴线垂直于滑移槽（1011）的两侧壁设置。

7.根据权利要求6所述的用于电镀前处理设备的升降机构，其特征在于：所述滑移块（2）靠近滑移槽（1011）的两侧上均设置有若干件沿导轨（101）方向排布的第四滚轮（13），所述第四滚轮（13）的轴线垂直于滑移槽（1011）的槽底设置。

8.根据权利要求7所述的用于电镀前处理设备的升降机构，其特征在于：所述滑移块（2）上靠近滑移槽（1011）的两侧上均开设有若干道安装槽（14），各所述第三滚轮（12）以及第四滚轮（13）均转动设置有固定块（15），各所述固定块（15）均嵌设固定于相对应的安装槽（14）中。

9.根据权利要求8所述的用于电镀前处理设备的升降机构，其特征在于：所述滑移块（2）上设置有纵向贯穿滑移块（2）的通孔（16），所述通孔（16）同时贯穿固定于安装槽（14）内的各固定块（15），所述通孔（16）内穿设有锁紧螺栓（17）并配合锁紧螺母（18）将各固定块（15）固定至滑移块（2）上。

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