CN212460313U - 涂胶显影设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种涂胶显影设备，包括载体块；接口块；第一工艺模块，设置于所述载体块和所述接口块之间，且包括第一液体处理模块以及设置于所述第一液体处理模块相对两侧的第一热处理模块和第二热处理模块；其中，所述第一热处理模块包括四层层叠设置的第一热处理单元，所述第一液体处理模块包括四层层叠设置的第一液体处理单元，所述第二热处理模块包括四层层叠设置的第二热处理单元，且每一个单元均具有一个相适配的机械手。所述涂胶显影设备中，大幅度减少了单个机械手的搬运行程，增加了相同时间内搬运晶圆的数量，提高了效率。

Description

涂胶显影设备

技术领域

本实用新型涉及涂胶显影技术领域，尤其涉及一种涂胶显影设备。

背景技术

现有技术中，涂胶显影设备内的机械手行程较远，花费的时间长，从而降低了工作效率。

授权号为CN100565343C的中国实用新型专利公开了一种涂敷、显影装置及其方法，

通过层叠二设置抗腐蚀剂膜形成用单位块、和反射防止膜形成用单位块，在抗腐蚀剂膜上下形成反射防止膜时，实现空间节省化。再者，不管是不是在形成反射防止膜的情况下，都可以应对，可以实现这时软件的简易化。在处理块（S2）上，相互层叠而设置作为涂敷膜形成用单位块的TCT层（B3）、COT层（B4）、BCT层（B5）和作为显影处理用的单位块的DEV层（B1、B2）。不管是不是在形成反射防止膜的情况下，通过在TCT层（B3）、COT层（B4）、BCT层（B5）内选择使用的单位块都可以应对，可以抑制这时的运送程序的复杂化，并实现软件的简易化。但其机械手的行程较远，同一机械手在一定时间内搬运的晶圆数量少，导致效率较低。

公开号为CN103199032A的中国实用新型专利公开了一种集束式结构的涂胶显影设备，用以在半导体晶片上获得均布光刻胶及光刻胶图形的涂胶显影设备的结构。本实用新型包括片盒站、工艺站和接口站，片盒站与工艺站通过卸/载料机器人传送晶片，工艺站与接口站通过接口机器人传送晶片，工艺站包括涂光刻胶站和显影站，所述涂光刻胶站和显影站与片盒站和接口站呈一字排列，站内的工艺处理模块呈集束型分布，集束原点分别是用于站内传片的工艺机器人CR和工艺机器人DR。本实用新型实现整机设备占地面积减小，工艺站内工艺模块技术拓展性强，便于标准化模块装载及拆卸，使得不同功能的模块搭配组合简单，不同的生产工艺均可在此设备上实施。但其一个机械手的行程较远，同一机械手在一定时间内搬运的晶圆数量少，导致效率较低。

因此，有必要提供一种新型的涂胶显影设备以解决现有技术中存在的上述问题。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种涂胶显影设备，减少机械手行程，提高效率。

为实现上述目的，本实用新型的所述涂胶显影设备，包括：

载体块；

接口块；

第一工艺模块，设置于所述载体块和所述接口块之间，且包括第一液体处理模块以及设置于所述第一液体处理模块相对两侧的第一热处理模块和第二热处理模块；

其中，所述第一热处理模块包括四层层叠设置的第一热处理单元，所述第一液体处理模块包括四层层叠设置的第一液体处理单元，所述第二热处理模块包括四层层叠设置的第二热处理单元，且每一个单元均具有一个相适配的机械手。

本实用新型的有益效果在于：第一工艺模块包括第一液体处理模块以及设置于所述第一液体处理模块相对两侧的第一热处理模块和第二热处理模块，所述第一热处理模块包括四层层叠设置的第一热处理单元，所述第一液体处理模块包括四层层叠设置的第一液体处理单元，所述第二热处理模块包括四层层叠设置的第二热处理单元，且每一个单元均具有一个相适配的机械手，大幅度减少了单个机械手的搬运行程，增加了相同时间内搬运晶圆的数量，提高了效率。

优选地，第一层第一热处理单元包括层叠设置的第一低温加热单元组和第一增粘单元组，所述第一低温加热单元组包括并列设置的第一列低温加热单元和第二列低温加热单元，且所述第一列低温加热单元和所述第二列低温加热单元中低温加热单元均层叠设置，所述第一增粘单元组包括并列设置的第一列增粘单元和第二列增粘单元，且所述第一列增粘单元和所述第二列增粘单元中增粘单元均层叠设置。其有益效果在于：便于进行低温加热处理以及增粘处理，减少机械手的运动行程。

进一步优选地，第二层第一热处理单元包括第二低温加热单元组，所述第二低温加热单元组包括并列设置的第三列低温加热单元和第四列低温加热单元，且所述第三列低温加热单元和所述第四列低温加热单元中低温加热单元均层叠设置。其有益效果在于：便于进行第二加热处理减少机械手的运动行程。

进一步优选地，第三层第一热处理单元包括第三低温加热单元组、晶圆缺陷检测单元组和第二增粘单元组，所述第二增粘单元组与所述第二低温加热单元组层叠设置，所述第三低温加热单元组包括一列层叠设置的低温加热单元，所述晶圆缺陷检测单元组包括一列层叠设置的晶圆缺陷检测单元，所述第二增粘单元组包括并列设置的第三列增粘单元和第四列增粘单元，且所述第三列增粘单元与所述晶圆缺陷检测单元组层叠设置，所述第四列增粘单元与所述第三低温加热单元组层叠设置，所述晶圆缺陷检测单元组与所述第三低温加热单元组并列设置。其有益效果在于：便于进行第二加热处理、晶圆缺陷检测以及增粘处理，减少机械手的运动行程。

进一步优选地，第四层第一热处理单元包括并列设置的第四低温加热单元组和第一冷却单元组，所述第四低温加热单元组包括一列层叠设置的低温加热单元，所述第一冷却单元组包括一列层叠设置的冷却单元。其有益效果在于：便于进行第二加热处理和冷却处理，减少机械手的运动行程。

优选地，第一层第一液体处理单元包括层叠设置的第一保护膜涂布单元组、第二冷却单元组和第二保护膜涂布单元组，所述第一保护膜涂布单元组包括并列设置的第一保护膜涂布单元和第二保护膜涂布单元，第二保护膜涂布单元组包括并列设置的第三保护膜涂布单元和第四保护膜涂布单元，所述第二冷却单元组包括一些层叠设置的第二冷却单元，且所述第二冷却单元组设置于所述第一保护膜涂布单元和所述第三保护膜涂布单元之间。其有益效果在于：便于进行两次保护膜涂布处理和冷却处理，减少机械手的运动行程。

进一步优选地，第二层第一液体处理单元包括层叠设置的第一涂胶单元组、第三冷却单元组和第二涂胶单元组，所述第一涂胶单元组包括并列设置的第一涂胶单元和第二涂胶单元，所述第二涂胶单元组包括并列设置的第三涂胶单元和第四涂胶单元，所述第三冷却单元组包括一列层叠设置的冷却单元，且所述第三冷却单元组设置于所述第二涂胶单元和所述第四涂胶单元之间，所述第一涂胶单元与所述第三保护膜涂布单元层叠设置，所述第二涂胶单元与所述第四保护膜涂布单元层叠设置。其有益效果在于：便于进行两次涂胶处理以及冷却处理，减少机械手的运动行程。

进一步优选地，第三层第一液体处理单元包括层叠设置的第一底层胶单元组、第四冷却单元组和第二底层胶单元组，所述第一底层胶单元组包括并列设置的第一底层胶单元和第二底层胶单元，第二底层胶单元组包括并列设置的第三底层胶单元和第四底层胶单元，所述第四冷却单元组包括一列层叠设置的冷却单元，且所述第四冷却单元组设置于所述第一底层胶单元和所述第三底层胶单元之间，所述第一底层胶单元与所述第三涂胶单元层叠设置，所述第二底层胶单元与所述第四涂胶单元层叠设置。其有益效果在于：便于进行两次底层胶处理和冷却处理，减少机械手的运动行程。

进一步优选地，第四层第一液体处理单元包括第一显影单元组和第二显影单元组，所述第一显影单元组包括并列设置的第一列显影单元和第二列显影单元，所述第二显影单元组包括并列设置的第三列显影单元和第四列显影单元，且所述第一列显影单元、所述第二列显影单元、所述第三列显影单元和所述第四列显影单元中显影单元均层叠设置，所述第一列显影单元与所述第三底层胶单元层叠设置，所述第二列显影单元与所述第四底层胶单元层叠设置。其有益效果在于：便于进行两次显影处理，减少机械手的运动行程。

优选地，第一层第二热处理单元包括层叠设置的第五低温加热单元组、第一高温加热单元组和第五冷却单元组，所述第五低温加热单元组包括并列设置的第五列低温加热单元和第六列低温加热单元，所述第一高温加热单元组包括并列设置的第一列高温加热单元和第二列高温加热单元，所述第五冷却单元组包括一列层叠设置的冷却单元，且所述第五列低温加热单元和所述第六列低温加热单元中低温加热单元均层叠设置。其有益效果在于：便于进行低温加热处理、高温加热处理以及冷却处理，减少机械手的运动行程。

进一步优选地，第二层第二热处理单元包括第六低温加热单元组，所述第六低温加热单元组包括并列设置的第七列低温加热单元和第八列低温加热单元，且所述第七列低温加热单元和所述第八列低温加热单元中低温加热单元均层叠设置。其有益效果在于：便于进行第二加热处理，减少机械手的运动行程。

进一步优选地，第三层第二热处理单元包括层叠设置的第二高温加热单元组、边部曝光单元组和第一曝光后加热速冷单元组，所述第二高温加热单元组包括并列设置的第三列高温加热单元和第四列高温加热单元，所述边部曝光单元组包括并列设置的第一边部曝光单元和第二边部曝光单元，所述第一曝光后加热速冷单元组包括并列设置的第一曝光后加热速冷单元和第二曝光后加热速冷单元，且所述第三列高温加热单元和所述第四列高温加热单元中高温加热单元均层叠设置，所述第一曝光后加热速冷单元和所述第二曝光后加热速冷单元中曝光后加热速冷单元均层叠设置。其有益效果在于：便于进行高温加热处理、边部曝光处理以及曝光后加热速冷处理，减少机械手的运动行程。

进一步优选地，第四层第二热处理单元包括第三边部曝光单元和第二曝光后加热速冷单元组，所述第二曝光后加热速冷单元组包括并列设置的第三列曝光后加热速冷单元和第四列曝光后加热速冷单元，所述第三边部曝光单元与所述第三列曝光后加热速冷单元层叠设置，且所述第三列曝光后加热速冷单元和所述第四列曝光后加热速冷单元中曝光后加热速冷单元均层叠设置。其有益效果在于：便于进行边部曝光处理和曝光后加热速冷处理，减少机械手的运动行程。

优选地，所述第一工艺模块还包括清洗模块，所述第一热处理模块背向所述第一液体处理模块的一侧与所述载体块连接，所述第二热处理模块背向所述第一液体处理模块的一侧与所述清洗模块连接，所述清洗模块背向所述第二热处理模块的一侧与所述接口块连接。其有益效果在于：便于进行清洗处理，减少机械手的运动行程。

优选地，所述清洗模块包括曝光后清洗单元组、第六冷却单元组和背面清洗单元组，所述第六冷却单元组设置于所述曝光后清洗单元组和所述背面清洗单元组之间，所述曝光后清洗单元组包括一列层叠设置的曝光后清洗单元，所述第六冷却单元组包括一列层叠设置的冷却单元，所述背面清洗单元组包括一列层叠设置的背面清洗单元。其有益效果在于：便于进行曝光后清洗处理、冷却处理以及背面清洗处理，减少机械手的运动行程。

附图说明

图1为本实用新型涂胶显影设备的俯视结构示意图图；

图2为本实用新型第一工艺模块的剖面结构示意图；

图3为本实用新型第一热处理模块的剖面结构示意图；

图4为本实用新型第一液体处理模块的剖面结构示意图；

图5为本实用新型第二热处理模块的剖面结构示意图；

图6为本实用新型清洗模块的剖面结构示意图；

图7为本实用新型搬运机械手的结构示意图。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。除非另外定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本实用新型所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本文中使用的“包括”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。

针对现有技术存在的问题，本实用新型的实施例提供了一种涂胶显影设备，参照图1，所述涂胶显影设备包括：

载体块10；

接口块20；

第一工艺模块30，设置于所述载体块10和所述接口块20之间，且包括第一液体处理模块31以及设置于所述第一液体处理模块31相对两侧的第一热处理模块32和第二热处理模块33；

其中，所述第一热处理模块32包括四层层叠设置的第一热处理单元（图中未标示），所述第一液体处理模块31包括四层层叠设置的第一液体处理单元（图中未标示），所述第二热处理模块33包括四层层叠设置的第二热处理单元（图中未标示），且每一个单元均具有一个相适配的机械手（图中未标示）。

本实用新型的一些实施例中，所述涂胶显影设备还包括第二工艺模块，设置于所述载体块和所述接口块之间，且包括第二液体处理模块以及设置于所述第二液体处理模块相对两侧的第三热处理模块和第四热处理模块，所述第二液体处理模块与所述第一液体处理模块结构相同且相对设置，所述第三热处理模块与所述第一热处理模块结构相同且相对设置，所述第四热处理模块与所述第二热处理模块结构相同且相对设置。

本实用新型的一些实施例中，参照图3，第一层第一热处理单元包括层叠设置的第一低温加热单元组（图中未标示）和第一增粘单元组（图中未标示），所述第一低温加热单元组包括并列设置的第一列低温加热单元321和第二列低温加热单元322，且所述第一列低温加热单元321和所述第二列低温加热单元322中低温加热单元均层叠设置，所述第一增粘单元组包括并列设置的第一列增粘单元323和第二列增粘单元324，且所述第一列增粘单元323和所述第二列增粘单元324中增粘单元均层叠设置，所述第一列增粘单元323和所述第一列低温加热单元321层叠设置，所述第二列增粘单元324和所述第二列低温加热单元322层叠设置。具体地，所述第一列低温加热单元321和所述第二列低温加热单元322中所述低温加热单元的数量均为4，所述第一列增粘单元323和所述第二列增粘单元324中所述增粘单元的数量均为2。

本实用新型的一些实施例中，参照图3，第二层第一热处理单元包括第二低温加热单元组（图中未标示），所述第二低温加热单元组包括并列设置的第三列低温加热单元325和第四列低温加热单元326，且所述第三列低温加热单元325和所述第四列低温加热单元326中低温加热单元均层叠设置。具体地，所述第三列低温加热单元325和所述第四列低温加热单元326中低温加热单元的数量均为2。

本实用新型的一些实施例中，参照图3，第三层第一热处理单元包括第三低温加热单元组3210、晶圆缺陷检测单元组329和第二增粘单元组（图中未标示），所述第二增粘单元组与所述第二低温加热单元组层叠设置，所述第三低温加热单元组3210包括一列层叠设置的低温加热单元，所述晶圆缺陷检测单元组329包括一列层叠设置的晶圆缺陷检测单元，所述第二增粘单元组包括并列设置的第三列增粘单元327和第四列增粘单元328，且所述第三列增粘单元327与所述晶圆缺陷检测单元组329层叠设置，所述第四列增粘单元328与所述第三低温加热单元组3210层叠设置，所述晶圆缺陷检测单元组329与所述第三低温加热单元组3210并列设置。具体地，所述第三列低温加热单元325与所述第三列增粘单元层叠327设置，所述第四列低温加热单元326与所述第四列增粘单元328层叠设置，且所述第三列增粘单元327和所述第四列增粘单元328中所述增粘单元的数量均为2，所述晶圆缺陷检测单元组329中所述晶圆缺陷检测单元的数量为2，所述第三低温加热单元组3210中所述低温加热单元的数量为6。

本实用新型的一些实施例中，参照图3，第四层第一热处理单元包括并列设置的第四低温加热单元组3212和第一冷却单元组3211，所述第四低温加热单元组3212包括一列层叠设置的低温加热单元，所述第一冷却单元组3211包括一列层叠设置的冷却单元。具体地，所述第一冷却单元组3211中所述冷却单元的数量为4，所述第四低温加热单元组3212中所述低温加热单元的数量为6，且所述第四低温加热单元组3212中自上而下的第二个低温加热单元与所述第一冷却单元组中自上而下的第一个冷却单元并列设置，所述第四低温加热单元组3212中自下而上的第二个低温加热单元与所述第一冷却单元组3211中自下而上的第一个冷却单元并列设置。

本实用新型的一些实施例中，参照图4，第一层第一液体处理单元包括层叠设置的第一保护膜涂布单元组（图中未标示）、第二冷却单元组315和第二保护膜涂布单元组（图中未标示），所述第一保护膜涂布单元组包括并列设置的第一保护膜涂布单元311和第二保护膜涂布单元312，第二保护膜涂布单元组包括并列设置的第三保护膜涂布单元313和第四保护膜涂布单元314，所述第二冷却单元组315包括一列层叠设置的第二冷却单元，且所述第二冷却单元组315设置于所述第一保护膜涂布单元311和所述第三保护膜涂布单元313之间。具体地，所述第二冷却单元组315中所述冷却单元的数量为4。

更具体地，所述第一保护膜涂布单元与所述第二列低温加热单元中自下而上的第一个低温加热单元并列设置，所述第一保护膜涂布单元还与所述第二列低温加热单元中自下而上的第二个低温加热单元并列设置，所述第二冷却单元组中自上而下的第一个冷却单元与所述第二列增粘单元中自上而下的第一个增粘单元并列设置，所述第二冷却单元管组中自下而上的第一个冷却单元与所述第二列增粘单元中自下而上的第一个增粘单元并列设置。

本实用新型的一些实施例中，参照图4，第二层第一液体处理单元包括层叠设置的第一涂胶单元组（图中未标示）、第三冷却单元组3110和第二涂胶单元组（图中未标示），所述第一涂胶单元组包括并列设置的第一涂胶单元316和第二涂胶单元317，所述第二涂胶单元组包括并列设置的第三涂胶单元318和第四涂胶单元319，所述第三冷却单元组3110包括一列层叠设置的冷却单元，且所述第三冷却单元组3110设置于所述第二涂胶单元317和所述第四涂胶单元319之间，所述第一涂胶单元316与所述第三保护膜涂布单元313层叠设置，所述第二涂胶单元317与所述第四保护膜涂布单元314层叠设置。

具体地，所述第三冷却单元组中所述冷却单元的数量为4。

本实用新型的一些实施例中，参照图4，第三层第一液体处理单元包括层叠设置的第一底层胶单元组（图中未标示）、第四冷却单元组3115和第二底层胶单元组（图中未标示），所述第一底层胶单元组包括并列设置的第一底层胶单元3111和第二底层胶单元3112，第二底层胶单元组包括并列设置的第三底层胶单元3113和第四底层胶单元3114，所述第四冷却单元组3115包括一列层叠设置的冷却单元，且所述第四冷却单元组设置于所述第一底层胶单元3111和所述第三底层胶单元3112之间，所述第一底层胶单元3111与所述第三涂胶单元3113层叠设置，所述第二底层胶单元3112与所述第四涂胶单元3114层叠设置。

具体地，所述第四冷却单元组中所述冷却单元的数量为4，且所述第四冷却单元组中自上而下的第一个冷却单元与所述第四列低温加热单元的第一个低温加热单元并列设置，所述第四冷却单元组中自上而下的第二个冷却单元与所述第四列低温加热单元的第二个低温加热单元并列设置。

本实用新型的一些实施例中，参照图4，第四层第一液体处理单元包括第一显影单元组（图中未标示）和第二显影单元组（图中未标示），所述第一显影单元组包括并列设置的第一列显影单元3116和第二列显影单元3117，所述第二显影单元组包括并列设置的第三列显影单元3118和第四列显影单元3119，且所述第一列显影单元3116、所述第二列显影单元3117、所述第三列显影单元3118和所述第四列显影单元3119中显影单元均层叠设置，所述第一列显影单元3116与所述第三底层胶单元3118层叠设置，所述第二列显影单元3117与所述第四底层胶单元3119层叠设置。

具体地，所述第一列显影单元、所述第二列显影单元、所述第三列显影单元和所述第四列显影单元中所述显影单元的数量均为3，且所述第一列显影单元中自上而下的第一个显影单元与所述第三低温加热单元组中自上而下的第一个低温加热单元并列设置，所述第一列显影单元中自上而下的第一个显影单元还与所述第三低温加热单元组中自上而下的第二个低温加热单元并列设置，所述第一列显影单元中自下而上的第一个显影单元与所述第三低温加热单元组中自下而上的第一个低温加热单元并列设置，所述第一列显影单元中自下而上的第一个显影单元还与所述第三低温加热单元组中自下而上的第二个低温加热单元并列设置，所述第三列显影单元中自上而下的第一个显影单元与所述第四低温加热单元组中自上而下的第一个低温加热单元并列设置，所述第三列显影单元中自上而下的第一个显影单元还与所述第四低温加热单元组中自上而下的第二个低温加热单元并列设置，所述第三列显影单元中自下而上的第一个显影单元与所述第四低温加热单元组中自下而上的第一个低温加热单元并列设置，所述第三列显影单元中自下而上的第一个显影单元还与所述第四低温加热单元组中自下而上的第二个低温加热单元并列设置。

本实用新型的一些实施例中，参照图5，第一层第二热处理单元包括层叠设置的第五低温加热单元组（图中未标示）、第一高温加热单元组（图中未标示）和第五冷却单元组335，所述第五低温加热单元组包括并列设置的第五列低温加热单元331和第六列低温加热单元332，所述第一高温加热单元组包括并列设置的第一列高温加热单元333和第二列高温加热单元334，所述第五冷却单元组335包括一列层叠设置的冷却单元，且所述第五列低温加热单元331和所述第六列低温加热单元332中低温加热单元均层叠设置，所述第一列高温加热单元333和所述第二列高温加热单元334中所述高温加热单元均层叠设置。

具体地，所述第一列高温加热单元和所述第五列低温加热单元层叠设置，所述第五冷却单元组、所述第二列高温加热单元和所述第六列低温加热单元层叠设置，所述第五列低温加热单元和所述第六列低温加热单元中所述低温加热单元的数量均为2，所述第一列高温加热单元和所述第二列高温加热单元中所述高温加热单元的数量均为4，所述第五冷却单元组中所述冷却单元的数量为4。

更具体地，所述第五列低温加热单元与所述第二保护膜涂布单元并列设置，所述第五冷却单元组中自下而上的第一个冷却单元的最低点与所述第四保护膜涂布单元的最低点处于同一水平线上，所述第五冷却单元组中自上而下的第一个冷却单元的最高点与所述第二涂胶单元的最高点处于同一水平面上。

本实用新型的一些实施例中，参照图5，第二层第二热处理单元包括第六低温加热单元组（图中未标示），所述第六低温加热单元组包括并列设置的第七列低温加热单元336和第八列低温加热单元337，且所述第七列低温加热单元336和所述第八列低温加热单元337中低温加热单元均层叠设置。具体地，所述第七列低温加热单元336和所述第八列低温加热单元337中所述低温加热单元的数量均为2，且所述第七列低温加热单元336和所述第八列低温加热单元337中自下而上的第一个低温加热单元的最低点与所述第二底层胶单元的最高点处于同一水平面上。

本实用新型的一些实施例中，参照图5，第三层第二热处理单元包括层叠设置的第二高温加热单元组（图中未标示）、边部曝光单元组（图中未标示）和第一曝光后加热速冷单元组（图中未标示），所述第二高温加热单元组包括并列设置的第三列高温加热单元338和第四列高温加热单元339，所述边部曝光单元组包括并列设置的第一边部曝光单元3310和第二边部曝光单元3311，所述第一曝光后加热速冷单元组包括并列设置的第一曝光后加热速冷单元3312和第二曝光后加热速冷单元3313，且所述第三列高温加热单元338和所述第四列高温加热单元339中高温加热单元均层叠设置，所述第一曝光后加热速冷单元3312和所述第二曝光后加热速冷单元3313中曝光后加热速冷单元均层叠设置。

具体地，所述第三列高温加热单元和所述第四列高温加热单元中所述高温加热单元的数量均为2，所述第一曝光后加热速冷单元和所述第二曝光后加热速冷单元中所述曝光后加热速冷单元的数量均为3。

更具体地，第三列高温加热单元与所述第四底层胶单元并列设置，所述第一边部曝光单元与所述第二列显影单元中自下而上的第一个显影单元并列设置，所述第一列曝光后加热速冷单元中自下而上的第一个曝光后加热速冷单元与所述第二列显影单元中自下而上的第二个显影单元并列设置，所述第一列曝光后加热速冷单元中自下而上的第二个曝光后加热速冷单元与所述第二列显影单元中自下而上的第二个显影单元并列设置，所述第一列曝光后加热速冷单元中自上而下的第一个曝光后加热速冷单元与所述第二列显影单元中自上而下的第一个显影单元并列设置。

本实用新型的一些实施例中，参照图5，第四层第二热处理单元包括第三边部曝光单元3314和第二曝光后加热速冷单元组（图中未标示），所述第二曝光后加热速冷单元组包括并列设置的第三列曝光后加热速冷单元3315和第四列曝光后加热速冷单元3316，所述第三边部曝光单元3314与所述第三列曝光后加热速冷单元3315层叠设置，且所述第三列曝光后加热速冷单元3315和所述第四列曝光后加热速冷单元3316中曝光后加热速冷单元均层叠设置。

具体地，所述第三列曝光后加热速冷单元和所述第四列曝光后加热速冷单元中曝光后加热速冷单元的数量均为3，所述第三遍布曝光单元与所述第四列显影单元中自下而上的第一个显影单元并列设置，所述第三列曝光后加热速冷单元中自下而上的第一个曝光后加热速冷单元与所述第四列显影单元中自下而上的第二个显影单元并列设置，所述第三列曝光后加热速冷单元中自下而上的第二个曝光后加热速冷单元与所述第四列显影单元中自下而上的第二个显影单元并列设置，所述第三列曝光后加热速冷单元中自上而下的第一个曝光后加热速冷单元与所述第四列显影单元中自上而下的第一个显影单元并列设置。

本实用新型的一些实施例中，参照图2，所述第一工艺模块还包括清洗模块34，所述第一热处理模块32背向所述第一液体处理模块31的一侧与所述载体块10连接，所述第二热处理模块33背向所述第一液体处理模块31的一侧与所述清洗模块34连接，所述清洗模块34背向所述第二热处理模块33的一侧与所述接口块20连接。

本实用新型的一些实施例中，参照图6，所述清洗模块34包括曝光后清洗单元组341、第六冷却单元组342和背面清洗单元组343，所述第六高温加热单元的最低点位于同一个水平面；所述第六冷却单元组中所述冷却单元的数量为2，且所述第六冷却单元组中自上而下的第一个冷却单元的最高点与所述第八列低温加热单元中上而下的第一个低冷却单元组342设置于所述曝光后清洗单元组341和所述背面清洗单元组343之间，所述曝光后清洗单元组341包括一列层叠设置的曝光后清洗单元，所述第六冷却单元组342包括一列层叠设置的冷却单元，所述背面清洗单元组343包括一列层叠设置的背面清洗单元。

具体地，所述曝光后清洗单元组中所述曝光后清洗单元的数量为3，且所述曝光后清洗单元组中自上而下的第一个曝光后清洗单元的最高点与所述第二列高温加热单元中自上而下第二个温加热单元的最低点处于同一个水平面；所述背面清洗单元组中所述背面清洗单元的数量为6，且所述背面清洗单元组中自下而上的第一个背面清洗单元与所述第四列曝光后加热速冷单元自下而上的第一个曝光后加热速冷单元并列设置。

本实用新型的一些实施例中，第二层第一热处理单元还包括第一缓存单元，所述第一缓存单元设置于所述第一列增粘单元和所述第三列低温加热单元之间，且所述第一缓存单元的最低点所在的水平面位于所述第三涂胶单元最低点所在的水平面和所述第一底层胶单元最高点所在的水平面之间；所述第三层第一热处理单元还包括第二缓存单元，所述第二缓存单元设置于所述晶圆缺陷检测单元组的上侧；所述第四层第一热处理单元还包括第三缓存单元，所述第三缓存单元设置于所述第一冷却处理单元组的下侧，且所述第二缓存单元和所第三缓存单元层叠设置。

本实用新型的一些实施例中，第一层第一液体处理单元还包括第四缓存单元，所述第四缓存单元设置于所述第二保护膜涂布单元和所述第四保护膜涂布单元之间；所述第二层第一液体处理单元还包括第五缓存单元，所述第五缓存单元设置于所述第一涂胶单元和第三涂胶单元之间；所述第三层第一液体处理单元还包括第六缓存单元，所述第六缓存单元设置于所述第二底层胶单元和所述第四底层胶单元之间；所述第四层第一液体处理单元还包括第七缓存单元、第八缓存单元和第九缓存单元，所述第七缓存单元和第八缓存单元设置于所述第一列显影单元和所述第三列显影单元之间，所述第九缓存单元设置于所述第二列显影单元和所述第四列显影单元之间。

本实用新型的一些实施例中，第三层第二加热处理单元还包括层叠设置的第十缓存单元和第十一缓存单元，且所述第十缓存单元和所述第十一缓存单元设置于所述第二曝光后加热速冷单元的上侧；所述第四层第二加热处理单元还包括第十二缓存单元，所述第十二缓存单元设置于所述第四列曝光后加热速冷单元的下侧，且所述第十二缓存单元最高点所在的水平面低于所述第三边部曝光单元最低点所在的水平面。

本实用新型的一些实施例中，参照图7，四层层叠设置的第一热处理单元、四层层叠设置的第一液体处理单元和四层层叠设置的第二热处理单元中每一个单元所具有的相适配的机械手均为搬运机械手40，所述搬运机械手40包括竖直滑板41、水平滑板42和固定座43，所述固定座43的上表面设置有方向相同的左末端执行器431和右末端执行器432，所述固定座43内设有旋转轴（图中未标示），所述旋转轴由电机（图中未标示）驱动以使所述固定座43的上表面旋转，从而带动所述左末端执行器431和所述右末端执行器432旋转，所述旋转轴的转动方向与θ的旋转方向相同，所述左末端执行器431和所述右末端执行器432沿R方向做伸缩运行，所述竖直滑板41与所述水平滑板42滑动连接，且由电机（图中未标示）驱动以使所述竖直滑板41沿所述水平滑板42滑动，所述固定座43与所述竖直滑板41滑动连接，且由电机（图中未标示）驱动以使所述固定座43沿所述竖直滑板41滑动。

本实用新型的一些实施例中，所述载体块和接口块为现有技术，且均包括用于搬运晶圆的机械手，其详细结构在此不再赘述。

虽然在上文中详细说明了本实用新型的实施方式，但是对于本领域的技术人员来说显而易见的是，能够对这些实施方式进行各种修改和变化。但是，应理解，这种修改和变化都属于权利要求书中所述的本实用新型的范围和精神之内。而且，在此说明的本实用新型可有其它的实施方式，并且可通过多种方式实施或实现。

Claims (15)

1.一种涂胶显影设备，其特征在于，包括：

载体块；

接口块；

第一工艺模块，设置于所述载体块和所述接口块之间，包括第一液体处理模块以及设置于所述第一液体处理模块相对两侧的第一热处理模块和第二热处理模块；

其中，所述第一热处理模块包括四层层叠设置的第一热处理单元，所述第一液体处理模块包括四层层叠设置的第一液体处理单元，所述第二热处理模块包括四层层叠设置的第二热处理单元，且每一个单元均具有一个相适配的机械手。

2.根据权利要求1所述的涂胶显影设备，其特征在于，第一层第一热处理单元包括层叠设置的第一低温加热单元组和第一增粘单元组，所述第一低温加热单元组包括并列设置的第一列低温加热单元和第二列低温加热单元，且所述第一列低温加热单元和所述第二列低温加热单元中低温加热单元均层叠设置，所述第一增粘单元组包括并列设置的第一列增粘单元和第二列增粘单元，且所述第一列增粘单元和所述第二列增粘单元中增粘单元均层叠设置。

3.根据权利要求2所述的涂胶显影设备，其特征在于，第二层第一热处理单元包括第二低温加热单元组，所述第二低温加热单元组包括并列设置的第三列低温加热单元和第四列低温加热单元，且所述第三列低温加热单元和所述第四列低温加热单元中低温加热单元均层叠设置。

4.根据权利要求3所述的涂胶显影设备，其特征在于，第三层第一热处理单元包括第三低温加热单元组、晶圆缺陷检测单元组和第二增粘单元组，所述第二增粘单元组与所述第二低温加热单元组层叠设置，所述第三低温加热单元组包括一列层叠设置的低温加热单元，所述晶圆缺陷检测单元组包括一列层叠设置的晶圆缺陷检测单元，所述第二增粘单元组包括并列设置的第三列增粘单元和第四列增粘单元，且所述第三列增粘单元与所述晶圆缺陷检测单元组层叠设置，所述第四列增粘单元与所述第三低温加热单元组层叠设置，所述晶圆缺陷检测单元组与所述第三低温加热单元组并列设置。

5.根据权利要求4所述的涂胶显影设备，其特征在于，第四层第一热处理单元包括并列设置的第四低温加热单元组和第一冷却单元组，所述第四低温加热单元组包括一列层叠设置的低温加热单元，所述第一冷却单元组包括一列层叠设置的冷却单元。

6.根据权利要求1所述的涂胶显影设备，其特征在于，第一层第一液体处理单元包括层叠设置的第一保护膜涂布单元组、第二冷却单元组和第二保护膜涂布单元组，所述第一保护膜涂布单元组包括并列设置的第一保护膜涂布单元和第二保护膜涂布单元，第二保护膜涂布单元组包括并列设置的第三保护膜涂布单元和第四保护膜涂布单元，所述第二冷却单元组包括一些层叠设置的第二冷却单元，且所述第二冷却单元组设置于所述第一保护膜涂布单元和所述第三保护膜涂布单元之间。

7.根据权利要求6所述的涂胶显影设备，其特征在于，第二层第一液体处理单元包括层叠设置的第一涂胶单元组、第三冷却单元组和第二涂胶单元组，所述第一涂胶单元组包括并列设置的第一涂胶单元和第二涂胶单元，所述第二涂胶单元组包括并列设置的第三涂胶单元和第四涂胶单元，所述第三冷却单元组包括一列层叠设置的冷却单元，且所述第三冷却单元组设置于所述第二涂胶单元和所述第四涂胶单元之间，所述第一涂胶单元与所述第三保护膜涂布单元层叠设置，所述第二涂胶单元与所述第四保护膜涂布单元层叠设置。

8.根据权利要求7所述的涂胶显影设备，其特征在于，第三层第一液体处理单元包括层叠设置的第一底层胶单元组、第四冷却单元组和第二底层胶单元组，所述第一底层胶单元组包括并列设置的第一底层胶单元和第二底层胶单元，第二底层胶单元组包括并列设置的第三底层胶单元和第四底层胶单元，所述第四冷却单元组包括一列层叠设置的冷却单元，且所述第四冷却单元组设置于所述第一底层胶单元和所述第三底层胶单元之间，所述第一底层胶单元与所述第三涂胶单元层叠设置，所述第二底层胶单元与所述第四涂胶单元层叠设置。

9.根据权利要求8所述的涂胶显影设备，其特征在于，第四层第一液体处理单元包括第一显影单元组和第二显影单元组，所述第一显影单元组包括并列设置的第一列显影单元和第二列显影单元，所述第二显影单元组包括并列设置的第三列显影单元和第四列显影单元，且所述第一列显影单元、所述第二列显影单元、所述第三列显影单元和所述第四列显影单元中显影单元均层叠设置，所述第一列显影单元与所述第三底层胶单元层叠设置，所述第二列显影单元与所述第四底层胶单元层叠设置。

10.根据权利要求1所述的涂胶显影设备，其特征在于，第一层第二热处理单元包括层叠设置的第五低温加热单元组、第一高温加热单元组和第五冷却单元组，所述第五低温加热单元组包括并列设置的第五列低温加热单元和第六列低温加热单元，所述第一高温加热单元组包括并列设置的第一列高温加热单元和第二列高温加热单元，所述第五冷却单元组包括一列层叠设置的冷却单元，且所述第五列低温加热单元和所述第六列低温加热单元中低温加热单元均层叠设置。

11.根据权利要求10所述的涂胶显影设备，其特征在于，第二层第二热处理单元包括第六低温加热单元组，所述第六低温加热单元组包括并列设置的第七列低温加热单元和第八列低温加热单元，且所述第七列低温加热单元和所述第八列低温加热单元中低温加热单元均层叠设置。

12.根据权利要求11所述的涂胶显影设备，其特征在于，第三层第二热处理单元包括层叠设置的第二高温加热单元组、边部曝光单元组和第一曝光后加热速冷单元组，所述第二高温加热单元组包括并列设置的第三列高温加热单元和第四列高温加热单元，所述边部曝光单元组包括并列设置的第一边部曝光单元和第二边部曝光单元，所述第一曝光后加热速冷单元组包括并列设置的第一曝光后加热速冷单元和第二曝光后加热速冷单元，且所述第三列高温加热单元和所述第四列高温加热单元中高温加热单元均层叠设置，所述第一曝光后加热速冷单元和所述第二曝光后加热速冷单元中曝光后加热速冷单元均层叠设置。

13.根据权利要求12所述的涂胶显影设备，其特征在于，第四层第二热处理单元包括第三边部曝光单元和第二曝光后加热速冷单元组，所述第二曝光后加热速冷单元组包括并列设置的第三列曝光后加热速冷单元和第四列曝光后加热速冷单元，所述第三边部曝光单元与所述第三列曝光后加热速冷单元层叠设置，且所述第三列曝光后加热速冷单元和所述第四列曝光后加热速冷单元中曝光后加热速冷单元均层叠设置。

14.根据权利要求1所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述第一工艺模块还包括清洗模块，所述第一热处理模块背向所述第一液体处理模块的一侧与所述载体块连接，所述第二热处理模块背向所述第一液体处理模块的一侧与所述清洗模块连接，所述清洗模块背向所述第二热处理模块的一侧与所述接口块连接。

15.根据权利要求14所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述清洗模块包括曝光后清洗单元组、第六冷却单元组和背面清洗单元组，所述第六冷却单元组设置于所述曝光后清洗单元组和所述背面清洗单元组之间，所述曝光后清洗单元组包括一列层叠设置的曝光后清洗单元，所述第六冷却单元组包括一列层叠设置的冷却单元，所述背面清洗单元组包括一列层叠设置的背面清洗单元。

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