CN111796492B - 涂胶显影设备 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种涂胶显影设备，包括载体块；接口块；第一工艺模块包括液体处理模块以及设置于所述液体处理模块相对两侧的第一热处理模块和第二热处理模块；其中，所述第一热处理模块包括两层层叠设置的第一热处理单元，所述液体处理模块包括四层层叠设置的液体处理单元，所述第二热处理模块包括两层层叠设置的第二热处理单元，且每一层所述第一热处理单元和每一层所述第二热处理单元均具有两个相适配的机械手；第二工艺模块与所述第一工艺模块的结构相同，且与所述第一工艺模块对称设置，大幅度减少了单个机械手的搬运行程，增加了相同时间内搬运晶圆的数量，提高了效率。
Description
技术领域
本发明涉及涂胶显影技术领域，尤其涉及一种涂胶显影设备。
背景技术
现有技术中，涂胶显影设备内的机械手行程较远，花费的时间长，从而降低了工作效率。
授权号为CN100565343C的中国发明专利公开了一种涂敷、显影装置及其方法，
通过层叠二设置抗腐蚀剂膜形成用单位块、和反射防止膜形成用单位块，在抗腐蚀剂膜上下形成反射防止膜时，实现空间节省化。再者，不管是不是在形成反射防止膜的情况下，都可以应对，可以实现这时软件的简易化。在处理块（S2）上，相互层叠而设置作为涂敷膜形成用单位块的TCT层（B3）、COT层（B4）、BCT层（B5）和作为显影处理用的单位块的DEV层（B1、B2）。不管是不是在形成反射防止膜的情况下，通过在TCT层（B3）、COT层（B4）、BCT层（B5）内选择使用的单位块都可以应对，可以抑制这时的运送程序的复杂化，并实现软件的简易化。但其机械手的行程较远，同一机械手在一定时间内搬运的晶圆数量少，导致效率较低。
公开号为CN103199032A的中国发明专利公开了一种集束式结构的涂胶显影设备，用以在半导体晶片上获得均布光刻胶及光刻胶图形的涂胶显影设备的结构。本发明包括片盒站、工艺站和接口站，片盒站与工艺站通过卸/载料机器人传送晶片，工艺站与接口站通过接口机器人传送晶片，工艺站包括涂光刻胶站和显影站，所述涂光刻胶站和显影站与片盒站和接口站呈一字排列，站内的工艺处理模块呈集束型分布，集束原点分别是用于站内传片的工艺机器人CR和工艺机器人DR。本发明实现整机设备占地面积减小，工艺站内工艺模块技术拓展性强，便于标准化模块装载及拆卸，使得不同功能的模块搭配组合简单，不同的生产工艺均可在此设备上实施。但其一个机械手的行程较远，同一机械手在一定时间内搬运的晶圆数量少，导致效率较低。
因此，有必要提供一种新型的涂胶显影设备以解决现有技术中存在的上述问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种涂胶显影设备，减少机械手行程，提高效率。
为实现上述目的，本发明的所述涂胶显影设备，包括：
载体块；
接口块；
第一工艺模块，设置于所述载体块和所述接口块之间，且包括液体处理模块以及设置于所述液体处理模块相对两侧的第一热处理模块和第二热处理模块；
其中，所述第一热处理模块包括两层层叠设置的第一热处理单元，所述液体处理模块包括四层层叠设置的液体处理单元，所述第二热处理模块包括两层层叠设置的第二热处理单元，且每一层所述第一热处理单元和每一层所述第二热处理单元均具有两个相适配的机械手；
第二工艺模块，设置于所述载体块和所述接口块之间，与所述第一工艺模块的结构相同，且与所述第一工艺模块对称设置。
本发明的有益效果在于：第一工艺模块包括液体处理模块以及设置于所述液体处理模块相对两侧的第一热处理模块和第二热处理模块，第二工艺模块与所述第一工艺模块的结构相同，且与所述第一工艺模块对称设置，所述第一热处理模块包括两层层叠设置的第一热处理单元，所述液体处理模块包括四层层叠设置的液体处理单元，所述第二热处理模块包括两层层叠设置的第二热处理单元，且每一层所述第一热处理单元和每一层所述第二热处理单元均具有两个相适配的机械手，大幅度减少了单个机械手的搬运行程，增加了相同时间内搬运晶圆的数量，提高了效率。
优选地，第一层第一热处理单元包括依次层叠设置的第一光学胶涂布单元、第一增粘单元组、第一低温加热单元组、第二增粘单元组、第二低温加热单元组和第二光学胶涂布单元，所述第一增粘单元组和所述第二增粘单元组均包括一列层叠设置的增粘单元，所述第一低温加热单元组和所述第二低温加热单元组均包括一列层叠设置的低温加热单元。其有益效果在于：便于进行光学胶涂布处理、增粘处理和低温加热处理，减少机械手的运动行程。
进一步优选地，第一层第一热处理单元还包括第一冷却单元组、第二冷却单元组、第一缓存单元和第二缓存单元，所述第一冷却单元组和所述第二冷却单元组均包括一列层叠设置的冷却单元，且所述第一冷却单元组与所述第一光学胶涂布单元和所述第一增粘单元组并列设置，所述第二冷却单元组与所述第二光学胶涂布单元和所述第二低温加热单元组并列设置，所述第一缓存单元和所述第一低温加热单元组并列设置，所述第二缓存单元和所述第二增粘单元组并列设置。其有益效果在于：便于进行冷却处理和缓存处理，减少机械手的运动行程。
优选地，第二层第一热处理单元包括依次设置的第三缓存单元、第三低温加热单元组、第一缺陷检测单元、第四低温加热单元组、第二缺陷检测单元和第四缓存单元，所述第三低温加热单元组和所述第四低温加热单元组均包括一列层叠设置的低温加热单元，且所述第三缓存单元与所述第三低温加热单元组层叠设置，所述第一缺陷检测单元与所述第四低温加热单元组层叠设置，所述第二缺陷检测单元与所述第四缓存单元层叠设置。其有益效果在于：便于进行缓存处理以及第二加热处理缺陷检测处理，减少机械手的运动行程。
进一步优选地，第二层第一热处理单元还包括第三冷却单元组、第四冷却单元组、第五缓存单元和第六缓存单元，所述第三冷却单元组和所述第四冷却单元组均包括一列层叠设置的冷却单元，所述第三冷却单元组和所述第五缓存单元层叠设置，所述第五缓存单元与所述第一缺陷检测单元并列设置，所述第六缓存单元和所述第四冷却单元组层叠设置，且所述第六缓存单元和所述第四冷却单元组均与所述第四低温加热单元组并列设置。其有益效果在于：便于进行冷却处理和缓存处理，减少机械手的运动行程。
优选地，第一层液体处理单元包括依次设置的第一底层胶单元组和第二底层胶单元组，所述第一底层胶单元组包括并列设置的第一底层胶单元和第二底层胶单元，所述第二底层胶单元组包括并列设置的第三底层胶单元和所述第四底层胶单元。其有益效果在于：便于进行底层胶处理，减少机械手的运动行程。
进一步优选地，第二层液体处理单元包括依次设置第一涂胶单元组和第二涂胶单元组，所述第一涂胶单元组和所述第二底层胶单元组层叠设置，所述第一涂胶单元组包括并列设置的第一涂胶单元和第二涂胶单元，所述第二涂胶单元组包括并列设置的第三涂胶单元和第四涂胶单元。其有益效果在于：便于进行涂胶处理，减少机械手的运动行程。
进一步优选地，第三层液体处理单元包括依次设置的第一保护膜涂布单元组和第二保护膜涂布单元组，所述第一保护膜涂布单元组与所述第二涂胶单元组层叠设置，所述第一保护膜涂布单元组包括并列设置的第一保护膜涂布单元和第二保护膜涂布单元，所述第二保护膜涂布单元组包括并列设置的第三保护膜涂布单元和第四保护膜涂布单元。其有益效果在于：便于进行保护膜涂布处理，减少机械手的运动行程。
进一步优选地，第四层液体处理单元包括依次设置的第一显影单元组和第二显影单元组，所述第一显影单元组与所述第二保护膜涂布单元组层叠设置，所述第一显影单元组包括并列设置的第一列显影单元和第二列显影单元，所述第二显影单元组包括并列设置的第三列显影单元和第四列显影单元，且所述第一列显影单元、所述第二列显影单元、所述第三列显影单元和所述第四列显影单元中显影单元均层叠设置。其有益效果在于：便于进行显影处理，减少机械手的运动行程。
优选地，第一层第二热处理单元包括依次设置的第一高温加热单元组、第五低温加热单元组、第二高温加热单元组和第六低温加热单元组，所述第一高温加热单元组和第五低温加热单元组层叠设置，所述第二高温加热单元组和所述第六低温加热单元组层叠设置，且所述第一高温加热单元组和所述第二高温加热单元组均包括一列层叠设置的高温加热单元，所述第五低温加热单元组和所述第六低温加热单元组均包括一列层叠设置的低温加热单元。其有益效果在于：便于进行高温加热处理以及低温加热处理，减少机械手的运动行程。
进一步优选地，第一层第二热处理单元还包括第五冷却单元组、第六冷却单元组、第七冷却单元组、第七缓存单元和第八缓存单元，所述第五冷却单元组与所述第一高温加热单元组并列设置，所述第六冷却单元组设置于所述第五低温加热单元组和所述第二高温加热单元组的一侧，所述第七冷却单元组与所述第二高温加热单元组并列设置，所述第七缓存单元与所述第一高温加热单元组并列设置，所述第八缓存单元与所述第六低温加热单元组并列设置。其有益效果在于：便于进行冷却处理和缓存处理，减少机械手的运动行程。
进一步优选地，第一层第二热处理单元还包括第九缓存单元和第十缓存单元，所述第九缓存单元设置于所述第六缓存单元的下侧，所述第十缓存单元设置于所述第七缓存单元的上侧。其有益效果在于：便于进行缓存处理，减少机械手的运动行程。
优选地，第二层第二热处理单元包括依次设置的第一曝光后加热速冷单元组和第二曝光后加热速冷单元组，所述第一曝光后加热速冷单元组和所述第二曝光后加热速冷单元组均包括一列层叠设置的曝光后加热速冷单元。其有益效果在于：便于进行曝光后加热速冷处理，减少机械手的运动行程。
进一步优选地，第二层第二热处理单元还包括第八冷却单元组、第十一缓存单元、第十二缓存单元、第一曝光后清洗单元组和第二曝光后清洗单元组，所述第八冷却单元组设置于所述第二曝光后加热速冷单元组的一侧，所述第十一缓存单元和所述第一曝光后清洗单元组层叠设置，且所述第十一缓存单元和所述第一曝光后清洗单元组均与所述第一曝光后加热速冷单元组并列设置，所述第十二缓存单元与所述第二曝光后清洗单元组层叠设置，且所述第十二缓存单元与所述第二曝光后清洗单元组均与所述第二曝光后加热速冷单元并列设置。其有益效果在于：便于进行冷却处理、缓存处理以及曝光后清洗处理，减少机械手的运动行程。
优选地，所述第一工艺模块还包括清洗模块，所述清洗模块包括两层层叠设置的清洗单元，第一层清洗单元包括层叠设置的第十三缓存单元、第九冷却单元组、第一边部曝光单元组和第一背部清洗单元组，第二层清洗单元包括层叠设置的第十四缓存单元、第十冷却单元组、第二边部曝光单元组和第二背部清洗单元组，所述第九冷却单元组和所述第十冷却单元组均包括一列层叠设置的冷却单元，所述第一边部曝光单元组和所述第二边部曝光单元组均包括一列层叠设置的边部曝光单元，所述第一背部清洗单元组和所述第二背部清洗单元组均包括一列层叠设置的背部清洗单元。其有益效果在于：便于进行清洗处理，减少机械手的运动行程。
附图说明
图1为本发明涂胶显影设备的俯视结构示意图；
图2为本发明第一工艺模块的剖面结构示意图；
图3为本发明第一热处理模块的剖面结构示意图；
图4为本发明液体处理模块的剖面结构示意图；
图5为本发明第二热处理模块的右部分剖面结构示意图；
图6为本发明第二热处理模块的左部分剖面结构示意图；
图7为本发明清洗模块的剖面结构示意图；
图8为本发明搬运机械手的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。除非另外定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本文中使用的“包括”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。
针对现有技术存在的问题，本发明的实施例提供了一种涂胶显影设备，参照图1，所述涂胶显影设备包括：
载体块10；
接口块20；
第一工艺模块30，设置于所述载体块10和所述接口块20之间，且包括液体处理模块31以及设置于所述液体处理模块31相对两侧的第一热处理模块32和第二热处理模块33；
其中，所述第一热处理模块32包括两层层叠设置的第一热处理单元（图中未标示），所述液体处理模块包括四层层叠设置的液体处理单元（图中未标示），所述第二热处理模块33包括两层层叠设置的第二热处理单元（图中未标示），且每一层所述第一热处理单元和每一层所述第二热处理单元均具有两个相适配的机械手（图中未标示）；
第二工艺模块40，设置于所述载体块10和所述接口块20之间，与所述第一工艺模块30的结构相同，且与所述第一工艺模块30对称设置。
本发明的一些实施例中，参照图3，第一层第一热处理单元包括依次层叠设置的第一光学胶涂布单元321、第一增粘单元组322、第一低温加热单元组323、第二增粘单元组324、第二低温加热单元组325和第二光学胶涂布单元326，所述第一增粘单元组322和所述第二增粘单元组324均包括一列层叠设置的增粘单元，所述第一低温加热单元组323和所述第二低温加热单元组325均包括一列层叠设置的低温加热单元。具体地，所述第一增粘单元组322和所述第二增粘单元组324中所述增粘单元的数量均为4，所述第一低温加热单元组323和所述第二低温加热单元组325中所述低温加热单元的数量均为4。
本发明的一些实施例中，参照图3，第一层第一热处理单元还包括第一冷却单元组327、第二冷却单元组328、第一缓存单元329和第二缓存单元3210，所述第一冷却单元组327和所述第二冷却单元组328均包括一列层叠设置的冷却单元，且所述第一冷却单元组327与所述第一光学胶涂布单元321和所述第一增粘单元组322并列设置，所述第二冷却单元组328与所述第二光学胶涂布单元326和所述第二低温加热单元组325并列设置，所述第一缓存单元329和所述第一低温加热单元组323并列设置，所述第二缓存单元3210和所述第二增粘单元组324并列设置。
具体地，所述第一冷却单元组和所述第二冷却单元组中所述冷却单元的数量均为4，所述第一冷却单元组中自上而下的第一个冷却单元与所述第一增粘单元组中自上而下的第三个增粘单元并列设置，所述第二冷却单元组中自上而下的第二个冷却单元与所述第二光学胶涂布单元并列设置，所述第一缓存单元与所述第一低温加热单元组中自上而下的第二个低温加热单元并列设置，所述第二缓存单元与所述第二增粘单元组中自上而下的第三个增粘单元并列设置。
本发明的一些实施例中，参照图3，第二层第一热处理单元包括依次设置的第三缓存单元3211、第三低温加热单元组3212、第一缺陷检测单元3213、第四低温加热单元组3214、第二缺陷检测单元3215和第四缓存单元3216，所述第三低温加热单元组3212和所述第四低温加热单元组3214均包括一列层叠设置的低温加热单元，且所述第三缓存单元3211与所述第三低温加热单元组3212层叠设置，所述第一缺陷检测单元3213与所述第四低温加热单元组3214层叠设置，所述第二缺陷检测单元3215与所述第四缓存单元3216层叠设置。
具体地，所述第三低温加热单元组和所述第四低温加热单元组中所述低温加热单元的数量均为4。
本发明的一些实施例中，参照图3，第二层第一热处理单元还包括第三冷却单元组3217、第四冷却单元组3218、第五缓存单元3219和第六缓存单元3220，所述第三冷却单元组3217和所述第四冷却单元组3218均包括一列层叠设置的冷却单元，所述第三冷却单元组3217和所述第五缓存单元层3219层叠设置，所述第五缓存单元3219与所述第一缺陷检测单元3213并列设置，所述第六缓存单元3220和所述第四冷却单元组3218层叠设置，且所述第六缓存单元3220和所述第四冷却单元组3218均与所述第四低温加热单元组3214并列设置。
具体地，所述第三冷却单元组和所述第四冷却单元组中所述冷却单元的数量均为2，所述第三冷却单元组中自下而上的第一个冷却单元的最低点所在的水平面高于所述第三低温加热单元组自上而下的第一个低温加热单元最高点所在的水平面，或所述第三冷却单元组中自下而上的第一个冷却单元的最低点所在的水平面与所述第三低温加热单元组自上而下的第一个低温加热单元最高点所在的水平面相同；所述第三冷却单元组中自上而下的第一个冷却单元的最高点所在的水平面低于所述第一缺陷检测单元最低点所在的水平面，或所述第三冷却单元组中自上而下的第一个冷却单元的最高点所在的水平面与所述第一缺陷检测单元最低点所在的水平面相同；所述第四冷却单元组中自上而下的第一个冷却单元与所述第四低温加热单元组中自上而下的第一个低温冷却单元并列设置。
本发明的一些实施例中，参照图4，第一层液体处理单元包括依次设置的第一底层胶单元组和第二底层胶单元组，所述第一底层胶单元组包括并列设置的第一底层胶单元311和第二底层胶单元312，所述第二底层胶单元组包括并列设置的第三底层胶单元313和所述第四底层胶单元314。
具体地，所述第一底层胶单元和所述第三底层胶单元位于同一列上，所述第二底层胶单元和所述第四底层胶单元位于同一列上，且所述第一底层胶单元的最高点所在水平面低于或等于所述第一冷却单元组自下而上第一个冷却单元最低点所在的水平面，所述第三底层胶单元最低点所在的水平面高于或等于所述第一冷却单元组自上而下第一个冷却单元最高点所在的水平面。
本发明的一些实施例中，参照图4，第二层液体处理单元包括依次设置的第一涂胶单元组和第二涂胶单元组，所述第一涂胶单元组和所述第二底层胶单元组层叠设置，所述第一涂胶单元组包括并列设置的第一涂胶单元315和第二涂胶单元316，所述第二涂胶单元组包括并列设置的第三涂胶单元317和第四涂胶单元318。
具体地，所述第一涂胶单元和所述第三涂胶单元位于同一列上，所述第二涂胶单元和所述第四涂胶单元位于同一列上，且所述第一涂胶单元最高点所在的水平面低于或等于所述第一缓存单元最低点所在的水平面，所述第三涂胶单元最低点所在的水平面高于或等于所述第二缓存单元最高点所在的水平面。
本发明的一些实施例中，参照图4，第三层液体处理单元包括依次设置的第一保护膜涂布单元组和第二保护膜涂布单元组，所述第一保护膜涂布单元组与所述第二涂胶单元组层叠设置，所述第一保护膜涂布单元组包括并列设置的第一保护膜涂布单元319和第二保护膜涂布单元3110，所述第二保护膜涂布单元组包括并列设置的第三保护膜涂布单元3111和第四保护膜涂布单元3112。
具体地，所述第一保护膜涂布单元和所述第三保护膜涂布单元位于同一列上，所述第二保护膜涂布单元和所述第四保护膜涂布单元位于同一列上，且所述第一保护膜涂布单元最高点所在的水平面高于或等于所述第二冷却单元组中自下而上第一个冷却单元最低点所在的水平面，所述第三保护膜涂布单元最低点所在的水平面低于或高于所述第二冷却单元组中自上而下第一个冷却单元最高点所在的水平面。
本发明的一些实施例中，参照图4，第四层液体处理单元包括依次设置的第一显影单元组和第二显影单元组，所述第一显影单元组与所述第二保护膜涂布单元组层叠设置，所述第一显影单元组包括并列设置的第一列显影单元3113和第二列显影单元3114，所述第二显影单元组包括并列设置的第三列显影单元3115和第四列显影单元3116，且所述第一列显影单元3113、所述第二列显影单元3114、所述第三列显影单元3115和所述第四列显影单元3116中显影单元均层叠设置。
具体地，所述第一列显影单元和所述第三列显影单元位于同一列，所述第二列显影单元和所述第四列显影单元位于同一列，所述第一列显影单元、所述第二列显影单元、所述第三列显影单元和所述第四列显影单元中所述显影单元的数量均为3，且所述第一列显影单元自上而下第一个显影单元最高点所在的水平面低于所述第三冷却单元自下而上第一个冷却单元最低点所在的水平面，所述第三列显影单元自下而上第一个显影单元最低点所在的水平面高于所述第四冷却单元自上而下第一个冷却单元最高点所在的水平面。
本发明的一些实施例中，参照图5和图6，第一层第二热处理单元包括依次设置的第一高温加热单元组321、第五低温加热单元组322、第二高温加热单元组323和第六低温加热单元组324，所述第一高温加热单元组321和第五低温加热单元组322层叠设置，所述第二高温加热单元组323和所述第六低温加热单元组324层叠设置，且所述第一高温加热单元组321和所述第二高温加热单元组323均包括一列层叠设置的高温加热单元，所述第五低温加热单元组322和所述第六低温加热单元组324均包括一列层叠设置的低温加热单元。
具体地，所述第一高温加热单元组和所述第二高温加热单元组中所述高温加热单元的数量均为4，所述第五低温加热单元组和所述第六低温加热单元组中低温加热单元的数量为3，且第一高温加热单元组、所述第五低温加热单元组、所述第二高温加热单元组和所述第六低温加热单元组位于同一列。
本发明的一些实施例中，参照图5和图6，第一层第二热处理单元还包括第五冷却单元组325、第六冷却单元组326、第七冷却单元组327、第七缓存单元328和第八缓存单元329，所述第五冷却单元组325与所述第一高温加热单元组321并列设置，所述第六冷却单元组326设置于所述第五低温加热单元组322和所述第二高温加热单元组323的一侧，所述第七冷却单元组327与所述第二高温加热单元组323并列设置，所述第七缓存单元328与所述第一高温加热单元组321并列设置，所述第八缓存单元329与所述第六低温加热单元组324并列设置。
本发明的一些实施例中，参照图5和图6，第一层第二热处理单元还包括第九缓存单元3210和第十缓存单元3211，所述第九缓存单元3210设置于所述第六缓存单元328的下侧，所述第十缓存单元3211设置于所述第七缓存单元329的上侧。
具体地，所述第五冷却单元组和所述第七冷却单元组中所述冷却单元的数量均为2，所述第六冷却单元组中所述冷却单元的数量为4，所述第五冷却单元组中自下而上的第一个冷却单元与所述第一高温加热单元组中自下而上的第二个高温加热单元并列设置，所述第七冷却单元组中自下而上的第一个冷却单元与所述第二高温加热单元组中自下而上的第二个高温加热单元并列设置，所述第六冷却单元组中自上而下的第一个冷却单元与所述第二高温加热单元组中自下而上的第二个高温加热单元并列设置，所述第六冷却单元组中自下而上的第一个冷却单元与所述第六低温加热单元组中自上而下的第一个低温加热单元并列设置，所述第五缓存单元与所述第一高温加热单元组中自下而上的第二个高温加热单元并列设置，所述第六缓存单元与所述第六低温加热单元组中自上而下的第一个第二加热单元并列设置。
本发明的一些实施例中，参照图5和图6，第二层第二热处理单元包括依次设置的第一曝光后加热速冷单元组3212和第二曝光后加热速冷单元组3213，所述第一曝光后加热速冷单元组3212和所述第二曝光后加热速冷单元组3213均包括一列层叠设置的曝光后加热速冷单元。具体地，所述第一曝光后加热速冷单元组322和所述第二曝光后加热速冷单元组3213位于同一列。
本发明的一些实施例中，参照图5和图6，第二层第二热处理单元还包括第八冷却单元组3214、第十一缓存单元3215、第十二缓存单元3216、第一曝光后清洗单元组3217和第二曝光后清洗单元组3218，所述第八冷却单元组3214设置于所述第二曝光后加热速冷单元组3218的一侧，所述第十一缓存单元3215和所述第一曝光后清洗单元组3217层叠设置，且所述第十一缓存单元3215和所述第一曝光后清洗单元组3217均与所述第一曝光后加热速冷单元组3212并列设置，所述第十二缓存单元3216与所述第二曝光后清洗单元组3218层叠设置，且所述第十二缓存单元3216与所述第二曝光后清洗单元组3218均与所述第二曝光后加热速冷单元3213并列设置。
具体地，所述第一曝光后加热速冷单元组和所述第二曝光后加热速冷单元组中所述加热速冷单元的数量均为4，所述第八冷却单元组中所述冷却单元的数量为4，所述第一曝光后清洗单元组和所述第二曝光后清洗单元组中所述曝光后清洗单元的数量均为2，所述第十一缓存单元和所述第一曝光后加热速冷单元组自下而上的第一个曝光后加热速冷单元并列设置；所述第十二缓存单元和所述第二曝光后加热速冷单元组自下而上的第一个曝光后加热速冷单元并列设置；所述第一曝光后清洗单元组中自下而上的第一个曝光后清洗单元与所述第一曝光后加热速冷单元组中自下而上的第二个曝光后清洗单元和第三个曝光后清洗单元并列设置，所述第一曝光后清洗单元组中自上而下的第一个曝光后清洗单元与所述第一曝光后加热速冷单元组中自上而下的第一个曝光后加热速冷单元并列设置；所述第二曝光后清洗单元组中自下而上的第一个曝光后清洗单元与所述第二曝光后加热速冷单元组自下而上的第二个曝光后加热速冷单元和第三个曝光后加热速冷单元并列设置，所述第二曝光后清洗单元组中自上而下的第一个曝光后清洗单元与所述第二曝光后加热速冷单元组中自上而下的第一个曝光后加热速冷单元并列设置；所述第八冷却单元组中自上而下的第一个冷却单元与所述第二曝光后加热速冷单元组中自下而上的第二个曝光后加热速冷单元并列设置。
更具体地，所述第八冷却单元组中自下而上的第一个冷却单元最低点所在的水平面与所述第五缓存单元最低第三所在的水平面相同，所述第一曝光后加热速冷单元组自上而下的第一个曝光后加热速冷单元最高点所在的水平面与所述第三冷却单元组中自下而上的第一个冷却单元最低点所在的水平面相同。
本发明的一些实施例中，参照图1、图2和图7，所述第一工艺模块还包括清洗模块34，所述清洗模块34包括两层层叠设置的清洗单元，第一层清洗单元包括层叠设置的第十三缓存单元341、第九冷却单元组342、第一边部曝光单元组343和第一背部清洗单元组344，第二层清洗单元包括层叠设置的第十四缓存单元345、第十冷却单元组346、第二边部曝光单元组347和第二背部清洗单元组348，所述第九冷却单元组342和所述第十冷却单元组346均包括一列层叠设置的冷却单元，所述第一边部曝光单元组343和所述第二边部曝光单元组347均包括一列层叠设置的边部曝光单元，所述第一背部清洗单元组344和所述第二背部清洗单元组348均包括一列层叠设置的背部清洗单元。
具体地，所述第九冷却单元组和第十冷却单元组中所述冷却单元的数量均为2，所述第一边部曝光单元组和所述第二边部曝光单元组中所述边部曝光单元的数量均为2，所述第一背部清洗单元组和所述第二背部清洗单元组中所述背部清洗单元的数量均为3，所述第一背部清洗单元组中自上而下的第一个背部清洗单元与所述第七冷却单元组中自下而上的第一个冷却单元并列设置，所述地位冷却单元组中自下而上的第一个冷却单元与所述第十二缓存单元并列设置。
本发明的一些实施例中，参照图7，四层层叠设置的第一热处理单元、四层层叠设置的第一液体处理单元和四层层叠设置的第二热处理单元中每一个单元所具有的相适配的机械手均为搬运机械手40，所述搬运机械手40包括竖直滑板41、水平滑板42和固定座43，所述固定座43的上表面设置有方向相同的左末端执行器431和右末端执行器432，所述左末端执行器431和所述右末端执行器432沿R方向做伸缩运行，所述竖直滑板41与所述水平滑板42滑动连接，且由电机（图中未标示）驱动以使所述竖直滑板41沿所述水平滑板42滑动，所述固定座43与所述竖直滑板41滑动连接，且由电机（图中未标示）驱动以使所述固定座43沿所述竖直滑板41滑动。
本发明的一些实施例中，所述载体块和接口块为现有技术，且均包括用于搬运晶圆的机械手，其详细结构在此不再赘述。
虽然在上文中详细说明了本发明的实施方式，但是对于本领域的技术人员来说显而易见的是，能够对这些实施方式进行各种修改和变化。但是，应理解，这种修改和变化都属于权利要求书中所述的本发明的范围和精神之内。而且，在此说明的本发明可有其它的实施方式，并且可通过多种方式实施或实现。
Claims (15)
1.一种涂胶显影设备，其特征在于，包括：
载体块；
接口块；
第一工艺模块，设置于所述载体块和所述接口块之间，包括液体处理模块以及设置于所述液体处理模块相对两侧的第一热处理模块和第二热处理模块；
其中，所述第一热处理模块包括两层层叠设置的第一热处理单元，所述液体处理模块包括四层层叠设置的液体处理单元，所述第二热处理模块包括两层层叠设置的第二热处理单元，且每一层所述第一热处理单元和每一层所述第二热处理单元均具有两个相适配的机械手；
第二工艺模块，设置于所述载体块和所述接口块之间，与所述第一工艺模块的结构相同，且与所述第一工艺模块对称设置。
2.根据权利要求1所述的涂胶显影设备，其特征在于，第一层第一热处理单元包括依次层叠设置的第一光学胶涂布单元、第一增粘单元组、第一低温加热单元组、第二增粘单元组、第二低温加热单元组和第二光学胶涂布单元，所述第一增粘单元组和所述第二增粘单元组均包括一列层叠设置的增粘单元，所述第一低温加热单元组和所述第二低温加热单元组均包括一列层叠设置的低温加热单元。
3.根据权利要求2所述的涂胶显影设备，其特征在于，第一层第一热处理单元还包括第一冷却单元组、第二冷却单元组、第一缓存单元和第二缓存单元，所述第一冷却单元组和所述第二冷却单元组均包括一列层叠设置的冷却单元，且所述第一冷却单元组与所述第一光学胶涂布单元和所述第一增粘单元组并列设置，所述第二冷却单元组与所述第二光学胶涂布单元和所述第二低温加热单元组并列设置，所述第一缓存单元和所述第一低温加热单元组并列设置，所述第二缓存单元和所述第二增粘单元组并列设置。
4.根据权利要求1所述的涂胶显影设备，其特征在于，第二层第一热处理单元包括依次设置的第三缓存单元、第三低温加热单元组、第一缺陷检测单元、第四低温加热单元组、第二缺陷检测单元和第四缓存单元，所述第三低温加热单元组和所述第四低温加热单元组均包括一列层叠设置的低温加热单元，且所述第三缓存单元与所述第三低温加热单元组层叠设置，所述第一缺陷检测单元与所述第四低温加热单元组层叠设置，所述第二缺陷检测单元与所述第四缓存单元层叠设置。
5.根据权利要求4所述的涂胶显影设备，其特征在于，第二层第一热处理单元还包括第三冷却单元组、第四冷却单元组、第五缓存单元和第六缓存单元，所述第三冷却单元组和所述第四冷却单元组均包括一列层叠设置的冷却单元，所述第三冷却单元组和所述第五缓存单元层叠设置，所述第五缓存单元与所述第一缺陷检测单元并列设置，所述第六缓存单元和所述第四冷却单元组层叠设置，且所述第六缓存单元和所述第四冷却单元组均与所述第四低温加热单元组并列设置。
6.根据权利要求1所述的涂胶显影设备，其特征在于，第一层液体处理单元包括依次设置的第一底层胶单元组和第二底层胶单元组，所述第一底层胶单元组包括并列设置的第一底层胶单元和第二底层胶单元，所述第二底层胶单元组包括并列设置的第三底层胶单元和所述第四底层胶单元。
7.根据权利要求6所述的涂胶显影设备，其特征在于，第二层液体处理单元包括依次设置第一涂胶单元组和第二涂胶单元组，所述第一涂胶单元组和所述第二底层胶单元组层叠设置，所述第一涂胶单元组包括并列设置的第一涂胶单元和第二涂胶单元，所述第二涂胶单元组包括并列设置的第三涂胶单元和第四涂胶单元。
8.根据权利要求7所述的涂胶显影设备，其特征在于，第三层液体处理单元包括依次设置的第一保护膜涂布单元组和第二保护膜涂布单元组，所述第一保护膜涂布单元组与所述第二涂胶单元组层叠设置，所述第一保护膜涂布单元组包括并列设置的第一保护膜涂布单元和第二保护膜涂布单元，所述第二保护膜涂布单元组包括并列设置的第三保护膜涂布单元和第四保护膜涂布单元。
9.根据权利要求8所述的涂胶显影设备，其特征在于，第四层液体处理单元包括依次设置的第一显影单元组和第二显影单元组，所述第一显影单元组与所述第二保护膜涂布单元组层叠设置，所述第一显影单元组包括并列设置的第一列显影单元和第二列显影单元，所述第二显影单元组包括并列设置的第三列显影单元和第四列显影单元，且所述第一列显影单元、所述第二列显影单元、所述第三列显影单元和所述第四列显影单元中显影单元均层叠设置。
10.根据权利要求1所述的涂胶显影设备，其特征在于，第一层第二热处理单元包括依次设置的第一高温加热单元组、第五低温加热单元组、第二高温加热单元组和第六低温加热单元组，所述第一高温加热单元组和第五低温加热单元组层叠设置，所述第二高温加热单元组和所述第六低温加热单元组层叠设置，且所述第一高温加热单元组和所述第二高温加热单元组均包括一列层叠设置的高温加热单元，所述第五低温加热单元组和所述第六低温加热单元组均包括一列层叠设置的低温加热单元。
11.根据权利要求10所述的涂胶显影设备，其特征在于，第一层第二热处理单元还包括第五冷却单元组、第六冷却单元组、第七冷却单元组、第七缓存单元和第八缓存单元，所述第五冷却单元组与所述第一高温加热单元组并列设置，所述第六冷却单元组设置于所述第五低温加热单元组和所述第二高温加热单元组的一侧，所述第七冷却单元组与所述第二高温加热单元组并列设置，所述第七缓存单元与所述第一高温加热单元组并列设置，所述第八缓存单元与所述第六低温加热单元组并列设置。
12.根据权利要求11所述的涂胶显影设备，其特征在于，第一层第二热处理单元还包括第九缓存单元和第十缓存单元，所述第九缓存单元设置于所述第六缓存单元的下侧，所述第十缓存单元设置于所述第七缓存单元的上侧。
13.根据权利要求1所述的涂胶显影设备，其特征在于，第二层第二热处理单元包括依次设置的第一曝光后加热速冷单元组和第二曝光后加热速冷单元组，所述第一曝光后加热速冷单元组和所述第二曝光后加热速冷单元组均包括一列层叠设置的曝光后加热速冷单元。
14.根据权利要求13所述的涂胶显影设备，其特征在于，第二层第二热处理单元还包括第八冷却单元组、第十一缓存单元、第十二缓存单元、第一曝光后清洗单元组和第二曝光后清洗单元组，所述第八冷却单元组设置于所述第二曝光后加热速冷单元组的一侧，所述第十一缓存单元和所述第一曝光后清洗单元组层叠设置，且所述第十一缓存单元和所述第一曝光后清洗单元组均与所述第一曝光后加热速冷单元组并列设置，所述第十二缓存单元与所述第二曝光后清洗单元组层叠设置，且所述第十二缓存单元与所述第二曝光后清洗单元组均与所述第二曝光后加热速冷单元并列设置。
15.根据权利要求1所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述第一工艺模块还包括清洗模块，所述清洗模块包括两层层叠设置的清洗单元，第一层清洗单元包括层叠设置的第十三缓存单元、第九冷却单元组、第一边部曝光单元组和第一背部清洗单元组，第二层清洗单元包括层叠设置的第十四缓存单元、第十冷却单元组、第二边部曝光单元组和第二背部清洗单元组，所述第九冷却单元组和所述第十冷却单元组均包括一列层叠设置的冷却单元，所述第一边部曝光单元组和所述第二边部曝光单元组均包括一列层叠设置的边部曝光单元，所述第一背部清洗单元组和所述第二背部清洗单元组均包括一列层叠设置的背部清洗单元。
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