CN210272293U - 涂胶显影设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种涂胶显影设备包括片盒模块、第一工艺模块、第二工艺模块和接口模块，第一工艺模块和第二工艺模块的一端与片盒模块连接，第一工艺模块和第二工艺模块的另一端与接口模块连接，第一工艺模块和第二工艺模块可以相互独立工作，节约了维护时间，提高了生产效率，第一工艺模块和第二工艺模块之间设置有第一层间工艺机械手、层内工艺机械手组和第二层间工艺机械手，第一层间工艺机械手、第二层间工艺机械手和层内工艺机械手组内的机械手均具有两组朝向相反的末端执行器，每组末端执行器的数量为m，m为大于或等于2的自然数，能够实现多个晶圆的搬运，提高了生产效率。

Description

涂胶显影设备

技术领域

本实用新型涉及半导体加工技术领域，尤其涉及一种涂胶显影设备。

背景技术

现有半导体加工的光刻工艺中，涂胶设备、光刻设备和显影设备分别完成光刻胶涂布工艺流程、光刻工艺流程以及显影工艺流程。随着半导体加工工艺水平的提升，市场主流将涂胶显影设备与光刻设备连接在一起从而完成整套光刻工艺流程，其中通常把涂胶工艺流程和显影工艺流程集成在同一设备上，同时需要涂胶显影设备的产能大于光刻设备的产能，而涂胶显影设备的产能由工艺单元瓶颈产能和机器人瓶颈产能决定。传统的设备机器人形式固定，机器人速度已经接近极限，提高设备的机器人的瓶颈产能，只能通过增加机器人的数量来实现，而增加机器人数量则会导致显影设备的占地面积变大，占地面积变大则成为限制产能的另一限制条件。

因此，有必要提供一种新型的涂胶显影设备以解决现有技术中存在的上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种涂胶显影设备，在同等机器人数量及机器人速度的前提下提高显影设备的工作效率。

为实现上述目的，本实用新型的所述涂胶显影设备，包括片盒模块、第一工艺模块、第二工艺模块和接口模块，所述第一工艺模块和所述第二工艺模块的一端与所述片盒模块连接，所述第一工艺模块和所述第二工艺模块的另一端与所述接口模块连接，所述第一工艺模块和所述第二工艺模块之间设置有第一层间工艺机械手、层内工艺机械手组和第二层间工艺机械手，所述第一层间工艺机械手、所述第二层间工艺机械手和所述层内工艺机械手组内的机械手均具有两组朝向相反的末端执行器，每组所述末端执行器的数量为m，m为大于或等于2的自然数。

本实用新型的有益效果在于：所述第一工艺模块和所述第二工艺模块并排设置于所述片盒模块和所述接口模块之间，所述第一工艺模块和所述第二工艺模块可以相互独立工作，节约了维护时间，提高了生产效率；所述第一层间工艺机械手、所述第二层间工艺机械手和所述层内工艺机械手组内的机械手均具有两组朝向相反的末端执行器，每组所述末端执行器的数量为m，m为大于或等于2的自然数，一个方向上能够实现多个晶圆的同时搬运，提高了生产效率。

优选地，所述层内工艺机械手组自下而上分别包括结构相同的第一层内工艺机械手、第二层内工艺机械手和第三层内工艺机械手。其有益效果在于：所述第一层内工艺机械手、所述第二层内工艺机械手和所述第三层内工艺机械手可用于所述第一工艺模块和所述第二工艺模块内不同位置晶圆的搬运，独立运行提高生了产效率，并且在下而上设置，充分利用了竖直上的空间，节约了占地面积。

进一步优选地，所述第一层内工艺机械手包括第一竖直滑部、第一水平滑部和第一执行器台座，所述第一竖直滑部设置于所述第一水平滑部的上侧，且所述第一竖直滑部与所述第一水平滑部滑动连接，所述第一执行器台座设置于所述第一竖直滑部的一侧。其有益效果在于：便于所述第一执行器台座在水平和竖直方向上运动。

进一步优选地，所述第一执行器台座包括连接部、第一执行部和第二执行部。

进一步优选地，所述连接部包括承载部和竖直连接部，所述竖直连接部设置于所述承载部的一侧，所述竖直连接部与所述第一竖直滑部滑动连接。

进一步优选地，所述承载部的上侧设有执行部滑轨，所述执行部滑轨垂直于所述竖直连接部，所述第一执行部和所述第二执行部设置于所述执行部滑轨的上侧，且所述第一执行部、所述第二执行部均与所述竖直连接部平行，所述第二执行部与所述执行部滑轨固定连接，所述第一执行部下侧设有执行部滑块，且所述执行部滑块与所述执行部滑轨滑动连接。其有益效果在于：便于调节所述第一执行部和所述第二执行部之间的装配误差。

进一步优选地，所述第一执行部背向所述第二执行部的一侧设有第一上滑道和第一下滑道，所述第一上滑道上设有第一上弯折板，所述第一上弯折板与所述第一上滑道滑动连接，所述第一下滑道上设有第一下弯折板，所述第一下弯折板与所述第一下滑道滑动连接，所述第一上弯折板和所述第一下弯折板上侧设置有第一上固定板，所述第一上固定板的一侧设有第一组末端执行器。其有益效果在于：所述第一上弯折板和所述第一下弯折板共同固定所述第一上固定板，能保证所述第一上固定板的稳定性，防止出现晃动。

进一步优选地，所述第二执行部背向所述第一执行部的一侧设有第二上滑道和第二下滑道，所述第二上滑道上设有第二上弯折板，所述第二上弯折板与所述第二上滑道滑动连接，所述第二下滑道上设有第二下弯折板，所述第二下弯折板与所述第二下滑道滑动连接，所述第二上弯折板和所述第二下弯折板上侧设有有第二上固定板，所述第二上固定板的一侧设有第二组末端执行器。其有益效果在于：所述第二上弯折板和所述第二下弯折板共同固定所述第二上固定板，能保证所述第二上固定板的稳定性，防止出现晃动。

进一步优选地，所述第一执行部背向所述第二执行部的一侧设有第一上滑道和第一下滑道，所述第一上滑道上设有第一上弯折板，所述第一上弯折板与所述第一上滑道滑动连接，所述第一下滑道上设有第一下弯折板，所述第一下弯折板与所述第一下滑道滑动连接，所述第一上弯折板和所述第一下弯折板上侧设置有第一上固定板，所述第一上固定板的一侧设有第一组末端执行器，所述第二执行部背向所述第一执行部的一侧设有第二上滑道和第二下滑道，所述第二上滑道上设有第二上弯折板，所述第二上弯折板与所述第二上滑道滑动连接，所述第二下滑道上设有第二下弯折板，所述第二下弯折板与所述第二下滑道滑动连接，所述第二上弯折板和所述第二下弯折板上侧设有有第二上固定板，所述第二上固定板的一侧设有第二组末端执行器，所述第一组末端执行器的延伸方向与所述第二组末端执行器的延伸方向相反，且所述第一组末端执行器与所述第二组末端执行器之间具有第一高度差。其有益效果在于：所述第一组末端执行器与所述第二组末端执行器之间具有高度差，所述第一组末端执行器与所述第二组末端执行器在竖直方向上可以重叠，节约了在水平面上的占用面积。

进一步优选地，所述第一工艺模块和所述第二工艺模块之间具有第二高度差，所述第一高度差等于所述第二高度差。其有益效果在于：所述第一工艺模块和所述第二工艺模块之间的高度差与所述第一组末端执行器和所述第二组末端执行器之间的高度差相同，使得所述第一组末端执行器和所述第二组末端执行器能够完成晶圆的抓取和放置。

进一步优选地，所述第一组末端执行器包括第一末端执行器和第二末端执行器，所述第二组末端执行器包括第三末端执行器和第四末端执行器。

进一步优选地，所述第一层间工艺机械手和所述第二层间工艺机械手结构相同，所述第一层间工艺机械手包括第二竖直滑部和第二执行器台座，且所述第二执行器台座与所述第一执行器台座的结构相同。

优选地，所述片盒模块包括片盒机械手和片盒组，所述片盒机械手设置于所述片盒组和所述第一工艺模块之间。其有益效果在于：便于所述片盒机械手将晶圆从所述片盒搬运到所述第一工艺模块内。

进一步优选地，所述片盒机械手包括n个朝向相同的所述末端执行器，n为大于或等于2的自然数。其有益效果在于：便于同时从所述片盒组搬运多个晶圆。

进一步优选地，所述接口模块内置有接口机械手，所述接口机械手与所述片盒机械手结构相同。其有益效果在于：便于同时从所述第二层间工艺单元搬运多个晶圆。

优选地，所述第一工艺模块和所述第二工艺模块结构相同，所述第一工艺模块包括依次设置的第一层间工艺模块、层内工艺模块和第二层间工艺模块。其有益效果在于：所述第一工艺模块和所述第二工艺模块结构相同，简化了所述第一层间工艺机械手、所述层内工艺机械手组和所述第二层间工艺机械手的工艺控制。

进一步优选地，所述第一层间工艺模块包括第一层间工艺单元和第一层内传送单元，所述第一层间工艺单元位于所述片盒模块与所述第一层内传送单元之间。其有益效果在于：便于所述第一层间工艺单元从所述片盒模块接收晶圆和所述第一层内传送单元从所述第一层间工艺单元接收加工后的晶圆。

进一步优选地，所述第一层间工艺单元包括第一晶圆传输高精冷却控制单元组、第一晶圆传输单元组、第二晶圆传输单元组、第二晶圆传输高精冷却控制单元组、增粘单元组、晶圆缺陷检测单元组和第三晶圆传输高精冷却控制单元组，所述第一晶圆传输单元组设置于所述第一晶圆传输高精冷却控制单元组的上侧，所述第二晶圆传输单元组设置于所述第一晶圆传输单元组的上侧，所述第二晶圆传输高精冷却控制单元组设置于所述第二晶圆传输单元组的上侧，所述增粘单元组设置于所述第二晶圆传输高精冷却控制单元组的上侧，所述晶圆缺陷检测单元组设置于所述增粘单元组的上侧，所述第三晶圆传输高精冷却控制单元组设置于所述晶圆缺陷检测单元组的上侧。

进一步优选地，所述第一层内传送单元内置有第一高精冷却控制单元组，且所述第一高精冷却控制单元组与所述增粘单元组连接。

进一步优选地，所述层内工艺模块包括第一层内工艺单元和第二层内工艺单元，所述第一层内工艺单元与所述第一层间工艺模块连接，所述第二层内工艺单元与所述第二层间工艺模块连接。

进一步优选地，所述第一层内工艺单元包括第一高度层内工艺单元、第二高度层内工艺单元和第三高度层内工艺单元，所述第二高度层内工艺单元设置于所述第一高度层内工艺单元的上侧，所述第三高度层内工艺单元设置于所述第二高度层内工艺单元的上侧。

进一步优选地，所述第一高度层内工艺单元包括涂抗反射底层单元组和涂光刻胶单元组，所述涂光刻胶单元组设置于所述涂抗反射底层单元组的上侧，所述第二高度层内工艺单元包括涂抗反射顶层单元组和晶圆背面清洗单元组，所述晶圆背面清洗单元组设置于所述涂抗反射顶层单元组的上侧，所述第三高度层内工艺单元包括第一显影单元组。

进一步优选地，所述第二层内工艺单元包括第四高度层内工艺单元、第五高度层内工艺单元和第六高度层内工艺单元，所述第五高度层内工艺单元设置于所述第四高度层内工艺单元的上侧，所述第六高度层内工艺单元设置于所述第五高度层内工艺单元的上侧。

进一步优选地，所述第四高度层内工艺单元包括高温热处理单元组和第一热处理单元组，所述第一热处理单元组设置于所述高温热处理单元组的上侧，所述第五高度层内工艺单元包括第二热处理单元组和边缘曝光单元组，所述边缘曝光单元组设置于所述第二热处理单元组的上侧，所述第六高度层内工艺单元包括第二显影单元组和第三热处理单元组，所述第三热处理单元组设置于所述第而显影单元组的上侧。

进一步优选地，所述第二层间工艺模块包括第二层间工艺单元和第二层内传送单元，所述第二层间工艺单元和所述接口模块连接，所述第二层内传送单元与所述层内工艺模块连接。

进一步优选地，所述第二层间工艺单元包括第三晶圆传输单元组、晶圆表面清洗单元组、第四晶圆传输单元组、第四热处理单元组和第四晶圆传输高精冷却控制单元组，所述晶圆表面清洗单元组设置于所述第三晶圆传输单元组的上侧，所述第四晶圆传输单元组设置于所述晶圆表面清洗单元组的上侧，所述第四热处理单元组设置于所述第四晶圆传输单元组的上侧，所述第四晶圆传输高精冷却控制单元组设置于所述第四热处理单元组的上侧。

进一步优选地，所述层内工艺模块包括第一层内工艺单元和第二层内工艺单元，所述第一层内工艺单元与所述第一层间工艺模块连接，所述第二层内工艺单元与所述第二层间工艺模块连接，所述第二层内工艺单元自下而上分别包括第四高度层内工艺单元、第五高度层内工艺单元和第六高度层内工艺单元，所述第四高度层内工艺单元自下而上分别包括高温热处理单元组和第一热处理单元组，所述第二层间工艺模块包括第二层间工艺单元和第二层内传送单元，所述第二层间工艺单元和所述接口模块连接，所述第二层内传送单元包括第二高精冷却控制单元组，且所述第二高精冷却控制单元组与所述高温热处理单元组连接。

进一步优选地，所述层内工艺机械手组自下而上分别包括结构相同的第一层内工艺机械手、第二层内工艺机械手和第三层内工艺机械手，所述第一层内工艺单元自下而上分别包括第一高度层内工艺单元、第二高度层内工艺单元和第三高度层内工艺单元，所述第二层内工艺单元自下而上分别包括第四高度层内工艺单元、第五高度层内工艺单元和第六高度层内工艺单元，所述第一层内工艺机械手、所述第一高度层内工艺单元和所述第四高度层内工艺单元位于同一水平面内，所述第二层内工艺机械手、所述第二高度层内工艺单元和所述第五高度层内工艺单元位于同一水平面内，所述第三层内工艺机械手、所述第三高度层内工艺单元和所述第六高度层内工艺单元位于同一水平面内。其有益效果在于：便于第一层内工艺机械手搬运所述第一高度层内工艺单元和所述第四高度层内工艺单元内的晶圆，便于所述第二层内工艺机械手搬运所述第二高度层内工艺单元和所述第五高度层内工艺单元内的晶圆，便于所述第三层内工艺机械手搬运所述第三高度层内工艺单元和所述第六高度层内工艺单元内的晶圆。

附图说明

图1为本实用新型的涂胶显影设备的俯视图；

图2为本实用新型的层内工艺机械手组的结构示意图；

图3为本实用新型的第一类机械手的结构示意图；

图4为本实用新型的第一层内工艺机械手的结构示意图；

图5为本实用新型的第一层间工艺机械手的结构示意图；

图6为本实用新型的第一执行器台座的结构示意图；

图7为图1沿A-A’方向的剖视图。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。除非另外定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本实用新型所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本文中使用的“包括”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。

针对现有技术存在的问题，本实用新型的实施例提供了一种涂胶显影设备，参照图1，所述涂胶显影设备10包括片盒模块11、第一工艺模块12、第二工艺模块13和接口模块14，所述第一工艺模块12和所述第二工艺模块13的一端与所述片盒模块11连接，所述第一工艺模块12和所述第二工艺模块13的另一端与所述接口模块14连接，且所述第一工艺模块12和所述第二工艺模块13结构相同，所述第一工艺模块12和所述第二工艺模块13之间具有第二高度差，所述第一工艺模块12和所述第二工艺模块13之间设置有第一层间工艺机械手15、层内工艺机械手组16和第二层间工艺机械手17，所述第一层间工艺机械手15 与所述片盒模块11连接，所述第二层间工艺机械手17与所述接口模块14连接，所述层内工艺机械手组16与所述第二层间工艺机械手17连接，所述第一层间工艺机械手15、所述第二层间工艺机械手17和所述层内工艺机械手组16内的机械手均具有两组朝向相反的末端执行器(图中未标示)，所述第一工艺模块12 包括依次设置的第一层间工艺模块121、层内工艺模块122和第二层间工艺模块 123，所述第一层间工艺模块121包括第一层间工艺单元1211和第一层内传送单元1212，所述第一层间工艺单元1211位于所述片盒模块11与所述第一层内传送单元1212之间，所述层内工艺模块122包括第一层内工艺单元1221和第二层内工艺单元1222，所述第一层内工艺单元1221与所述第一层间工艺模块 121连接，所述第二层内工艺单元1222与所述第二层间工艺模块123连接，所述第二层间工艺模块123包括第二层间工艺单元1231和第二层内传送单元1232，所述第二层间工艺单元1231和所述接口模块14连接，所述第二层内传送单元 1232与所述层内工艺模块122连接。

本实用新型的一些实施例中，所述接口模块与光刻机连接。

本实用新型的一些实施例中，每组所述末端执行器的数量为m，m为大于或等于2的自然数。

图2为本实用新型一些具体实施例中所述层内工艺机械手组的结构示意图。参照图2，所述层内工艺机械手组16自下而上分别包括结构相同的第一层内工艺机械手161、第二层内工艺机械手162和第三层内工艺机械手163。

本实用新型的一些实施例中，参照图1，所述片盒模块11包括片盒机械手 111和片盒组112，所述片盒机械手111设置于所述片盒组112和所述第一工艺模块12之间，所述片盒组112包括第一片盒1121、第二片盒1122、第三片盒1123和第四片盒1124。

本实用新型的一些实施例中，参照图1，所述片盒机械手111包括n个朝向相同的所述末端执行器(图中未标示)，n为大于或等于2的自然数。

本实用新型的一些实施例中，参照图1，所述接口模块14内置有接口机械手141，所述接口机械手141与所述片盒机械手111结构相同。

图3为本实用新型一些具体实施例中第一类机械手的结构示意图。参照图1 和图3，所述接口机械手141和所述片盒机械手111的结构均与为第一类机械手 30相同，所述第一类机械手30包括竖直滑板31、水平滑板32和固定座33，所述固定座33的上表面设置有方向相同的左末端执行器331和右末端执行器32，所述固定座33内设有旋转轴(图中未标示)，所述旋转轴由电机(图中未标示) 驱动以使所述固定座33的上表面旋转，从而带动所述左末端执行器331和所述右末端执行器32旋转，所述旋转轴的转动方向与θ的旋转方向相同，所述左末端执行器331和所述右末端执行器332沿R1方向做伸缩运行，所述竖直滑板31 与所述水平滑板32滑动连接，且由电机(图中未标示)驱动以使所述滑动座带动所述竖直滑板31沿所述水平滑板32滑动，所述固定座33与所述竖直滑板31 滑动连接，且由电机(图中未标示)驱动以使所述固定座33沿所述竖直滑板31 滑动。所述接口机械手141和所述片盒机械手111均为本领域的公知技术，不再赘述。

图4为本实用新型一些具体实施例中第一层内工艺机械手的结构示意图，参照图4，所述第一层内工艺机械手40包括第一竖直滑部41、第一水平滑部42 和第一执行器台座43，所述第一竖直滑部41和所述第一水平滑部42为直板状，所述第一水平滑部42上侧设有两个平行设置的水平滑轨421，所述第一竖直滑部41下侧设有两个第一滑块(图中未标示)，两个所述第一水平滑块与两个所述水平滑轨421一一对应滑动连接，且两个所述水平滑轨421垂直于所述第一竖直滑部41，所述第一竖直滑部41的一侧设有两个平行设置的第一竖直滑轨 411。

图5为本实用新型一些具体实施例中第一层间工艺机械手的结构示意图。参照图5，所述第一层间工艺机械手50包括第二竖直滑部51和第二执行器台座 52，所述第二执行器台座52与所述第二竖直滑部51滑动连接，所述第二竖直滑部51为直板状，所述第二竖直滑部51的一侧设有两个平行设置的第二竖直滑轨511。

本实用新型的一些实施例中，所述第二层间工艺机械手与所述第一层间工艺机械手的结构相同，所述第二执行器台座与所述第一执行器台座的结构相同。

图6为本实用新型一些具体实施例中第一执行器台座的结构示意图。参照图4和图6，所述第一执行器台座43包括连接部431、第一执行部432和第二执行部433，所述连接部431包括承载部4311和竖直连接部4312，所述竖直连接部4312设置于所述承载部4311的一侧，所述竖直连接部4312背向所述第二执行部433的一侧设有两个第二滑块(图中未标示)，两个所述第二滑块与所述两个所述第一竖直滑轨411一一对应滑动连接。

本实用新型的一些优选实施例中，参照图6，承载部4311和所述竖直连接部4312均成长方形的板状，所述竖直连接部的4312的宽度小于所述承载部4311 的宽度，所述竖直连接部4312的一条长边与所述承载部4311的一条长边连接，且长度相同。

本实用新型的一些优选实施例中，参照图4和图6，所述竖直连接部4312 垂直于所述承载部4311，且所述竖直连接部与所述第一竖直滑部41平行，以使所述承载部4311能在保持水平的情况下竖直运动。

参照图6，所述承载部4311上侧设有执行部滑轨43111，所述执行部滑轨 43111的数量为两个，所述第一执行部432和所述第二执行部433设置于两个所述执行部滑轨43111的上侧，且所述第一执行部432、所述第二执行部433均与所述竖直连接部4312平行，所述第二执行部433与所述执行部滑轨43111固定连接，所述第一执行部432下侧设有执行部滑块4321，所述执行部滑块4321的数量为两个，且所述执行部滑块4321与所述执行部滑轨43111一对一对应滑动连接，以便于调节所述第一执行部432和所述第二执行部433之间的装配误差。

本实用新型的一些优选实施例中，参照图6，两个所述执行部滑轨43111各沿所述承载部4311的一条短边设置，且两个所述执行部滑轨43111均垂直于所述竖直连接部4312，以使两个所述执行部滑轨43111的行程最短。

本实用新型的一些优选实施例中，参照图6，所述第二执行部433固定于两个所述执行部滑轨43111的一端，且所述第一执行部432与所述第二执行部433 之间形成活动空间，以使所述第一执行部432能相对所述第二执行部433运动，便于调节所述第一执行部432与所述第二执行部433之间的相对位置。

参照图6，所述第一执行部432背向所述第二执行部433的一侧设有相互平行的第一上滑道4322和第一下滑道4323，所述第一上滑道4322上设有第一上弯折板43221，所述第一上弯折板43221与所述第一上滑道4322滑动连接，所述第一下滑道4323上设有第一下弯折板43231，所述第一下弯折板43231与所述第一下滑道4323滑动连接，所述第一上弯折板43221和所述第一下弯折板 43231上侧设置有第一上固定板4324，所述第一上弯折板43221和所述第一下弯折板43231共同固定所述第一上固定板4324，以增加所述第一上固定板4324 的稳定性，防止出现晃动的情况，所述第一上固定板4324的一侧设有第一组末端执行器43241，所述第一组末端执行器43241包括第一末端执行器432411和第二末端执行器432412，所述第一末端执行器432411和所述第二末端执行器 432412均为本领域的公知技术，在此不做赘述。

本实用新型的一些优选实施例中，参照图6，所述第一执行部432为长方体，所述第一上弯折板43221和所述第一下弯折板43231均成L状，能使所述第一上弯折板43221和所述第一下弯折板43231仅贴所述第一执行部432的一个面，从而减少了所述第一上弯折板43221和所述第一下弯折板43231的占用空间。

本实用新型的又一些优选实施例中，参照图6，所述第一上滑道4322和所述第一下滑道4323成长方体滑道，且所述第一上滑道4322和所述第一下滑道 4323均平行于所述第一执行部432的上表面，以使所述第一组末端执行器43241 能做水平移动。

本实用新型的又一些优选实施例中，参照图6，所述第一上弯折板43221与所述第一上滑道4322连接的一端设有第一内嵌滑块(图中未标示)，所述第一内嵌滑块可在所述第一上滑道4322内滑动，减少所述第一上弯折板43221与所述第一上滑道4322之间的摩擦力，便于所述第一上弯折板43221的滑动。

本实用新型的又一些优选实施例中，参照图6，所述第一下弯折板43231与所述第一下滑道4323连接的一端设有第二内嵌滑块(图中未标示)，所述第二内嵌滑块可在所述第一下滑道4323内滑动，减少所述第一下弯折板43231与所述第一下滑道4323之间的摩擦力，便于所述第一下弯折板432331的滑动。

本实用新型的又一些优选实施例中，参照图6，所述第一末端执行器432411 和所述第二末端执行器432412设置于所述第一上固定板4324同一端的两侧，且所述所述第一末端执行器432411和所述第二末端执行器432412位于同一平面内，以便于同时抓取或放置两片晶圆。

参照图6，所述第二执行部433背向所述第一执行部432的一侧设有相互平行的第二上滑道(图中未标示)和第二下滑道(图中未标示)，所述第二上滑道上设有第二上弯折板4331，所述第二上弯折板4331与所述第二上滑道滑动连接，所述第二下滑道上设有第二下弯折板4332，所述第二下弯折板4332与所述第二下滑道滑动连接，所述第二上弯折板4331和所述第二下弯折板4332上侧设有第二上固定板4333，所述第二上弯折板4331和所述第二下弯折板4332共同固定所述第二上固定板4333，以增加所述第二上固定板4333的稳定性，防止出现晃动的情况，所述第二上固定板4333的一侧设有第二组末端执行器4334，所述第二组末端执行器4334包括第三末端执行器43341和第四末端执行器43342，所述第三末端执行器43341和所述第四末端执行器43342均为本领域的公知技术，在此不做赘述。

本实用新型的一些优选实施例中，参照图6，所述第二执行部433为长方体，所述第二上弯折板4331和所述第二下弯折板4332均成L状，能使所述第二团上弯折板4331和所述第二下弯折板4332仅贴所述第二执行部的一个面，从而减少了所述第二上弯折板4331和所述第二下弯折板4332的占用空间。

本实用新型的又一些优选实施例中，参照图6，所述第二上滑道和所述第二下滑道成长方体滑道，且所述第二上滑道和所述第二下滑道均平行于所述第二执行部433的上表面，以使所述第二组末端执行器4334能做水平移动。

本实用新型的又一些优选实施例中，参照图6，所述第二上弯折板4331与所述第二上滑道连接的一端设有第三内嵌滑块(图中未标示)，所述第三内嵌滑块可在所述第二上滑道内滑动，减少所述第二上弯折板4331与所述第二上滑道之间的摩擦力，便于所述第二上弯折板4331的滑动。

本实用新型的又一些优选实施例中，参照图6，所述第二下弯折板4332与所述第二下滑道连接的一端设有第四内嵌滑块(图中未标示)，所述第四内嵌滑块可在所述第一下滑道内滑动，减少所述第二下弯折板4332与所述第二下滑道之间的摩擦力，便于所述第二下弯折板4332的滑动。

本实用新型的又一些优选实施例中，参照图6，所述第三末端执行器43341 和所述第四末端执行器43342设置于所述第二上固定板4333同一端的两侧，且所述所述第三末端执行器43341和所述第四末端执行器43342位于同一平面内，以便于同时抓取或放置两片晶圆。

参照图6，所述第一组末端执行器43241的延伸方向与所述第二组末端执行器4334的延伸方向相反，且所述第一组末端执行器43241位于所述第二组末端执行器4334的上侧，所述第一组末端执行器43241与所述第二组末端执行器 4334之间具有第一高度差，以使所述第一组末端执行器43241可以重叠到所述第二组末端执行器4334的上侧，充分利用了所述第一执行器台座43竖直方向上的空间，减少了在水平方向上占用的空间。

上述机械手均由电机驱动，由所述电机提供滑动的驱动力。

本实用新型的一些优选实施例中，参照图1和图6，所述第一组末端执行器 43241位于所述第二组末端执行器4334的上侧，且所述第一组末端执行器43241 的上表面最高点所在水平面到所述第二组末端执行器4334的上表面最高点所在水平面的距离为d，即所述第一高度差为d；所述第一工艺模块12的底表面最低点所在水平面高于所述第二工艺模块13的底表面最低点所在水平面，且两个水平面之间的距离为d，即所述第二高度差为d；所述第一高度差等于所述第二高度差，且所述第一工艺模块12和所述第二工艺模块13的整体结构、大小等完全相同，因此，所述第一工艺模块12内每个子模块的底表面最低点所在水平面均高于所述第二工艺模块13内相对应位置子模块的底表面最低点所在的水平面，且高度差也均为d，使得所述第一组末端执行器43241能够从所述第一工艺模块12内的子模块完成晶圆的抓取和放置，同时所述第二组末端执行器4334 能够从所述第二工艺模块13内相对应位置的子模块完成晶圆的抓取和放置。

本实用新型的一些优选实施例中，参照图6，所述第一工艺模块12和所述第二工艺模块13之间与所述第一组末端执行器43241和所述第二组末端执行器 4334之间存在相同的高度差，即所述第一高度差等于所述第二高度差，使得所述第一组末端执行器43241和所述第二组末端执行器4334抓取或放置晶圆时，在所述第二工艺模块13内子模块的高度与所述第二组末端执行器4334的高度适配的情况下，所述第一工艺模块12内不需要特别设置顶针机构来抬高子模块的位置来适配所述第一组末端执行器43241，或在所述第一工艺模块12内子模块的高度与所述第一组末端执行器43241的高度适配的情况下，所述第二工艺模块13内不需要特别的设置顶针机构来降低子模块的位置来适配所述第二组末端执行器4334，使得工艺控制变得简单。

图7为图1沿A-A’方向的剖视图。参照图7，所述第一层间工艺单元1211 包括第一晶圆传输高精冷却控制单元组12111、第一晶圆传输单元组12112、第二晶圆传输单元组12113、第二晶圆传输高精冷却控制单元组12114、增粘单元组12115、晶圆缺陷检测单元组12116和第三晶圆传输高精冷却控制单元组12117，所述第一晶圆传输单元组12112设置于所述第一晶圆传输高精冷却控制单元组 12111的上侧，所述第二晶圆传输单元组12113设置于所述第一晶圆传输单元组 12112的上侧，所述第二晶圆传输高精冷却控制单元组12114设置于所述第二晶圆传输单元组12113的上侧，所述增粘单元组12115设置于所述第二晶圆传输高精冷却控制单元组12114的上侧，所述晶圆缺陷检测单元组12116设置于所述增粘单元组12115的上侧，所述第三晶圆传输高精冷却控制单元组12117设置于所述晶圆缺陷检测单元组12116的上侧。

本实用新型的一些实施例中，参照图7，所述第一层内传送单元(图中未标示)内置有第一高精冷却控制单元组12121，且所述第一高精冷却控制单元组 12121与所述增粘单元组12115连接。

本实用新型的一些实施例中，参照图7，所述第一层内工艺单元1221包括第一高度层内工艺单元12211、第二高度层内工艺单元12212和第三高度层内工艺单元12213，所述第二高度层内工艺单元12212设置于所述第一高度层内工艺单元12211的上侧，所述第三高度层内工艺单元12213设置于所述第二高度层内工艺单元12212的上侧。

本实用新型的一些实施例中，所述第一高度层内工艺单元包括涂抗反射底层单元组和涂光刻胶单元组，所述涂光刻胶单元组设置于所述涂抗反射底层单元组的上侧。

本实用新型的一些实施例中，所述第二高度层内工艺单元包括涂抗反射顶层单元组和晶圆背面清洗单元组，所述晶圆背面清洗单元组设置于所述涂抗反射顶层单元组的上侧。

本实用新型的一些实施例中，所述第三高度层内工艺单元包括第一显影单元组。

本实用新型的一些实施例中，参照图7，所述第二层内工艺单元1222包括第四高度层内工艺单元12221、第五高度层内工艺单元12222和第六高度层内工艺单元12223，所述第五高度层内工艺单元12222设置于所述第四高度层内工艺单元12221的上侧，所述第六高度层内工艺单元12223设置于所述第五高度层内工艺单元12222的上侧。

本实用新型的一些实施例中，所述第四高度层内工艺单元包括高温热处理单元组和第一热处理单元组，所述第一热处理单元组设置于所述高温热处理单元组的上侧。

本实用新型的一些实施例中，所述第五高度层内工艺单元包括第二热处理单元组和边缘曝光单元组，所述边缘曝光单元组设置于所述第二热处理单元组的上侧。

本实用新型的一些实施例中，所述第六高度层内工艺单元包括第二显影单元组和第三热处理单元组，所述第三热处理单元组设置于所述第而显影单元组的上侧。

本实用新型的一些实施例中，参照图7，所述第二层间工艺单元1231包括第三晶圆传输单元组12311、晶圆表面清洗单元组12312、第四晶圆传输单元组 12313、第四热处理单元组12314和第四晶圆传输高精冷却控制单元组12315，所述晶圆表面清洗单元组12312设置于所述第三晶圆传输单元组12311的上侧，所述第四晶圆传输单元组12313设置于所述晶圆表面清洗单元组12312的上侧，所述第四热处理单元组12314设置于所述第四晶圆传输单元组12313的上侧，所述第四晶圆传输高精冷却控制单元组12315设置于所述第四热处理单元组 12314的上侧。

本实用新型的一些实施例中，参照图7，所述第二层内传送单元(图中未标示)包括第二高精冷却控制单元组12321，且所述第二高精冷却控制单元组12321 与所述高温热处理单元组(图中未标示)连接。

本实用新型的一些实施例中，所述第一层内工艺机械手、所述第一高度层内工艺单元和所述第四高度层内工艺单元位于同一水平面内，且所述第一层内工艺机械手上的末端执行器能够到达所述第一高度层内工艺单元和所述第四高度层内工艺单元的任意位置，所述第二层内工艺机械手、所述第二高度层内工艺单元和所述第五高度层内工艺单元位于同一水平面内，且所述第二层内工艺机械手上的末端执行器能够到达所述第二高度层内工艺单元和所述第五高度层内工艺单元的任意位置，所述第三层内工艺机械手、所述第三高度层内工艺单元和所述第六高度层内工艺单元位于同一水平面内，所述第三层内工艺机械手的末端执行器能够到达所述第三高度层内工艺单元和所述第六高度层内工艺单元的任意位置。

本实用新型的一些实施例中，所述第一晶圆传输高精冷却控制单元组、所述第二晶圆传输高精冷却控制单元组、所述第三晶圆传输高精冷却控制单元组和所述第四晶圆传输高精冷却控制单元组均包括至少两个晶圆传输高精冷却控制单元，具体地，所述第一晶圆传输高精冷却控制单元组、所述第二晶圆传输高精冷却控制单元组、所述第三晶圆传输高精冷却控制单元组和所述第四晶圆传输高精冷却控制单元组均包括两个所述晶圆传输高精冷却控制单元，且所述第一晶圆传输高精冷却控制单元组、所述第二晶圆传输高精冷却控制单元组和所述第三晶圆传输高精冷却控制单元组从所述第一层间工艺单元延伸至所述第一层内传送单元内，所述第四晶圆传输高精冷却控制单元组从所述第二层间工艺单元延伸至所述第二层内传送单元内，所述晶圆传输高精冷却控制单元为本领域公知技术，细节不再赘述。

本实用新型的一些实施例中，所述第一晶圆传输单元组和所述第三晶圆传输单元组均包括至少两个晶圆传输单元，具体地，所述第一晶圆传输单元组和所述第三晶圆传输单元组均包括两个所述晶圆传输单元，且所述第一晶圆传输单元组从所述第一层间工艺单元延伸至所述第一层内传送单元内，第一高精冷却控制单元组设置于所述第一晶圆传输单元组的上侧，所述第三晶圆传输单元从所述第二层间工艺单元延伸至所述第二层内传送单元内。

本实用新型的一些实施例中，所述第二晶圆传输单元组和所述第四晶圆传输单元组包括至少两个晶圆传输单元，具体地，所述第一晶圆传输单元组和所述第三晶圆传输单元组均包括两个所述晶圆传输单元，所述晶圆传输单元为本领域公知技术，细节不再赘述。

本实用新型的一些实施例中，所述第一高精冷却控制单元组和所述第二高精冷却控制单元组包括至少两个高精冷却控制单元，具体地，所述第一高精冷却控制单元组和所述第二高精冷却控制单元组包括两个所述高精冷却控制单元，所述高精冷却控制单元为本领域公知技术，细节不再赘述。

本实用新型的一些实施例中，所述增粘单元组包括至少两个增粘单元，具体地，所述增粘单元组包括四个所述增粘单元，所述增粘单元为本领域公知技术，细节不再赘述。

本实用新型的一些实施例中，所述晶圆缺陷检测单元组包括至少两个晶圆缺陷检测单元，具体地，所述晶圆缺陷检测单元组包括两个所述晶圆缺陷检测单元，所述晶圆缺陷检测单元为本领域公知技术，细节不再赘述。

本实用新型的一些实施例中，所述涂抗反射底层单元组包括至少两个晶圆缺陷检测单元，具体地，所述涂抗反射底层单元组包括两个所述晶圆缺陷检测单元，所述晶圆缺陷检测单元为本领域公知技术，细节不再赘述。

本实用新型的一些实施例中，所述涂光刻胶单元组包括至少两个涂光刻胶单元，具体地，所述涂光刻胶单元组包括两个所述涂光刻胶单元，所述涂光刻胶单元为本领域公知技术，细节不再赘述。

本实用新型的一些实施例中，所述涂抗反射顶层单元组包括至少两个涂抗反射顶层单元，具体地，所述涂抗反射顶层单元组包括两个所述涂抗反射顶层单元，所述涂抗反射顶层单元为本领域公知技术，细节不再赘述。

本实用新型的一些实施例中，所述晶圆背面清洗单元组包括至少两个晶圆背面清洗单元，具体地，所述晶圆背面清洗单元组包括两个所述晶圆背面清洗单元，所述晶圆背面清洗单元为本领域公知技术，细节不再赘述。

本实用新型的一些实施例中，所述第一显影单元组和第二显影单元组均包括至少两个显影单元，具体地，所述第一显影单元组包括四个所述显影单元，所述第二显影单元组包括两个所述显影单元，所述显影单元为本领域公知技术，细节不再赘述。

本实用新型的一些实施例中，所述高温热处理单元组包括至少两个高温热处理单元，具体地，所述高温热处理单元组包括六个所述高温热处理单元，所述高温热处理单元为本领域公知技术，细节不再赘述。

本实用新型的一些实施例中，所述第一热处理单元组、所述第二热处理单元组、所述第三热处理单元组和所述第四热处理单元组均包括至少两个热处理单元，具体地，所述第一热处理单元组、所述第二热处理单元组、所述第三热处理单元组和所述第四热处理单元组均包括六个所述热处理单元，所述热处理单元为本领域公知技术，细节不再赘述。

本实用新型的一些实施例中，所述边缘曝光单元组包括至少两个边缘曝光单元，具体地，所述边缘曝光单元组包括六个所述边缘曝光单元，所述边缘曝光单元为本领域公知技术，细节不再赘述。

本实用新型的一些实施例中，所述晶圆表面清洗单元组包括至少两个晶圆表面清洗单元，具体地，所述晶圆表面清洗单元组包括两个所述晶圆表面清洗单元，所述晶圆表面清洗单元为本领域公知技术，细节不再赘述。

本实用新型中所述第一工艺模块和所述第二工艺模块结构相同，所述第一工艺模块和所述第二工艺模块的工艺流程相同，现仅对所述第一工艺模块的工艺流程进行阐述。

本实用新型工作时，参照图1、图2和图7，具体过程如下：

所述片盒组112内装载有晶圆，所述片盒机械手111从所述片盒组112内抓取晶圆，将晶圆传递到所述第一晶圆传输单元组12112内，然后由所述第一层间工艺机械手15将晶圆传递到所述增粘单元组12115完成增粘工艺，完成增粘工艺后，所述第一层间工艺机械手15将晶圆传递到所述第一晶圆传输高精冷却控制单元组12111；

所述第一层内工艺机械手161从所述第一晶圆传输高精冷却控制单元组 12111内抓取晶圆，然后将晶圆依次传递到所述涂抗反射底层单元组、所述高温热处理单元组、所述第二高精冷却控制单元组12321、所述涂光刻胶单元组、所述第一热处理单元组和所述第一晶圆传输单元组12112；

所述第一层间工艺机械手15从所述第一晶圆传出单元组12112抓取晶圆，然后将晶圆传递到所述第二晶圆传输高精冷却控制单元组12114；

所述第二层内工艺机械手162从所述第二晶圆传输高精冷却控制单元组 12114内抓取晶圆，然后将晶圆依次传递到所述涂抗反射顶层单元组、所述第二热处理单元组、所述第一高精冷却控制单元组12121、所述边缘曝光单元组、所述晶圆背面清洗单元组和所述第四晶圆传输单元组12313；

所述接口机械手141从所述第四晶圆传输单元组12313内抓取晶圆，然后将晶圆传递到光刻机中完成光刻工艺，光刻工艺完成后，所述接口机械手141 从所述光刻机中抓取晶圆，然后将晶圆传递到所述第四晶圆传输单元组12313；

所述第二层间工艺机械手17从所述第四晶圆传输单元组12313内抓取晶圆，然后将晶圆依次传递给所述晶圆表面清洗单元组12312、所述第四热处理单元组 12314和所述第四晶圆传输高精冷却控制单元组12315；

所述第三层内工艺机械手163从所述第四晶圆传输高精冷却控制单元组 12315内抓取晶圆，然后将晶圆依次传递到所述第二显影单元组、所述第三热处理单元组和所述第三晶圆传输高精冷却控制单元组12117；

所述第一层间工艺机械手15从所述第三晶圆传输高精冷却控制单元组 12117内抓取晶圆，然后将晶圆依次传递到所述晶圆缺陷检测单元组12116和所述第二晶圆传输单元组12113；

所述片盒机械手111从所述第二晶圆传输单元组12113内抓取晶圆，然后将晶圆传递给所述片盒组112，以完成一次光刻工艺流程。

虽然在上文中详细说明了本实用新型的实施方式，但是对于本领域的技术人员来说显而易见的是，能够对这些实施方式进行各种修改和变化。但是，应理解，这种修改和变化都属于权利要求书中所述的本实用新型的范围和精神之内。而且，在此说明的本实用新型可有其它的实施方式，并且可通过多种方式实施或实现。

Claims (28)

1.一种涂胶显影设备，其特征在于，包括片盒模块、第一工艺模块、第二工艺模块和接口模块，所述第一工艺模块和所述第二工艺模块的一端与所述片盒模块连接，所述第一工艺模块和所述第二工艺模块的另一端与所述接口模块连接，所述第一工艺模块和所述第二工艺模块之间设置有第一层间工艺机械手、层内工艺机械手组和第二层间工艺机械手，所述第一层间工艺机械手、所述第二层间工艺机械手和所述层内工艺机械手组内的机械手均具有两组朝向相反的末端执行器，每组所述末端执行器的数量为m，m为大于或等于2的自然数。

2.根据权利要求1所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述层内工艺机械手组自下而上分别包括结构相同的第一层内工艺机械手、第二层内工艺机械手和第三层内工艺机械手。

3.根据权利要求2所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述第一层内工艺机械手包括第一竖直滑部、第一水平滑部和第一执行器台座，所述第一竖直滑部设置于所述第一水平滑部的上侧，且所述第一竖直滑部与所述第一水平滑部滑动连接，所述第一执行器台座设置于所述第一竖直滑部的一侧。

4.根据权利要求3所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述第一执行器台座包括连接部、第一执行部和第二执行部。

5.根据权利要求4所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述连接部包括承载部和竖直连接部，所述竖直连接部设置于所述承载部的一侧，所述竖直连接部与所述第一竖直滑部滑动连接。

6.根据权利要求5所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述承载部的上侧设有执行部滑轨，所述执行部滑轨垂直于所述竖直连接部，所述第一执行部和所述第二执行部设置于所述执行部滑轨的上侧，且所述第一执行部、所述第二执行部均与所述竖直连接部平行，所述第二执行部与所述执行部滑轨固定连接，所述第一执行部下侧设有执行部滑块，且所述执行部滑块与所述执行部滑轨滑动连接。

7.根据权利要求6所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述第一执行部背向所述第二执行部的一侧设有第一上滑道和第一下滑道，所述第一上滑道上设有第一上弯折板，所述第一上弯折板与所述第一上滑道滑动连接，所述第一下滑道上设有第一下弯折板，所述第一下弯折板与所述第一下滑道滑动连接，所述第一上弯折板和所述第一下弯折板上侧设置有第一上固定板，所述第一上固定板的一侧设有第一组末端执行器。

8.根据权利要求6所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述第二执行部背向所述第一执行部的一侧设有第二上滑道和第二下滑道，所述第二上滑道上设有第二上弯折板，所述第二上弯折板与所述第二上滑道滑动连接，所述第二下滑道上设有第二下弯折板，所述第二下弯折板与所述第二下滑道滑动连接，所述第二上弯折板和所述第二下弯折板上侧设有有第二上固定板，所述第二上固定板的一侧设有第二组末端执行器。

9.根据权利要求6所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述第一执行部背向所述第二执行部的一侧设有第一上滑道和第一下滑道，所述第一上滑道上设有第一上弯折板，所述第一上弯折板与所述第一上滑道滑动连接，所述第一下滑道上设有第一下弯折板，所述第一下弯折板与所述第一下滑道滑动连接，所述第一上弯折板和所述第一下弯折板上侧设置有第一上固定板，所述第一上固定板的一侧设有第一组末端执行器，所述第二执行部背向所述第一执行部的一侧设有第二上滑道和第二下滑道，所述第二上滑道上设有第二上弯折板，所述第二上弯折板与所述第二上滑道滑动连接，所述第二下滑道上设有第二下弯折板，所述第二下弯折板与所述第二下滑道滑动连接，所述第二上弯折板和所述第二下弯折板上侧设有有第二上固定板，所述第二上固定板的一侧设有第二组末端执行器，所述第一组末端执行器的延伸方向与所述第二组末端执行器的延伸方向相反，且所述第一组末端执行器与所述第二组末端执行器之间具有第一高度差。

10.根据权利要求9所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述第一工艺模块和所述第二工艺模块之间具有第二高度差，所述第一高度差等于所述第二高度差。

11.根据权利要求9所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述第一组末端执行器包括第一末端执行器和第二末端执行器，所述第二组末端执行器包括第三末端执行器和第四末端执行器。

12.根据权利要求3所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述第一层间工艺机械手和所述第二层间工艺机械手结构相同，所述第一层间工艺机械手包括第二竖直滑部和第二执行器台座，且所述第二执行器台座与所述第一执行器台座的结构相同。

13.根据权利要求1所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述片盒模块包括片盒机械手和片盒组，所述片盒机械手设置于所述片盒组和所述第一工艺模块之间。

14.根据权利要求13所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述片盒机械手包括n个朝向相同的所述末端执行器，n为大于或等于2的自然数。

15.根据权利要求14所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述接口模块内置有接口机械手，所述接口机械手与所述片盒机械手结构相同。

16.根据权利要求1所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述第一工艺模块和所述第二工艺模块结构相同，所述第一工艺模块包括依次设置的第一层间工艺模块、层内工艺模块和第二层间工艺模块。

17.根据权利要求16所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述第一层间工艺模块包括第一层间工艺单元和第一层内传送单元，所述第一层间工艺单元位于所述片盒模块与所述第一层内传送单元之间。

18.根据权利要求17所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述第一层间工艺单元自下而上分别包括第一晶圆传输高精冷却控制单元组、第一晶圆传输单元组、第二晶圆传输单元组、第二晶圆传输高精冷却控制单元组、增粘单元组、晶圆缺陷检测单元组和第三晶圆传输高精冷却控制单元组。

19.根据权利要求18所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述第一层内传送单元内置有第一高精冷却控制单元组，且所述第一高精冷却控制单元组与所述增粘单元组连接。

20.根据权利要求16所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述层内工艺模块包括第一层内工艺单元和第二层内工艺单元，所述第一层内工艺单元与所述第一层间工艺模块连接，所述第二层内工艺单元与所述第二层间工艺模块连接。

21.根据权利要求20所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述第一层内工艺单元自下而上分别包括第一高度层内工艺单元、第二高度层内工艺单元和第三高度层内工艺单元。

22.根据权利要求21所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述第一高度层内工艺单元自下而上分别包括涂抗反射底层单元组和涂光刻胶单元组，所述第二高度层内工艺单元自下而上分别包括涂抗反射顶层单元组和晶圆背面清洗单元组，所述第三高度层内工艺单元包括第一显影单元组。

23.根据权利要求20所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述第二层内工艺单元自下而上分别包括第四高度层内工艺单元、第五高度层内工艺单元和第六高度层内工艺单元。

24.根据权利要求23所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述第四高度层内工艺单元自下而上分别包括高温热处理单元组和第一热处理单元组，所述第五高度层内工艺单元自下而上分别包括第二热处理单元组和边缘曝光单元组，所述第六高度层内工艺单元自下而上分别包括第二显影单元组和第三热处理单元组。

25.根据权利要求16所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述第二层间工艺模块包括第二层间工艺单元和第二层内传送单元，所述第二层间工艺单元和所述接口模块连接，所述第二层内传送单元与所述层内工艺模块连接。

26.根据权利要求25所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述第二层间工艺单元自下而上分别包括第三晶圆传输单元组、晶圆表面清洗单元组、第四晶圆传输单元组、第四热处理单元组和第四晶圆传输高精冷却控制单元组。

27.根据权利要求16所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述层内工艺模块包括第一层内工艺单元和第二层内工艺单元，所述第一层内工艺单元与所述第一层间工艺模块连接，所述第二层内工艺单元与所述第二层间工艺模块连接，所述第二层内工艺单元自下而上分别包括第四高度层内工艺单元、第五高度层内工艺单元和第六高度层内工艺单元，所述第四高度层内工艺单元自下而上分别包括高温热处理单元组和第一热处理单元组，所述第二层间工艺模块包括第二层间工艺单元和第二层内传送单元，所述第二层间工艺单元和所述接口模块连接，所述第二层内传送单元包括第二高精冷却控制单元组，且所述第二高精冷却控制单元组与所述高温热处理单元组连接。

28.根据权利要求20所述的涂胶显影设备，其特征在于，所述层内工艺机械手组自下而上分别包括结构相同的第一层内工艺机械手、第二层内工艺机械手和第三层内工艺机械手，所述第一层内工艺单元自下而上分别包括第一高度层内工艺单元、第二高度层内工艺单元和第三高度层内工艺单元，所述第二层内工艺单元自下而上分别包括第四高度层内工艺单元、第五高度层内工艺单元和第六高度层内工艺单元，所述第一层内工艺机械手、所述第一高度层内工艺单元和所述第四高度层内工艺单元位于同一水平面内，所述第二层内工艺机械手、所述第二高度层内工艺单元和所述第五高度层内工艺单元位于同一水平面内，所述第三层内工艺机械手、所述第三高度层内工艺单元和所述第六高度层内工艺单元位于同一水平面内。

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