CN211628002U - 光阻容纳装置和光阻供应系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种光阻容纳装置，包括第一容纳腔，所述第一容纳腔内侧贴合有四氟树脂层，所述第一容纳腔的顶端具有惰性气体入口、进料口和第一出料口，所述第一出料口通过由四氟树脂制成的导液管与所述容纳腔内部连通。本实用新型还涉及一种光阻供应系统。

Description

光阻容纳装置和光阻供应系统

技术领域

本实用新型涉及光阻供应技术领域，尤其涉及一种光阻容纳装置和光阻供应系统。

背景技术

在半导体显示制造工艺中，阵列工艺一直被认为是半导体显示屏制造过程中的关键工艺，而光刻工序又被公认是阵列工艺中的关键控制工序，在整个工艺过程中光刻被多次使用，其工序稳定性和可靠性对半导体显示屏的良率、品质和成本有着决定性的影响。

有机电致发光(简称OLED)是新一代半导体显示技术，其中的光刻工艺要求更高。光刻工序是一个非常繁杂的过程，其本质是把需要的像素电路从图形的方式化学感光、刻蚀和等离子注入方式复制到半导体显示用的基板上：首先使用光阻涂布机台在半导体显示用基板或柔性基板上涂布一层光敏材料--阵列用光阻，再用紫外光透过预设图形的掩膜版照射在光阻层上使其发生光化学反应，再利用显影技术将图形转移到基板上。如果阵列光阻不稳定或者出现偏差，会影响后续的刻蚀工序，从而是光刻工序良率降低，报废品增多，成本上升。故在阵列用光阻涂布工序是阵列工艺的良率控制的关键。

为了保证涂布工序的质量，都会有阵列光阻供应装置配合光阻涂布机台。在目前平板显示光阻供应装置中需要大量使用阵列用光阻，光阻一般存放在一光阻桶中，通过桶口和盖子把阵列用光阻桶并联接入光阻涂布机台，一台涂布机台会有两桶交替更换使用。光阻桶中的内部有塑料内袋，其中充满光阻，塑料内袋上部有开口，通过在塑料内袋和桶壁间加压将光阻挤出到涂布机台上，进行涂布工序。

但阵列光阻快使用完时因为塑料内袋的曲折变形，部分光阻残液留在塑料内袋造成光阻浪费，而且由于半导体显示新技术对光阻的异物颗粒控制要求更高，原有包装桶增加了品质不稳定的因素，造成阵列工艺良率的难于控制。

实用新型内容

为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种光阻容纳装置和光阻供应系统，解决了内衬塑料袋变形造成光阻部分残留的浪费的问题。

为了达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种光阻容纳装置，包括第一容纳腔，所述第一容纳腔内侧贴合有四氟树脂层，所述第一容纳腔的顶端具有惰性气体入口第一出料口，所述第一出料口通过由四氟树脂制成的导液管与所述容纳腔内部连通，所述第一容纳腔的侧面设置有进料口。

可选的，所述第一容纳腔的外侧设置有遮光层。

可选的，所述第一容纳腔额壳体由内到外包括所述四氟树脂层和遮光层，所述遮光层采用硬质材料制成。

可选的，所述惰性气体入口处设置有进气阀，所述第一出料口处设置有出料阀。

本实用新型实施例还提供一种光阻供应系统，包括光阻制备装置以及上述的光阻容纳装置，所述光阻制备装置通过输出管道与至少一个所述光阻容纳装置连通。

可选的，所述光阻制备装置包括第二容纳腔，所述第二容纳腔的内侧贴合有四氟树脂层，所述第二容纳腔的内部设置有将所述第二容纳腔内的原料混合形成光阻的混合结构，所述第二容纳腔的顶端设置有与所述第二容纳腔内部连通，使得所述第二容纳腔内部的压力保持正压状态的稳压结构，所述第二容纳腔底部设置有与所述输出管道连通的出料口，所述管道上设置有输出阀。

可选的，所述稳压结构包括设置于所述第二容纳腔顶端的、相互独立的进气口和出气口，所述进气口设置有进气阀，所述出气口设置有出气阀，所述稳压结构还包括与所述进气阀和所述出气阀连接的自动稳压平衡器，所述自动稳压平衡器用于控制所述进气阀和所述出气阀的开度以保持所述第二容纳腔内的压力保持正压状态。

可选的，所述混合结构包括位于所述第二容纳腔内部的搅拌桨，以及控制所述搅拌桨转动的电机。

可选的，还包括回流管道，所述回流管道的一端连接于所述第二容纳腔的顶端，所述回流管道的另一端连接于所述输出管道上位于所述输出阀靠近所述第二容纳腔的部分，所述回流管道上设置有回流控制阀。

可选的，还包括用于容纳所述光阻容纳装置的洁净密闭容纳装置。

可选的，还包括用于对输入所述光阻容纳装置内的光阻的重量进行称重的自动称重结构，所述自动称重结构设置于所述洁净密闭容纳装置内，所述自动称重结构包括用于承载所述光阻容纳装置的承载平台。

本实用新型的有益效果是：四氟树脂层与第一容纳腔贴合，从而避免了因内衬袋的褶皱造成部分光阻的残留，减少浪费，减少了环境污染。

附图说明

图1表示传统技术中的光阻桶的结构示意图；

图2表示本实用新型实施例中光阻容纳装置结构示意图；

图3表示本实用新型实施例中光阻容纳装置顶端示意图；

图4表示本实用新型实施例中光阻供应装置结构示意图。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例的附图，对本实用新型实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本实用新型的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在目前平板显示光阻供应装置中需要大量使用阵列用光阻，光阻一般存放在如图1所示的光阻桶1中，通过桶口和盖子2把阵列用光阻桶并联接入光阻涂布机台，一台涂布机台会有两个光阻桶交替更换使用。光阻桶中的内部内衬有塑料内袋，塑料内袋内充满光阻，塑料内袋的上部有开口，并且开口处有一根汲液管，通过在塑料内袋和桶壁间加压将光阻通过汲液管挤出到涂布机台上，进行涂布工序。

但阵列光阻快使用完时因为塑料内衬袋的曲折变形，部分光阻残液留在塑料内袋造成光阻浪费，而且由于半导体显示新技术对光阻的异物颗粒控制要求更高，原有包装桶增加了品质不稳定的因素，造成阵列工艺良率的难于控制。

针对上述问题，本实施例提供一种光阻容纳装置，参考图2和图3，包括第一容纳腔1，所述第一容纳腔1内侧贴合有四氟树脂层11，所述第一容纳腔1的顶端具有惰性气体入口13第一出料口15，所述第一出料口15通过由四氟树脂制成的导液管4与所述第一容纳腔1内部连通，所述第一容纳腔的侧面设置有进料口。

相对于传统的内衬袋与光阻桶的桶壁独立设置的方式，本实施例中，所述四氟树脂层11与所述第一容纳腔1贴合，且是通过在所述第一容纳腔1内部通入惰性气体进行加压、以导出光阻，避免了四氟树脂层11变形造成了光阻残料，减少浪费，减少了环境污染。

本实施例中采用四氟树脂层11代替传统的塑料内衬袋，四氟树脂就要较高的耐受性和高纯性，难以被光阻溶解，且减少了由于所述光阻容纳装置01本身的杂质的释放，从而减少了对光阻的污染，保证光阻的品质。

本实施例中，所述惰性气体采用N₂，在加压以使得光阻导出的同时，起到保护光阻的作用，形成氮气保护环境，避免空气对光阻的污染。

本实施例中，所述第一容纳腔1的外侧设置有遮光层12。

光阻比较敏感，会与一些光线产生反应，而影响光阻的质量，所述遮光层12的设置可以保证对于特殊光线(例如紫外光)敏感的光阻的品质稳定，减少外界不同光线对于光阻感光性能的影响。

所述第一容纳腔1的具体结构形式可以有多种，可以是在所述第一容纳腔1的内侧设置有所述四氟树脂层11，在所述第一容纳腔1的外侧设置有所述遮光层12，而所述四氟树脂层11和所述遮光层12之间设置有不锈钢或者金属制成的加强层，即所述第一容纳腔1的壳体至少由三层结构组成，所述第一容纳腔1的强度由所述加强层来实现，所述四氟树脂层11和所述遮光层12的强度不做限定，但并不以此为限。

在本实施例的一实施方式中，所述第一容纳腔1的壳体由内到外包括所述四氟树脂层11和遮光层12，所述遮光层12采用硬质材料制成。

所述第一容纳腔1的壳体由两层结构组成，所述遮光层12采用具有预设硬度的硬质材料构成，在实现遮光的同时，保证了所述第一容纳腔1的强度这样可以简化所述第一容纳腔1的结构，并且避免了不锈钢材质对光阻的品质造成的影响。

本实施例中，所述惰性气体入口13处设置有进气阀2，所述第一出料口处15设置有出料阀3。

所述光阻容纳装置还包括用于控制所述进气阀2的开度以调节进入所述光阻容纳装置内的惰性气体的压力的第一压力调节结构，以及用于控制所述出料阀3的开度以调节从所述第一出料口15导出的光阻的压力的第二压力调节结构。

通过所述第一压力调节结构的设置可以调节进入所述光阻容纳装置内的惰性气体的压力，从而可以对从所述第一出料口15导出的光阻的压力进行粗调，使得惰性气体以预设流速进入所述光阻容纳装置内，进而使得光阻以预设的流速从所述第一出料口15导出，即在宏观上保证从所述第一出料口15导出的光阻的流速的稳定，通过所述第二压力调节结构的设置，对从所述第一出料口导出的光阻的压力进一步进行调节控制，可以在微观上保证从所述第一出料口15导出的光阻的流速的稳定，进而在客户设备端使用时可以保证光阻以稳定的流量进入涂布机台，提高涂布机台进入光阻的稳定性，从而保证涂布工序光阻膜层的厚度稳定性。

所述进气阀2和所述出气阀3均可以采用电磁阀，但并不以此为限。

如图4所示，本实用新型实施例还提供一种光阻供应系统，包括光阻制备装置02以及上述的光阻容纳装置01，所述光阻制备装置02通过输出管道5与至少一个所述光阻容纳装置01连通。

通过输出管道5的自动联动控制，实现自动化灌装，避免外来杂质源(人员、未过滤空气等)对光阻品质的影响。

本实施例中，所述光阻制备装置02包括第二容纳腔，所述第二容纳腔的内侧贴合有四氟树脂层，所述第二容纳腔的内部设置有将所述第二容纳腔内的原料混合形成光阻的混合结构6，所述第二容纳腔的顶端设置有与所述第二容纳腔内部连通，使得所述第二容纳腔内部的压力保持正压状态的稳压结构7，所述第二容纳腔底部设置有与所述输出管道5连通的出料口，所述输出管道5上设置有输出阀51。

所述输出阀51的设置可以控制光阻的输出流速，从而通过流速稳定控制保证产品不发生大的品质波动和杂质引入。

所述第一容纳腔1内侧设置有四氟树脂层，所述第二容纳腔内侧设置有四氟树脂层，减少所述光阻制备装置02本身的杂质的释放，且避免被光阻溶解，减少光阻的污染，保证光阻的品质。

所述第二容纳腔的容积远大于所述第一容纳腔1的容积，所述光阻制备装置02能保证大量生产光阻，减少光阻生产因批次频繁而造成供应客户时的品质波动。

本实施例的一实施方式中，提升了6～10倍于传统的光阻储存罐的容积(但并不以此为限)，从而大大减少现有光阻批次生产次数，保证了半导体显示高世代线的产品品质和良率。

所述混合结构6的设置，保证了光阻的均一性。

本实施例中，所述稳压结构7包括设置于所述第二容纳腔顶端的、相互独立的进气口和出气口，所述进气口设置有进气阀，所述出气口设置有出气阀，所述稳压结构7还包括与所述进气阀和所述出气阀连接的自动稳压平衡器，所述自动稳压平衡器用于控制所述进气阀和所述出气阀的开度以保持所述第二容纳腔内的压力保持正压状态。

所述稳压结构的设置，保证了所述光阻制备装置02内的压力的稳定，保证了光阻的品质。

本实施例中，所述混合结构6包括位于所述第二容纳腔内部的搅拌桨，以及控制所述搅拌桨转动的电机。

光阻主要由树脂(resin)，感光剂(sensitizer)，溶剂(solvent)三种成分混合而成，在所述电机的控制下，使得所述搅拌桨以预设速度转动，保证光阻的混合均匀。本实施例中，所述混合结构6还包括用于调节所述搅拌桨转速的调节部，以利于控制搅拌桨的转速。

本实施例中，还包括回流管道8，所述回流管道8的一端连接于所述第二容纳腔的顶端，所述回流管道8的另一端连接于所述输出管道5上位于所述输出阀靠近所述第二容纳腔的部分，所述回流管道8上设置有回流控制阀81。

所述回流管道8与所述混合结构6相配合可以进一步有效的保证光阻的均一性。

需要说明的是，所述回流管道8的回流控制阀81始终处于打开状态，使得所述光阻制备装置02内的光阻处于动态，以保证光阻的均一性，在光阻输入所述光阻容纳装置01进行灌装的过程中，可以减小所述回流控制阀81的开度、以保证灌装的顺利进行，在灌装结束后，可以增大所述回流控制阀81的开度，从而有效的保证光阻的均一性。

需要说明的是，所述回流管道8以及所述输出管道5的内侧均内衬四氟树脂层，以使得光阻处于洁净环境内，保证光阻品质稳定准确进入灌装装置。

本实施例中，还包括用于容纳所述光阻容纳装置01的洁净密闭容纳装置03。

洁净密闭容纳装置03的设置，避免异物的光阻的污染，保证光阻的品质，所述密闭容纳装置03的内侧可以内衬四氟树脂层，避免洁净密闭容纳装置03本身的杂质对光阻的影响，所述洁净比密闭容纳装置03的内部可以通入N₂，避免空气对光阻的污染。

四氟树脂层还具有很好的易于清洗特性，通过专用清洗液的使用保证光阻制备装置02、输出管道5、回流管道8和光阻容纳装置01的重复使用，降低成本，减少环境污染，同时保证光阻品质不会有变化。

本实施例中，还包括用于对输入所述光阻容纳装置01内的光阻的重量进行称重的自动称重结构9，所述自动称重结构9设置于所述洁净密闭容纳装置03内，所述自动称重结构9包括用于承载所述光阻容纳装置01的承载平台。

所述自动称重结构9的设置可以有多种，本实施例中，所述自动称重结构9包括称重传感器和称重显示器，所述称重传感器设置于所述承载平台的承载面上，所述称重显示器设置于所述承载平台的侧面，便于观看。

所述自动称重结构9的设置便于控制输入所述光阻容纳装置01内的光阻的重量为预设重量，且避免了光阻的溢出。

所述预设重量可根据实际需要设定。

以上所述为本实用新型较佳实施例，需要说明的是，对于本领域技术人员来说，在不脱离本实用新型所述原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型保护范围。

Claims (11)

1.一种光阻容纳装置，其特征在于，包括第一容纳腔，所述第一容纳腔内侧贴合有四氟树脂层，所述第一容纳腔的顶端设置有相互独立的惰性气体入口和第一出料口，所述第一出料口通过由四氟树脂制成的导液管与所述容纳腔内部连通，所述第一容纳腔的侧面设置有进料口。

2.根据权利要求1所述的光阻容纳装置，其特征在于，所述第一容纳腔的外侧设置有遮光层。

3.根据权利要求1所述的光阻容纳装置，其特征在于，所述第一容纳腔的壳体由内到外包括所述四氟树脂层和遮光层，所述遮光层采用硬质材料制成。

4.根据权利要求1所述的光阻容纳装置，其特征在于，所述惰性气体入口处设置有进气阀，所述第一出料口处设置有出料阀。

5.一种光阻供应系统，其特征在于，包括光阻制备装置以及权利要求1-4任一项所述的光阻容纳装置，所述光阻制备装置通过输出管道与至少一个所述光阻容纳装置连通。

6.根据权利要求5所述的光阻供应系统，其特征在于，所述光阻制备装置包括第二容纳腔，所述第二容纳腔的内侧贴合有四氟树脂层，所述第二容纳腔的内部设置有将所述第二容纳腔内的原料混合形成光阻的混合结构，所述第二容纳腔的顶端设置有与所述第二容纳腔内部连通，使得所述第二容纳腔内部的压力保持正压状态的稳压结构，所述第二容纳腔底部设置有与所述输出管道连通的出料口，所述管道上设置有输出阀。

7.根据权利要求6所述的光阻供应系统，其特征在于，所述稳压结构包括设置于所述第二容纳腔顶端的相互独立的进气口和出气口，所述进气口设置有进气阀，所述出气口设置有出气阀，所述稳压结构还包括与所述进气阀和所述出气阀连接的自动稳压平衡器，所述自动稳压平衡器用于控制所述进气阀和所述出气阀的开度以保持所述第二容纳腔内的压力保持正压状态。

8.根据权利要求6所述的光阻供应系统，其特征在于，所述混合结构包括位于所述第二容纳腔内部的搅拌桨，以及控制所述搅拌桨转动的电机。

9.根据权利要求6所述的光阻供应系统，其特征在于，还包括回流管道，所述回流管道的一端连接于所述第二容纳腔的顶端，所述回流管道的另一端连接于所述输出管道上位于所述输出阀靠近所述第二容纳腔的部分，所述回流管道上设置有回流控制阀。

10.根据权利要求6所述的光阻供应系统，其特征在于，还包括用于容纳所述光阻容纳装置的洁净密闭容纳装置。

11.根据权利要求10所述的光阻供应系统，其特征在于，还包括用于对输入所述光阻容纳装置内的光阻的重量进行称重的自动称重结构，所述自动称重结构设置于所述洁净密闭容纳装置内，所述自动称重结构包括用于承载所述光阻容纳装置的承载平台。

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