CN210181385U - 一种光阻供应装置及涂胶设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及平板显示制造技术领域,特别涉及一种光阻供应装置及涂胶设备。该光阻供应装置包括:支架框及光阻桶,光阻桶悬空固定于支架框内;光阻桶的桶底向外凸出且形成有最低点,最低点设置有用于连接光阻涂布机台的出料端口;光阻桶的顶部设置有进料端口以及用于调节光阻桶内压强的稳压结构。光阻桶的桶底向外凸出,桶内盛装的光阻在重力作用下向下流动,随着使用消耗会逐渐集中到光阻桶底部的最低处,并自最低处的出料端口接入光阻涂布机台使用,不会在光阻桶底部存留积液,有效减少了光阻滞留桶内所引起的浪费;而支架框对光阻桶除了固定支撑以及保护作用,进一步方便了装置的转移与更换,为光阻涂布机台提供更稳定的光阻供应。
Description
技术领域
本实用新型涉及平板显示制造技术领域,特别涉及一种光阻供应装置及涂胶设备。
背景技术
在平板显示制造工艺中,阵列工艺一直被认为是液晶显示屏制造过程中的关键工艺,而光刻工序又被公认是阵列工艺中的关键控制工序,在整个工艺过程中光刻被多次使用,其工序稳定性和可靠性对液晶显示屏的良率、品质和成本有着决定性的影响。
光刻工序是一个非常繁杂的过程,其本质是把需要的像素电路以图形的方式化学感光、刻蚀和等离子注入方式复制到平板显示用的玻璃板上:首先使用光阻涂布机台在液晶显示用玻璃上涂布一层光敏材料——阵列用光阻,再用紫外光透过预设图形的掩膜版照射在光阻层上使其发生光化学反应,再利用显影技术将图形转移到玻璃板上。如果阵列光阻不稳定或者出现偏差,会影响后续的刻蚀工序,从而使光刻工序良率降低、报废品增多、成本上升。故阵列光阻涂布工序是阵列工艺的良率控制的关键。
为了保证阵列光阻涂布工艺的质量,一般会设置有阵列光阻供应装置配合光阻涂布机台。目前平板显示光阻供应装置中需要大量使用阵列用光阻,光阻一般存放在如图1所示的光阻桶20中,液晶显示屏生产工厂会通过桶口20和盖子30把阵列用光阻桶并联接入光阻涂布机台,一台光阻涂布机台一般会有两个光阻桶20交替更换使用。光阻桶20中的内部设有充满光阻50的塑料内袋40,在塑料内袋40的上方设置有开口,自开口伸入一根连接光阻涂布机台的汲液管60,通过向塑料内袋40和光阻桶20的内壁之间加压将光阻50通过汲液管60挤出到光阻涂布机台上,进行涂布工序。
但是,这种光阻桶在阵列用光阻即将使用完时仍会有光阻残液留在塑料内袋造成光阻浪费,若平板显示生产线用量大很多,造成光阻很大的浪费。
实用新型内容
本实用新型公开了一种光阻供应装置及涂胶设备,用于减少现有技术中光阻桶内过多残留光阻所引起的浪费。
为达到上述目的,本实用新型提供以下技术方案:
一种光阻供应装置,包括:支架框及光阻桶,所述光阻桶悬空固定于所述支架框内;
所述光阻桶的桶底向外凸出且形成有最低点,所述最低点设置有用于连接光阻涂布机台的出料端口;
所述光阻桶的顶部设置有进料端口以及用于调节所述光阻桶内压强的稳压结构。
上述光阻供应装置中,光阻桶的桶底向外凸出,桶内盛装的光阻在重力作用下向下流动,随着使用消耗会逐渐集中到光阻桶底部的最低处,并自最低处的出料端口接入光阻涂布机台使用,不会在光阻桶底部存留积液,有效减少了光阻滞留桶内所引起的浪费;而支架框对光阻桶除了固定支撑以及保护作用,进一步方便了装置的转移与更换,为光阻涂布机台提供更稳定的光阻供应。
可选地,所述稳压结构包括进气端口、排气端口以及自动稳压器。
可选地,所述光阻桶的顶部设有上封头,所述进料端口、所述进气端口、所述排气端口以及所述自动稳压器均设置于所述上封头上。
可选地,所述上封头设置有清洗盖,所述清洗盖内侧设置有用于清洗所述光阻桶内部的清洗组件。
可选地,所述光阻桶的内壁覆有四氟树脂膜。
可选地,所述光阻桶的桶底为倒圆锥形。
可选地,所述支架框包括用于安装所述光阻桶的板框以及设置于所述板框底部的底托架;
所述板框的顶部设有吊装口,所述底托架设置有叉车口。
可选地,所述板框的顶部还设置有防滑板,所述防滑板在所述底托架上的正投影与所述光阻桶在所述底托架上的正投影有重叠。
可选地,所述底托架的底部设置有与所述出料端口对应的出料口托盘。
一种涂胶设备,包括光阻涂布机台以及如上述技术方案提供的任一种所述的光阻供应装置,所述光阻供应装置的出料端口与所述光阻涂布机台相连接。
附图说明
图1为现有技术中的一种光阻供应装置的结构示意图;
图2为本实用新型实施例提供的一种光阻供应装置的主视图;
图3为本实用新型实施例提供的一种光阻供应装置的俯视图;
图4为图3中A-A的剖面结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
如图2至图4所示,本实用新型实施例提供了一种光阻供应装置,包括:支架框1及光阻桶2,光阻桶2悬空固定于支架框1内;光阻桶2的桶底向外凸出且形成有最低点,最低点设置有用于连接光阻涂布机台的出料端口24;光阻桶2的顶部设置有进料端口21以及用于调节光阻桶2内气体压强的稳压结构。
此处的光阻桶2用于盛装阵列用光阻,光阻自光阻桶2的进料端口21进入并自出料端口24输出到光阻涂布机台,供光阻涂布机台使用。支架框1则形成有用于安装固定光阻桶2的空间,当光阻桶2固定于支架框1内,光阻桶2处于悬空状态,其进料端口21位于光阻桶2的顶部。而此处的支架框1一方面为光阻桶2提供的固定支撑作用,另一方面将光阻桶2悬空,使得光阻桶2的桶底在工作中与地面之间存在一定距离,方便光阻桶2桶底的出料端口24出料;此外,支架框1还能方便光阻桶2的运输与转移,并保证光阻桶2在运输或转移过程中的安全。
其中,光阻桶2的桶底设置为向外凸出,则光阻桶2的桶底存在最低点,光阻桶2内的光阻在重力作用下会向下聚集,随着消耗使用,光阻趋向于汇聚于桶底的最低点,尽可能使得桶内的光阻都能够自桶底最低点的出料端口24排出以输送到光阻涂布机台,减少桶内光阻的残留。同时,由于光阻桶2的桶底存在最低点,且最低点设置有出料端口24,能够保证光阻桶2在供应系统不会底部积液,也能减少光阻浪费,降低生产成本,特别是平板显示高世代线的生产中的运营成本能够得到进一步削减。
需要说明的是,光阻桶2的桶底向外凸出,光阻桶2桶底的直径自上而下逐渐缩小,直至缩小至最低点。因此,光阻桶2的桶底可以有多种实施方式,例如球面形、倒圆锥形、不规则曲面等等。如图4所示,光阻桶2的桶底即为倒圆锥形。
在上述实施例的基础上,实现了光阻桶2的正常出料岂能节约原料,支架框1也能在保证光阻桶2安全的情况下方便转运,进一步地,本实用新型实施例中对光阻桶2的桶身进行了进一步改造,光阻桶2的桶身选用圆柱体结构,且增大其容量(相较于背景技术中现有的光阻桶2,容积提升了4-10倍),可以减少在光阻供应系统中光阻桶2的切换次数,特别是对于平板显示高世代线这样的阵列用光阻需求量大的产品,能够保证其产品质量和良率。
当光阻桶2内的光阻随使用消耗逐渐减少,光阻桶2内的气压会发生变化,通过稳压结构保证光阻桶2内的光阻自出料端口24排出输送到光阻涂布机台。同时,稳压结构还能通过调节光阻桶2内的压强大小控制光阻的流出速率和流量,保证光阻涂布机台涂布中膜厚的性能的稳定。
上述光阻供应装置中,光阻桶2桶底向外凸出,桶内盛装的光阻在重力作用下向下流动,随着使用消耗会逐渐集中到光阻桶2底部的最低处,并自最低处的出料端口24接入光阻涂布机台使用,不会在光阻桶2底部存留积液,有效减少了光阻滞留桶内所引起的浪费;而支架框1对光阻桶2除了固定支撑以及保护作用,进一步方便了装置的转移与更换,为光阻涂布机台提供更稳定的光阻供应。
其中,上述稳压结构包括进气端口221、排气端口222以及自动稳压器223,顾名思义,进气端口221用于向光阻桶2内通入气体,排气端口222则用于将光阻桶2内的气体排出,光阻桶2内气体的多少会直接影响光阻桶2内的压强大小,以影响光阻桶2内的光阻能否正常自出料端口24输出。例如,如果需要提高光阻输出的速率,增大进气端口221的进气量,减少排气端口222的排气量甚至适时关闭排气端口222,使得光阻桶2的气压增大,对光阻桶2的光阻产生压力,“挤压”光阻向外排出。
可选地,上述进气端口221和排气端口222可以设置为阀门结构,且该阀门结构的流通大小可调节,以满足气压调节的需求。
而自动稳压器223则能够。配合进气端口221和排气端口222对光阻桶2内气体压强的自动化调节,为生产提供便利。
进一步地,光阻桶2的内壁覆有四氟树脂膜,有效降低了光阻桶2内壁的摩擦度,减少光阻挂覆在光阻桶2的内壁所引起的浪费。当然,四氟树脂膜只是一种可能的实现方式,还可以选用其他的材料涂覆于光阻桶2的内壁,或者选用其他的方式对光阻桶2的内壁进行处理增加其光滑性。
一种可能实现的方式中,如图2或3所示,光阻桶2的顶部设置有上封头23,上封头23与光阻桶2的桶底相对,当光阻桶2安装固定于支架框1,上封头23和桶底分别位于光阻桶2的上下两端。而上述进料端口21、进气端口221、排气端口222以及自动稳压器223都设置在上封头23上。
为了能够方便清洗光阻桶2的内部,如图3所示,在上封头23设置有一清洗盖231,该清洗盖231能够打开或关闭,在清洗盖231的内侧设置有一清洗组件,用于对光阻桶2的内壁做清洁处理。在实际生产过程中,光阻桶2可能重复使用,因此一个光阻桶2在不同的使用工序中可能盛装不同的光阻,清洗组件能够方便在两次使用中不同的光阻之间未对光阻桶2进行清洗,保证光阻品质。
如图4所示,清洗组件可以包括清洗喷头(图中未示出)和清洗球232,清洗喷头用于向光阻桶2内喷洒清洁液体,清洗球232则用于擦拭清洗光阻桶2的内壁。
具体地,本实用新型实施例中的支架框1包括用于安装光阻桶2的板框11以及设置于板框11底部的底托架12。板框11用于形成容纳固定光阻桶2的空间,底托架12则设置于板框11底部提供支撑作用,同时,底托架12使得板框11距离地面一定的距离,方便光阻桶2桶底的出料端口24排出光阻。
为了方便运输,板框11的顶部设有吊装口111,可以采用吊装设备吊起方便运输与转移;底托架12设置有叉车口121,可以采用叉车进行运输与转移。一方面,光阻供应装置自身没有可移动的结构,保证了其工作过程中的安全性与稳定性;另一方面,吊装口111和叉车口121能够方便外部机械设备对光阻供应装置进行转移操作,保证安全性的同时更为便捷。
此外,如图3所示,在板框11的顶部还设置有防滑板112,防滑板112在底托架12上的正投影与光阻桶2在底托架12上的正投影有重叠,能够进一步保护安装固定于板框11内的光阻桶2的稳定。
在底托架12底部设置有与光阻桶2的出料端口24对应的出料口托盘13,如图4所示。在图2中,底托架12设置有托盘盖131,由于图2中托盘盖131处于关闭状态,位于其内侧的出料口托盘13在图2中未示出。
基于同样的发明思路,本实用新型实施例还提供一种涂胶设备,该涂胶设备应用于平板显示制造中,具体包括光阻涂布机台以及如上述实施例提供的任一种光阻供应装置,其中,光阻供应装置的出料端口24与光阻涂布机台相连接,能够为光阻涂布机台提供稳定、优质的阵列用光阻,且能够减少光阻浪费,降低生产成本。
显然,本领域的技术人员可以对本实用新型实施例进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样,倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内,则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (10)
1.一种光阻供应装置,其特征在于,包括:支架框及光阻桶,所述光阻桶悬空固定于所述支架框内;
所述光阻桶的桶底向外凸出且形成有最低点,所述最低点设置有用于连接光阻涂布机台的出料端口;
所述光阻桶的顶部设置有进料端口以及用于调节所述光阻桶内压强的稳压结构。
2.根据权利要求1所述的光阻供应装置,其特征在于,所述稳压结构包括进气端口、排气端口以及自动稳压器。
3.根据权利要求2所述的光阻供应装置,其特征在于,所述光阻桶的顶部设有上封头,所述进料端口、所述进气端口、所述排气端口以及所述自动稳压器均设置于所述上封头上。
4.根据权利要求3所述的光阻供应装置,其特征在于,所述上封头设置有清洗盖,所述清洗盖内侧设置有用于清洗所述光阻桶内部的清洗组件。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的光阻供应装置,其特征在于,所述光阻桶的内壁覆有四氟树脂膜。
6.根据权利要求1-4中任一项所述的光阻供应装置,其特征在于,所述光阻桶的桶底为倒圆锥形。
7.根据权利要求1所述的光阻供应装置,其特征在于,所述支架框包括用于安装所述光阻桶的板框以及设置于所述板框底部的底托架;
所述板框的顶部设有吊装口,所述底托架设置有叉车口。
8.根据权利要求7所述的光阻供应装置,其特征在于,所述板框的顶部还设置有防滑板,所述防滑板在所述底托架上的正投影与所述光阻桶在所述底托架上的正投影有重叠。
9.根据权利要求7所述的光阻供应装置,其特征在于,所述底托架的底部还设置有与所述出料端口对应的出料口托盘。
10.一种涂胶设备,其特征在于,包括光阻涂布机台以及如权利要求1-9中任一项所述的光阻供应装置,所述光阻供应装置的出料端口与所述光阻涂布机台相连接。
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