CN211043942U - 一种掩膜板、显示面板及显示装置 - Google Patents

一种掩膜板、显示面板及显示装置 Download PDF

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Abstract

本实用新型实施例公开了一种掩膜板、显示面板及显示装置。该掩膜板包括显示区掩膜部和非显示区掩膜部;非显示区掩膜部围绕显示区掩膜部;其中,显示区掩膜部用于对显示面板的显示区进行掩膜,非显示区掩膜部用于对显示面板的非显示区进行掩膜;显示区掩膜部包括遮光部、透光部以及半透光部;非显示区掩膜部包括多个遮光条;遮光部呈网格状;透光部以及半透光部位于遮光部的网孔内;遮光部用于对显示面板的显示区的公共电极并联金属进行掩膜;透光部用于对显示面板的显示区的公共电极通孔进行掩膜。本实用新型实施例提供的掩膜板可以避免显示面板中显示区边缘的公共电极并联金属缺失的问题。

Description

一种掩膜板、显示面板及显示装置
技术领域
本实用新型实施例涉及显示技术领域,尤其涉及一种掩膜板、显示面板及显示装置。
背景技术
液晶显示装置具有画质好、体积小、质量轻、低驱动电压、低功耗、无辐射和制造成本较低的优点,在显示领域占主导地位。
液晶显示面板一般包括阵列基板、彩膜基板以及阵列基板和彩膜基板之间的液晶层,还包括设置于阵列基板上的像素电极和公共电极等结构,通过像素电极和公共电极保证液晶显示面板的正常显示。现有技术中通过和公共电极并联金属结构,以解决因为公共电极设置区域大,电阻较大的问题。
然而,在制备与公共电极并联的金属结构时,需要增加一道工艺步骤,如此,降低了产能。所以目前采用一种新的掩膜技术,通过一次掩膜即可制备公共电极以及与公共电极并联的金属结构,如此,既降低了公共电极的电阻,同时无需增加工艺步骤。但是在实际生产过程中发现,通过一次掩膜同时制备公共电极以及与公共电极并联的金属结构时,显示区边缘与公共电极并联的金属结构又会出现新的问题。
实用新型内容
本实用新型提供一种掩膜板、显示面板及显示装置,以解决现有技术中显示面板中显示区边缘的公共电极并联金属缺失的问题。
第一方面,本实用新型实施例提供了一种掩膜板,所述掩膜板包括:
显示区掩膜部和非显示区掩膜部;所述非显示区掩膜部围绕所述显示区掩膜部;其中,所述显示区掩膜部用于对显示面板的显示区进行掩膜,所述非显示区掩膜部用于对所述显示面板的非显示区进行掩膜;
所述显示区掩膜部包括遮光部、透光部以及半透光部;所述非显示区掩膜部包括多个遮光条;所述遮光部呈网格状;所述透光部以及所述半透光部位于所述遮光部的网孔内;
所述遮光部用于对显示面板的显示区的公共电极并联金属进行掩膜;所述透光部用于对显示面板的显示区的公共电极通孔进行掩膜。
进一步地,所述遮光条的宽度为M1,0<M1<2μm。
进一步地,所述遮光条沿所述显示区掩膜部的边缘连续设置。
进一步地,每个所述遮光条包括多个子遮光条;多个所述子遮光条沿所述显示区掩膜部的边缘依次排列。
进一步地,所述子遮光条的轮廓包括条形、V形或L形中的至少一种。
进一步地,所述遮光条到相邻所述显示区掩膜部的边界的最大距离为L1,350μm<L1<500μm。
进一步地,由所述显示区掩膜部指向所述非显示区掩膜部的方向上,所述遮光条的排布密度依次增大。
第二方面,本实用新型实施例还提供了一种显示面板,所述显示面板包括显示区以及围绕所述显示区的非显示区;
所述显示区包括第一显示区和第二显示区;所述第二显示区围绕所述第一显示区;
还包括衬底基板、位于所述衬底基板上的驱动电路、位于所述驱动电路远离所述衬底基板一侧的公共电极、位于所述公共电极远离所述衬底基板一侧的公共电极并联金属以及位于所述公共电极并联金属远离所述衬底基板一侧的像素电极;所述公共电极设置有公共电极通孔;所述像素电极通过所述公共电极通孔与所述驱动电路电连接;
其中,所述公共电极并联金属位于所述第一显示区以及所述第二显示区。
进一步地,在非显示区指向所述第一显示区的方向上,所述第二显示区的宽度为M2,350μm<M2<500μm。
第三发面,本实用新型实施例还提供了一种显示装置,所述显示装置包括如上所述的显示面板。
本实用新型实施例提供的掩膜板包括:显示区掩膜部和非显示区掩膜部;非显示区掩膜部围绕显示区掩膜部;其中,显示区掩膜部用于对显示面板的显示区进行掩膜,非显示区掩膜部用于对显示面板的非显示区进行掩膜。通过在非显示区掩膜部设置多个遮光条,通过遮光条对显示面板的非显示区对应的部分光通量进行遮挡,使得显示面板的显示区边缘,即靠近非显示区的区域对应的通光计量降低,如此,避免了曝光时显示面板的显示区边缘与显示区内部存在曝光计量差异导致显影液浓度不一致,造成显示区边缘光阻计量太大,导致剩余光阻太薄的问题,使得在显影后显示面板的显示区边缘的光阻膜与显示区内部光阻膜厚相近,进而在后续光阻灰化时,显示区边缘区域的光阻与显示区内部的光阻同步减薄,避免了由于显示区边缘的公共电极并联金属缺少保护层,在蚀刻后出现显示区边缘的公共电极并联金属缺失的问题。
附图说明
图1是现有技术中一种显示面板的结构示意图;
图2是本实用新型实施例提供的一种掩膜板的结构示意图;
图3是图2沿QQ’方向的剖面结构示意图;
图4是本实用新型实施例提供的一种形成显示面板的公共电极和公共电极并联金属的示意图;
图5是本实用新型实施例提供的又一种掩膜板的结构示意图;
图6是本实用新型实施例提供的又一种掩膜板的结构示意图;
图7是本实用新型实施例提供的又一种掩膜板的结构示意图;
图8是本实用新型实施例提供的又一种掩膜板的结构示意图;
图9是本实用新型实施例提供的一种显示面板的结构示意图;
图10是本实用新型实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚,以下将结合本实用新型实施例中的附图,通过具体实施方式,完整地描述本实用新型的技术方案。显然,所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例,而不是全部的实施例,基于本实用新型的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下获得的所有其他实施例,均落入本实用新型的保护范围之内。
图1是现有技术中一种显示面板的结构示意图,如图1所示,该显示面板包括阵列基板10’以及与阵列基板10’相对设置的彩膜基板20’;阵列基板10’包括公共电极11’以及位于公共电极11’上的公共电极并联金属12’;通过公共电极并联金属12’与公共电极11’并联,以降低公共电极11’的电阻,进而降低功耗。现有技术中公共电极11’和公共电极并联金属12’是通过在公共电极层和公共电极并联金属层上涂布光阻材料,利用掩膜板对光阻材料进行一次曝光显影形成。然而,由于曝光时显示面板的显示区边缘与显示区内部存在曝光计量差异导致显影液浓度不一致,显示区边缘光阻计量太大,导致剩余光阻太薄,最终,在光阻灰化时,显示区边缘的公共电极并联金属12’上需要保留的光阻被完全灰化,显示区边缘的公共电极并联金属12’即缺少了保护层,所以在蚀刻后出现显示区边缘的公共电极并联金属12’缺失的问题。
基于上述技术问题,本实用新型实施例提供一种掩膜板,包括:显示区掩膜部和非显示区掩膜部;非显示区掩膜部围绕显示区掩膜部;其中,显示区掩膜部用于对显示面板的显示区进行掩膜,非显示区掩膜部用于对显示面板的非显示区进行掩膜;显示区掩膜部包括遮光部、透光部以及半透光部;非显示区掩膜部包括多个遮光条;遮光部呈网格状;透光部以及半透光部位于遮光部的网孔内;遮光部用于对显示面板的显示区的公共电极并联金属进行掩膜;透光部用于对显示面板的显示区的公共电极通孔进行掩膜。采用上述技术方案,通过在非显示区掩膜部设置多个遮光条,通过遮光条对显示面板的非显示区对应的部分光通量进行遮挡,使得显示面板的显示区边缘,即靠近非显示区的区域对应的通光计量降低,如此,避免了曝光时显示面板的显示区边缘与显示区内部存在曝光计量差异导致显影液浓度不一致,造成显示区边缘光阻计量太大,导致剩余光阻太薄的问题,使得在显影后显示面板的显示区边缘的光阻膜与显示区内部光阻膜厚相近,进而在后续光阻灰化时,显示区边缘区域的光阻与显示区内部的光阻同步减薄,避免了由于显示区边缘的公共电极并联金属缺少保护层,在蚀刻后出现显示区边缘的公共电极并联金属缺失的问题。
以上是本实用新型的核心思想,下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下,所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
图2是本实用新型实施例提供的一种掩膜板的结构示意图,图3是图2沿QQ’方向的剖面结构示意图,图4是本实用新型实施例提供的一种形成显示面板的公共电极和公共电极并联金属的示意图,如图2、图3和图4所示,该掩膜板包括:显示区掩膜部BB和非显示区掩膜部CC;非显示区掩膜部CC围绕显示区掩膜部BB;其中,显示区掩膜部BB用于对显示面板的显示区AA进行掩膜,非显示区掩膜部CC用于对显示面板的非显示区AB进行掩膜;显示区掩膜部BB包括遮光部BC、透光部BD以及半透光部BE;非显示区掩膜部CC包括多个遮光条DD;遮光部BC呈网格状;透光部BD以及半透光部BE位于遮光部BC的网孔内;遮光部BC用于对显示面板的显示区AA的公共电极并联金属12进行掩膜;透光部BD用于对显示面板的显示区AA的公共电极11通孔进行掩膜。
可以理解的是,参见图4,利用本实施例的掩膜板制备显示面板的公共电极11和公共电极并联金属12时,掩膜板的显示区掩膜部BB与显示面板的显示区AA对应设置,掩膜板的非显示区掩膜部CC与显示面板的非显示区BB对应设置,掩膜板的遮光部BC与显示面板的显示区AA的公共电极并联金属12对应设置,掩膜板的透光部BC与显示面板的显示区AA的公共电极11对应设置。
可以理解的,这里所说的两个区域“对应”指掩膜过程中所述两个区域在垂直于制作过程中的显示面板所在平面的方向上投影重叠。例如“掩膜板的显示区掩膜部BB与显示面板的显示区AA对应设置”表示“在垂直于制作过程中的显示面板所在平面的方向上,掩膜板的显示区掩膜部BB的投影与显示面板的显示区AA的投影重叠”。
本实施例中,通过在非显示区掩膜部CC设置多个遮光条DD,通过遮光条DD对显示面板的非显示区AB对应的部分光通量进行遮挡,使得显示面板的显示区AA边缘,即靠近非显示区AB的区域对应的通光计量降低,如此,避免了曝光时显示面板的显示区AA边缘与显示区AA内部存在曝光计量差异导致显影液浓度不一致,造成显示区AA边缘光阻计量太大,导致剩余光阻太薄的问题,使得在显影后显示面板的显示区AA边缘的光阻膜与显示区AA内部光阻膜厚相近,进而在后续光阻灰化时,显示区AA边缘区域的光阻与显示区内部的光阻同步减薄,避免了由于显示区AA边缘的公共电极并联金属12缺少保护层,在蚀刻后出现显示区AA边缘的公共电极并联金属12缺失的问题。
本领域技术人员可以理解的是,显示面板包括阵列排布的多个子像素,相对的掩膜板的显示区掩膜部BB中遮光部BC、透光部BD以及半透光部BE同样是阵列排布,图2仅以掩膜板的显示区掩膜部BB包括6行3列的遮光部BC以及10个透光部BD进行示例性说明。
可选地,继续参见图2,遮光条DD的宽度为M1,0<M1<2μm。
其中,考虑到遮光条DD的宽度过宽时,曝光的光束经过遮光条DD的遮挡后在显示面板上成像,如此,显示面板非显示区AB就会存在光阻,但是考虑到显示面板非显示区AB是没有公共电极11和公共电极并联金属12的。所以本实施例通过将遮光条DD的宽度设置在0到2μm之间,当遮光条DD的宽度在0到2μm之间时,通过衍射现象,既能使曝光的光束经过遮光条DD的遮挡后在显示面板上不成像,同时还可以减少部分光通量,即靠近非显示区AB的区域对应的通光计量降低,如此,避免了曝光时显示面板的显示区AA边缘与显示区AA内部存在曝光计量差异导致显影液浓度不一致,造成显示区AA边缘光阻计量太大,导致剩余光阻太薄的问题。
可选地,图5是本实用新型实施例提供的又一种掩膜板的结构示意图,如图5所示,遮光条DD沿显示区掩膜部BB的边缘连续设置。
本实施例中,通过将遮光条DD沿显示区掩膜部BB的边缘连续设置,可以通过连续设置的遮光条DD对显示面板的非显示区AB对应的部分光通量进行均匀的遮挡,使得显示面板四周的显示区AA边缘,即靠近非显示区AB的区域对应的通光计量降低,如此,使得在显影后显示面板四周的显示区AA边缘的光阻膜与显示区AA内部光阻膜厚相近,进而在后续光阻灰化时,显示区AA边缘区域的光阻与显示区内部的光阻同步减薄,避免了由于显示区AA边缘的公共电极并联金属12缺少保护层,在蚀刻后出现显示面板四周的显示区AA边缘的公共电极并联金属12缺失的问题。
需要说明的是,沿显示区掩膜部BB的边缘连续设置的遮光条DD的轮廓有多种方式,图5仅以遮光条DD的轮廓呈矩形环进行示例性说明,但是遮光条DD的轮廓并不限于上述示例性,只要可以减少一定的光通量,进而避免显示面板四周的显示区AA边缘的公共电极并联金属12缺失的问题即可。在其他可选实施例中,遮光条DD的轮廓还可以呈锯齿形环或波浪形环等。示例性的,图6是本实用新型实施例提供的又一种掩膜板的结构示意图,如图6所示,遮光条DD的轮廓呈锯齿形环。
可选地,图7是本实用新型实施例提供的又一种掩膜板的结构示意图,如图7所示,每个遮光条DD包括多个子遮光条EE;多个子遮光条EE沿显示区掩膜部BB的边缘依次排列;其中,子遮光条EE的轮廓包括条形、V形或L形中的至少一种。
本实施例中,通过子遮光条EE对显示面板的非显示区AB对应的部分光通量进行均匀的遮挡,使得显示面板的显示区AA边缘,即靠近非显示区AB的区域对应的通光计量降低,如此,使得在显影后显示面板的显示区AA边缘的光阻膜与显示区AA内部光阻膜厚相近,进而在后续光阻灰化时,显示区AA边缘区域的光阻与显示区内部的光阻同步减薄,避免了由于显示区AA边缘的公共电极并联金属12缺少保护层,在蚀刻后出现显示面板的显示区AA边缘的公共电极并联金属12缺失的问题。
需要说明的是,子遮光条EE的轮廓有多种方式,图7仅以子遮光条EE的轮廓呈V形进行示例性说明,但是子遮光条EE的轮廓并不限于上述示例性,只要可以减少一定的光通量,进而避免显示面板四周的显示区AA边缘的公共电极并联金属12缺失的问题即可。在其他可选实施例中,子遮光条EE的轮廓还可以呈条形、L形或者既包括条形,还包括L形等。示例性的,图8是本实用新型实施例提供的又一种掩膜板的结构示意图,如图8所示,子遮光条EE的轮廓呈条形。
可选地,继续参见图2,遮光条DD到相邻显示区掩膜部BB的边界的最大距离为L1,350μm<L1<500μm。
其中,通过实验发现显示面板显示区AA的边缘大概350μm到500μm的区域的光阻膜厚变化剧烈,进而使得此区域的公共电极并联金属12出现缺失的问题。所以本实施例通过在非显示区掩膜部CC设置遮光条DD,遮光条DD到相邻显示区掩膜部BB的边界的最大距离为L1,350μm<L1<500μm,即遮光条DD遮挡光通量的区域正好和光阻膜厚变化剧烈的区域相近,如此,避免了曝光时显示面板的显示区AA边缘与显示区AA内部存在曝光计量差异导致显影液浓度不一致,造成显示区AA边缘光阻计量太大,导致剩余光阻太薄的问题,使得在显影后显示面板的显示区AA边缘的光阻膜与显示区AA内部光阻膜厚相近,进而在后续光阻灰化时,显示区AA边缘区域的光阻与显示区内部的光阻同步减薄,避免了由于显示区AA边缘的公共电极并联金属12缺少保护层,在蚀刻后出现显示区AA边缘的公共电极并联金属12缺失的问题。
可选地,继续参见图8,由显示区掩膜部BB指向非显示区掩膜部CC的方向上,遮光条DD的排布密度依次增大。
其中,通过实验发现由显示面板显示区AA的边缘指向非显示区AB的方向,曝光的光通量是逐渐的增大的。本实施例通过由显示区掩膜部BB指向非显示区掩膜部CC的方向上,遮光条DD的排布密度依次增大,即光通量大的地方,遮光条DD的排布密度大,如此,通过密排的遮光条DD对光通量进行有效的遮挡,进一步避免了曝光时显示面板的显示区AA边缘与显示区AA内部存在曝光计量差异导致显影液浓度不一致,造成显示区AA边缘光阻计量太大,导致剩余光阻太薄的问题,进而避免了由于显示区AA边缘的公共电极并联金属12缺少保护层,在蚀刻后出现显示区AA边缘的公共电极并联金属12缺失的问题。
基于同样的发明构思,本实用新型实施例还提供了一种显示面板。图9是本实用新型实施例提供的一种显示面板的结构示意图,如图9所示,显示面板包括显示区AA以及围绕显示区AA的非显示区AB;显示区AA包括第一显示区AC和第二显示区AD;第二显示区AD围绕第一显示区AC;显示面板还包括衬底基板13、位于衬底基板13上的驱动电路14、位于驱动电路14远离衬底基板一侧的公共电极11、位于公共电极11远离衬底基板13一侧的公共电极并联金属12以及位于公共电极并联金属12远离衬底基板一侧的像素电极15;公共电极11设置有公共电极通孔16;像素电极15通过公共电极通孔16与驱动电路14电连接;其中,公共电极并联金属12位于第一显示区AC以及第二显示区AD。
由于上述掩膜板的非显示区掩膜部CC设置多个遮光条DD,通过遮光条DD对显示面板的非显示区AB对应的部分光通量进行遮挡,使得显示面板的显示区AA边缘,即靠近非显示区AB的区域对应的通光计量降低,如此,避免了曝光时显示面板的显示区AA边缘与显示区AA内部存在曝光计量差异导致显影液浓度不一致,造成显示区AA边缘光阻计量太大,导致剩余光阻太薄,最终,在光阻灰化时,显示区边缘的公共电极并联金属12上需要保留的光阻被完全灰化的问题,即通过遮光条DD对显示面板的非显示区AB对应的部分光通量进行遮挡,在光阻灰化时,第二显示区AD的公共电极并联金属12上需要保留的光阻仍然存在,且此光阻的厚度大约为0.1μm,进而制备得到的显示面板的显示区AA边缘和显示面板的显示区AA内部,都存在公共电极并联金属12。
可选地,继续参见图9,在非显示区AB指向第一显示区AC的方向上,第二显示区AD的宽度为M2,350μm<M2<500μm。
因为通过实验数据得到,显示面板显示区AA的边缘大概350μm到500μm的区域的光阻膜厚变化剧烈,进而使得此区域的公共电极并联金属12出现缺失。而本实施通过上述掩膜板,制备得到的显示面板的显示区AA边缘大概350μm到500μm的区域存在公共电极并联金属12。
基于同样的发明构思,本实用新型实施例还提供了一种显示装置,包括上述任一实施例的显示面板。具体的,图10是本实用新型实施例提供的一种显示面板的结构示意图。如图10所示,该显示装置100包括上述实施例中的显示面板101,因此本实用新型实施例提供的显示装置100也具备上述实施例所描述的有益效果,此处不再赘述。示例性的,显示装置100可以是手机、电脑、智能可穿戴设备(例如,智能手表)以及车载显示设备等电子设备,本实用新型实施例对此不作限定。
注意,上述仅为本实用新型的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解,本实用新型不限于这里所述的特定实施例,对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本实用新型的保护范围。因此,虽然通过以上实施例对本实用新型进行了较为详细的说明,但是本实用新型不仅仅限于以上实施例,在不脱离本实用新型构思的情况下,还可以包括更多其他等效实施例,而本实用新型的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (10)

1.一种掩膜板,其特征在于,包括:
显示区掩膜部和非显示区掩膜部;所述非显示区掩膜部围绕所述显示区掩膜部;其中,所述显示区掩膜部用于对显示面板的显示区进行掩膜,所述非显示区掩膜部用于对所述显示面板的非显示区进行掩膜;
所述显示区掩膜部包括遮光部、透光部以及半透光部;所述遮光部呈网格状;所述透光部以及所述半透光部位于所述遮光部的网孔内;所述非显示区掩膜部包括多个遮光条;
所述遮光部用于对显示面板的显示区的公共电极并联金属进行掩膜;所述透光部用于对显示面板的显示区的公共电极通孔进行掩膜。
2.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述遮光条的宽度为M1,0<M1<2μm。
3.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述遮光条沿所述显示区掩膜部的边缘连续设置。
4.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,每个所述遮光条包括多个子遮光条;多个所述子遮光条沿所述显示区掩膜部的边缘依次排列。
5.根据权利要求4所述的掩膜板,其特征在于,所述子遮光条的轮廓包括条形、V形或L形中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述遮光条到相邻所述显示区掩膜部的边界的最大距离为L1,350μm<L1<500μm。
7.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,由所述显示区掩膜部指向所述非显示区掩膜部的方向上,所述遮光条的排布密度依次增大。
8.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括显示区以及围绕所述显示区的非显示区;
所述显示区包括第一显示区和第二显示区;所述第二显示区围绕所述第一显示区;
还包括衬底基板、位于所述衬底基板上的驱动电路、位于所述驱动电路远离所述衬底基板一侧的公共电极、位于所述公共电极远离所述衬底基板一侧的公共电极并联金属以及位于所述公共电极并联金属远离所述衬底基板一侧的像素电极;所述公共电极设置有公共电极通孔;所述像素电极通过所述公共电极通孔与所述驱动电路电连接;
其中,所述公共电极并联金属位于所述第一显示区以及所述第二显示区。
9.根据权利要求8所述的显示面板,其特征在于,在非显示区指向所述第一显示区的方向上,所述第二显示区的宽度为M2,350μm<M2<500μm。
10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求8-9任一项所述的显示面板。
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