CN210995427U - 一种多规格圆锯片基体氧化层去除装置 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种多规格圆锯片基体氧化层去除装置，包括沿生产线轨道布置的支架，所述支架上安装有第一排液管和第二排液管，用于分别向基体上部和下部喷洒溶液，所述支架上布置有滑轨，所述滑轨通过滑块配合有竖直布置的固定杆，所述固定杆上设有第一刮板，用于通过转动刮去喷洒溶液后基体上的氧化层，所述机架上安装有第二刮板，所述第二刮板与第一刮板相对设置，用于在固定杆沿滑轨移动时与基体产生相对位移，并刮去基体上远离第一刮板一侧的喷洒溶液后氧化层，通过将腐蚀溶液施加在基体上，对基体上的氧化层进行腐蚀去除，并配合刮板进行物理刮动，利用初步腐蚀配合深度刮动达到对锯片基体上氧化层的完全去除。

Description

一种多规格圆锯片基体氧化层去除装置

技术领域

本申请涉及锯片制造领域，特别涉及一种多规格圆锯片基体氧化层去除装置。

背景技术

随着圆锯片的广泛使用，行业对其生产精度要求越来越高。但是，圆锯片基体淬火工序结束后，会在表面产生大量的氧化层，如果这些氧化层不能及时去除，会越积越多，严重影响圆锯片基体质量。

发明人发现，目前常用的去除圆锯片基体表面氧化层的方法有化学腐蚀法和物理清理法，化学腐蚀法即通过将基体浸泡在化学溶液中，利用化学溶液将外部的氧化层腐蚀去除，然后通过清洗获取符合后续加工程序的基体；但这种腐蚀方式化学溶液的量远远大于基体反应所需的量，容易导致过度腐蚀，即在氧化层腐蚀去除后，若未及时取出，内部基体会受到溶液进一步的腐蚀，从而导致内部基体的损伤；而物理清理法即人工采用毛刷或砂轮等工具，通过打磨的方式去除氧化层，但这种处理方法不仅效率低下，而且打磨过程中产生的粉末、扬尘飞溅，危害工作人员的身体健康，无法精确掌握打磨深度，只能够通过经验来判断，导致打磨后获得的基体精度难以满足后续的处理要求。

实用新型内容

本申请的目的是针对现有技术存在的缺陷，提供一种多规格圆锯片基体氧化层去除装置，通过将定量的腐蚀溶液施加在基体上，对基体上的氧化层进行腐蚀去除，并配合刮板进行物理刮动，利用初步腐蚀配合深度刮动达到对锯片基体上氧化层的完全去除，在不损伤内部基体的前提下，提高了对基体上氧化层的去除效率和去除效果。

为了实现上述目的，采用以下技术方案：

一种多规格圆锯片基体氧化层去除装置，包括沿生产线轨道布置的支架，所述支架上安装有第一排液管和第二排液管，用于分别向基体上部和下部喷洒溶液，所述支架上布置有滑轨，所述滑轨通过滑块配合有竖直布置的固定杆，所述固定杆远离滑块的一端设有助推杆，所述助推杆用于通过伸缩进入或脱离基体中心孔，所述固定杆上设有第一刮板，用于通过转动刮去喷洒溶液后基体上的氧化层，所述机架上安装有第二刮板，所述第二刮板与第一刮板相对设置，用于在固定杆沿滑轨移动时与基体产生相对位移，并刮去基体上远离第一刮板一侧的喷洒溶液后氧化层。

进一步地，所述支架为门型结构，骑跨在生产线轨道上，所述支架包括上支架和下支架，所述上支架和下支架之间通过支撑杆连接，下支架用于固定在生产轨道的两侧。

进一步地，所述支撑杆一端固定在上支架上，另一端与下支架上预设的开孔形成滑动副，用于通过滑动调节上支架的高度。

进一步地，所述滑轨沿生产线轨道运行方向布置在上支架上，所述第一刮板通过固定杆悬吊在滑轨下方，用于接触并通过转动处理基体顶面的氧化层，所述助推杆用于配合基体中心孔并带动基体沿生产线轨道方向移动。

进一步地，所述第二刮板固定在第一刮板的下方，第一刮板和第二刮板之间留有间隙，所述第二刮板用于接触并刮去基体底面的氧化层。

进一步地，所述第一排液管和第二排液管上分别设有多个排液孔，用于将第一排液管和第二排液管内的溶液均匀喷涂在基体的上表面和下表面上。

进一步地，所述第一排液管和第二排液管分别连通有溶液箱，用于为第一排液管和第二排液管供应溶液；所述第一排液管和第二排液管的两端还分别连接有加长管，用于喷洒覆盖不同直径规格的基体。

进一步地，所述支架的下方安装有回收漏斗，所述回收漏斗通过顶部的挂钩连接支架，所述回收漏斗用于承接基体上去除的氧化层和溶液并排放到外界。

与现有技术相比，本申请具有的优点和积极效果是：

(1)所述排液管借助氧化层去除溶液实现圆锯片基体表面氧化层的初步去除；两个刮板从上方和下方通过相对位移实现圆锯片基体表面氧化层的物理深层去除；通过化学去除单元和物理去除单元共同作用，实现了圆锯片基体表面氧化层的自动深层清理，与目前的人工氧化层去除相比，避免了粉尘的大量产生和溶液的过度腐蚀，从而提高了氧化层的去除效率；

(2)将氧化层去除溶液喷洒在基体上，而非将基体整体浸泡入溶液内，避免了溶液对氧化层的过度腐蚀，提高了氧化层的去除效果；溶液与氧化层反应后的液体物质，在刮板的作用下从基体上去除，而刮板与基体发生相对位移过程中产生的粉尘被这些液体物质所遮挡，而不会散发出去，避免了烟尘的产生；

(3)基体上部刮板转动去除氧化层，在助推杆阻挡的情况下仍能够对基体顶面的圆环表面进行接触和去除氧化层，而下部由于不会受到助推杆的阻挡，因此，能够采用固定刮板的方式对基体的底面进行依次刮动去除氧化层，减少了驱动机构的设置数量；

(4)第一刮板在转动过程中会对基体施加一个向下的压力，利用此压力将基体紧贴在第二刮板上，并在助推杆的作用下使基体沿第二刮板滑动，而第二刮板从下方的支撑力也能够使基体顶面紧贴第一刮板，二者相互抵压，保证了与基体的接触，达到更好的去除效果。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本申请的进一步理解，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。

图1为本申请实施例1中氧化层去除装置的正视结构示意图；

图2为本申请实施例1中氧化层去除装置的后视结构示意图；

图3为本申请实施例1中氧化层去除装置的侧视结构示意图；

图4为本申请实施例1中加长管与排液管的配合示意图；

图5为本申请实施例1中回收单元的配合示意图。

其中，1、支架；2、第一排液管；3、第二排液管；4、第一刮板；5、第二溶液箱；6、下支架；7、上支架；8、第一溶液箱；9、第二刮板；10、助推杆； 11、固定杆；12、支撑杆；13、自动伸缩杆；14、夹板；15、第一驱动电机；16、第二驱动电机；17、加长管；18、挂钩；19、回收漏斗。

具体实施方式

应该指出，以下详细说明都是例示性的，旨在对本申请提供进一步地说明。除非另有指明，本文使用的所有技术和科学术语具有与本申请所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同含义。

需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合；

为了方便叙述，本申请中如果出现“上”、“下”、“左”“右”字样，仅表示与附图本身的上、下、左、右方向一致，并不对结构起限定作用,仅仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位，以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

术语解释部分:本申请中的术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或为一体；可以是机械连接，也可以是电连接，可以是直接连接，也可以是通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部连接，或者两个元件的相互作用关系，对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明的具体含义。

正如背景技术中所介绍的，现有技术常用的去除圆锯片基体表面氧化层的方法有化学腐蚀法和物理清理法，化学腐蚀法即通过将基体浸泡在化学溶液中，利用化学溶液将外部的氧化层腐蚀去除，然后通过清洗获取符合后续加工程序的基体；但这种腐蚀方式化学溶液的量远远大于基体反应所需的量，容易导致过度腐蚀，即在氧化层腐蚀去除后，若未及时取出，内部基体会受到溶液进一步的腐蚀，从而导致内部基体的损伤；而物理清理法即人工采用毛刷或砂轮等工具，通过打磨的方式去除氧化层，但这种处理方法不仅效率低下，而且打磨过程中产生的粉末、扬尘飞溅，危害工作人员的身体健康，无法精确掌握打磨深度，只能够通过经验来判断，导致打磨后获得的基体精度难以满足后续的处理要求，针对上述技术问题，本申请提出了一种多规格圆锯片基体氧化层去除装置。

实施例1

本申请的一种典型的实施方式中，如图1-图5所示，提出了一种多规格圆锯片基体氧化层去除装置。

包括沿生产线轨道布置的支架1，所述支架为门型结构，骑跨在生产线轨道上，所述支架包括上支架7和下支架6，所述上支架和下支架之间通过支撑杆12 连接，下支架用于固定在生产轨道的两侧，所述支架上安装有第一排液管2和第二排液管3，用于分别向基体上部和下部喷洒溶液，所述上支架上布置有滑轨，所述滑轨通过滑块配合有竖直布置的固定杆11，所述滑轨沿生产线轨道运行方向布置在上支架上，所述固定杆远离滑块的一端设有助推杆10，所述助推杆用于通过伸缩进入或脱离基体中心孔，所述助推杆用于配合基体中心孔并带动基体沿生产线轨道方向移动，所述固定杆上设有第一刮板4，所述第一刮板通过固定杆悬吊在滑轨下方，用于接触并通过转动处理基体顶面的氧化层，通过转动刮去喷洒溶液后基体上的氧化层，所述机架上安装有第二刮板9，所述第二刮板与第一刮板相对设置，用于在固定杆沿滑轨移动时与基体产生相对位移，并刮去基体上远离第一刮板一侧的喷洒溶液后氧化层；所述支架的下方安装有回收漏斗19，所述回收漏斗通过顶部的挂钩18连接支架，所述回收漏斗用于承接基体上去除的氧化层和溶液并排放到外界。

其中，所述支架用于支撑整个装置各单元并实现该装置与圆锯片基体生产线的固定；所述第一排液管和第二排液管喷洒出氧化层去除溶液实现圆锯片基体表面氧化层的初步去除；氧化层刮板通过刮动圆锯片基体表面实现氧化层的深层去除；所述回收漏斗配合挂钩形成回收单元，承接基体表面氧化层去除后产生的废渣及溶液并统一排放。

具体的，对于所述的助推杆，其配合有第一驱动电机15，嵌入固定杆端面内，通过转动调节助推杆的收缩和伸长，在其伸长时能够进入基体的中心孔内；对于所述的滑轨和滑块结构，为了驱动固定杆的沿滑轨的运动，所述滑轨上配合有第二驱动电机16，通过转动带动滑块沿滑轨往复滑动，从而实现驱动基体的运动。

进一步地，所述支撑杆一端固定在上支架上，另一端与下支架上预设的开孔形成滑动副，用于通过滑动调节上支架的高度；下支架上设有固定夹板14，能够将下支架和上支架固定在圆锯片基体生产线轨道上，并能够将其固定在不同工序及不同规格尺寸的生产线轨道位置，保证了该装置作业的稳定性、简洁性和多用性。

进一步地，所述第二刮板固定在第一刮板的下方，第一刮板和第二刮板之间留有间隙，所述第二刮板用于接触并刮去基体底面的氧化层；

基体上部刮板转动去除氧化层，在助推杆阻挡的情况下仍能够对基体顶面的圆环表面进行接触和去除氧化层，而下部由于不会受到助推杆的阻挡，因此，能够采用固定刮板的方式对基体的底面进行依次刮动去除氧化层，减少了驱动机构的设置数量。

进一步地，所述第一排液管和第二排液管上分别设有多个排液孔，用于将第一排液管和第二排液管内的溶液均匀喷涂在基体的上表面和下表面上；

将氧化层去除溶液喷洒在基体上，而非将基体整体浸泡入溶液内，避免了溶液对氧化层的过度腐蚀，提高了氧化层的去除效果；溶液与氧化层反应后的液体物质，在刮板的作用下从基体上去除，而刮板与基体发生相对位移过程中产生的粉尘被这些液体物质所遮挡，而不会散发出去，避免了烟尘的产生。

进一步地，所述第一排液管和第二排液管分别连通有第一溶液箱8和第二溶液箱5，两个溶液箱上均配合有自动伸缩杆13，驱动溶液箱内的溶液输出，为第一排液管和第二排液管供应溶液；所述第一排液管和第二排液管的两端还分别连接有加长管17，用于喷洒覆盖不同直径规格的基体；

排液管配合溶液箱形成氧化层化学去除单元，第一刮板和第二刮板配合滑轨和固定杆形成氧化层物理去除单元，二者共同实现对圆锯片基体氧化层去除功能，通过化学及物理双重作用，方便快捷的去除圆锯片基体表面氧化层。

氧化层化学去除单元设置第一排液管和第二排液管，分别随装置固定在生产线轨道上下两侧，不会影响圆锯片基体和轨道的运行。同时，排液管设有多组出液口和加长管，可用于不同规格尺寸圆锯片基体表面的氧化层去除作业。

所述排液管借助氧化层去除溶液实现圆锯片基体表面氧化层的初步去除；两个刮板从上方和下方通过相对位移实现圆锯片基体表面氧化层的物理深层去除；通过化学去除单元和物理去除单元共同作用，实现了圆锯片基体表面氧化层的自动深层清理，与目前的人工氧化层去除相比，避免了粉尘的大量产生和溶液的过度腐蚀，从而提高了氧化层的去除效率。

实施例2

本申请的另一典型实施例中，提供一种实施例1所述的多规格圆锯片基体氧化层去除装置的氧化层去除方法，采用如下步骤：

将装置设置的夹板卡进轨道的下方，通过下支架和固定夹板将该装置固定在不同工序生产线轨道上，同时，将下表面氧化层对应的第二刮板和第二排液管固定于生产线轨道同一高度位置处，根据圆锯片基体生产速度调整助推杆上下进给频率；

当圆锯片基体从生产线轨道经过该装置时，氧化层化学去除单元对应的第一排液管和第二排液管分别从生产线轨道的上方和下方释放氧化层去除溶液，初步去除圆锯片基体表面氧化层；

圆锯片基体随生产线轨道继续前进，到固定杆下方设置的上表面氧化层对应的第一刮板的中心位置时，第一驱动电机作用，驱动助推杆向下进给到达圆锯片基体中心孔，同时，第一刮板旋转，进一步去除圆锯片基体上表面氧化层；

此时，第二驱动电机驱动固定杆，使固定杆带动第一刮板和助推杆沿生产线轨道方向同步进给圆锯片基体到达第二刮板时，进一步去除圆锯片基体下表面氧化层；

通过回收单元将氧化层去除作业后产生的废渣和溶剂统一回收到废渣箱内；

待基体顶面和底面的氧化层完全去除后，助推杆收缩接触与基体的配合，基体随生产线轨道移动脱离，完成该基体的处理。

具体的，以上过程中：

支架1连接固定整个装置各个单元，将该装置上设置的夹板14卡进轨道的下方，通过下支架6固定在圆锯片基体生产线轨道上，然后调整下表面氧化层对应的第二刮板9和第二排液管3位置，使其固定在生产线轨道之间且与轨道为同一高度。

同时，根据圆锯片基体的厚度不同，通过上支架7一端设置的支撑杆12滑动改变上支架7和下支架6之间的距离，达到调节固定杆垂直高度的目的，改变上表面氧化层刮板4的高度。

根据圆锯片基体尺寸大小，选择不同长度的加长管17安装在的第一排液管3 和第二排液管4的两端，使排液管长度不同，通过多组出液口使溶剂作用到不同尺寸的圆锯片基体上。

第一溶液箱8内部溶剂通过第一排液管3作用到圆锯片基体上表面，对圆锯片基体表面的氧化层进行去除。同时，自动伸缩杆13进行伸缩运动，对第二溶液箱5内部的溶剂进行按压，使内部溶剂从生产线轨道下方的第二排液管3排出，对圆锯片基体下表面进行氧化层去除。

在对圆锯片基体表面氧化层化学去除后，圆锯片基体随轨道继续移动到固定杆11下方设置的上表面氧化层刮板4的中心位置时，固定杆内部的第一驱动电机15使助推杆10向下移动进入圆锯片基体中心孔，同时第一刮板4旋转对圆锯片基体上表面氧化层进行深层去除。

此时，第二驱动电机16驱动固定杆11带动上表面氧化层刮板4和助推杆10 使圆锯片基体与生产线轨道同步进给，经过第二刮板9时对圆锯片基体下表面氧化层进行深层去除。所述第二刮板接触基体的过程中，第一刮板保持接触基体并转动的状态。

第一刮板在转动过程中会对基体施加一个向下的压力，利用此压力将基体紧贴在第二刮板上，并在助推杆的作用下使基体沿第二刮板滑动，而第二刮板从下方的支撑力也能够使基体顶面紧贴第一刮板，二者相互抵压，保证了与基体的接触，达到更好的去除效果。

整个过程中，通过回收单元的挂钩18将回收漏斗19设置于生产线轨道下方，使氧化层去除作业后产生的废渣和溶剂统一回收到废渣箱内。

以上所述仅为本申请的优选实施例而已，并不用于限制本申请，对于本领域的技术人员来说，本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种多规格圆锯片基体氧化层去除装置，其特征在于，包括沿生产线轨道布置的支架，所述支架上安装有第一排液管和第二排液管，用于分别向基体上部和下部喷洒溶液，所述支架上布置有滑轨，所述滑轨通过滑块配合有竖直布置的固定杆，所述固定杆远离滑块的一端设有助推杆，所述助推杆用于通过伸缩进入或脱离基体中心孔，所述固定杆上设有第一刮板，用于通过转动刮去喷洒溶液后基体上的氧化层，所述支架上安装有第二刮板，所述第二刮板与第一刮板相对设置，用于在固定杆沿滑轨移动时与基体产生相对位移，并刮去基体上远离第一刮板一侧的喷洒溶液后氧化层。

2.如权利要求1所述的多规格圆锯片基体氧化层去除装置，其特征在于，所述支架为门型结构，骑跨在生产线轨道上，所述支架包括上支架和下支架，所述上支架和下支架之间通过支撑杆连接，下支架用于固定在生产轨道的两侧。

3.如权利要求2所述的多规格圆锯片基体氧化层去除装置，其特征在于，所述支撑杆一端固定在上支架上，另一端与下支架上预设的开孔形成滑动副，用于通过滑动调节上支架的高度。

4.如权利要求3所述的多规格圆锯片基体氧化层去除装置，其特征在于，所述滑轨沿生产线轨道运行方向布置在上支架上，所述第一刮板通过固定杆悬吊在滑轨下方，用于接触并通过转动处理基体顶面的氧化层，所述助推杆用于配合基体中心孔并带动基体沿生产线轨道方向移动。

5.如权利要求4所述的多规格圆锯片基体氧化层去除装置，其特征在于，所述第二刮板固定在第一刮板的下方，第一刮板和第二刮板之间留有间隙，所述第二刮板用于接触并刮去基体底面的氧化层。

6.如权利要求1所述的多规格圆锯片基体氧化层去除装置，其特征在于，所述第一排液管和第二排液管上分别设有多个排液孔，用于将第一排液管和第二排液管内的溶液均匀喷涂在基体的上表面和下表面上。

7.如权利要求1所述的多规格圆锯片基体氧化层去除装置，其特征在于，所述第一排液管和第二排液管分别连通有溶液箱，用于为第一排液管和第二排液管供应溶液；所述第一排液管和第二排液管的两端还分别连接有加长管，用于喷洒覆盖不同直径规格的基体。

8.如权利要求1所述的多规格圆锯片基体氧化层去除装置，其特征在于，所述支架的下方安装有回收漏斗，所述回收漏斗通过顶部的挂钩连接支架，所述回收漏斗用于承接基体上去除的氧化层和溶液并排放到外界。

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