CN210916243U - 一种用于真空镀膜设备的载板 - Google Patents
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Abstract
一种用于真空镀膜设备的载板，包括：具有多个镂空网格的基板、用于放置待镀品的石墨盒，其中，石墨盒嵌入镂空网格中，石墨盒上覆盖有一层或多层薄膜，薄膜与石墨盒在100℃‑550℃的温度范围内保持结合状态，薄膜与氟离子不发生化学反应，通过采用石墨或碳纤维材质的基板，并在基板上嵌入用于放置待镀品的石墨盒，成本低、导电性能好、不易变形、耐高温、耐氟腐蚀，通过在载板上的石墨盒上覆盖一层或多层与石墨盒在100℃‑550℃的温度范围内保持结合状态的薄膜，并且薄膜不被氟离子腐蚀或者氟复合系数小于5X10‑3，使得石墨盒的表面结构致密，不易吸附水汽，氧气，硅烷等其他气体，镀膜质量高，由于薄膜的存在，待镀品也不易划伤石墨盒，进一步提高了镀膜质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜领域，具体涉及一种用于真空镀膜设备的载板。
背景技术
现有的真空镀膜设备，多采用石墨材质或碳纤维材质的载板，如中国实用新型专利CN 206293458 U就披露了一种用于太阳能电池片镀膜工艺的载板，由于石墨或碳纤维材质存在疏松的气孔，载板上的石墨盒会吸附水汽，氧气，硅烷等其他气体，影响镀膜时的气氛，降低镀膜质量，并且硅片容易划伤载板表面，划伤后，石墨碎屑附着在硅片底面，影响待镀品的洁净度，并影响产品品质。
若采用其他材质制作载板，又存在成本高、导电性能差、易变形、不耐高温、不耐氟腐蚀等缺陷。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了克服现有技术的缺点，提供一种结构致密、成本低、导电性能好、不易变形、耐高温、耐氟腐蚀的用于真空镀膜设备的载板。
为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是，一种用于真空镀膜设备的载板，包括：
具有多个镂空网格的基板，所述基板为碳纤维板或石墨板；
用于放置待镀品的石墨盒，所述石墨盒嵌入所述镂空网格中；
所述石墨盒上覆盖有至少一层薄膜，所述薄膜与所述石墨盒在100℃-550℃的温度范围内保持结合状态，所述薄膜不被氟离子腐蚀或者氟复合系数小于5X10-3。
优选地，所述薄膜的材质为金属单质、合金、金属氧化物、陶瓷、高分子材料中的任意一种。
进一步优选地，所述金属单质为金、银、镍、铂、铝中的任意一种。
进一步优选地，所述合金为不锈钢合金、蒙乃尔合金、铂铱合金、镍合金中的任意一种。
进一步优选地，所述金属氧化物为氧化铝、氧化铝铬中的任意一种。
进一步优选地，所述陶瓷为氧化镱陶瓷、氧化锆陶瓷、氧化铝陶瓷、氮化铝陶瓷中的任意一种。
进一步优选地，所述高分子材料为特氟龙、聚乙烯、环氧树脂中的任意一种。
优选地，所述薄膜采用喷涂法或气相沉积法覆盖在所述石墨盒上。
优选地，所述薄膜的厚度范围为0.01-100μm。
进一步优选地，所述薄膜的厚度为0.1-10μm。
优选地，所述薄膜覆盖在所述石墨盒的上表面。
优选地，所述薄膜覆盖在所述石墨盒的所有表面。
优选地，所述用于真空镀膜设备的载板还包括石墨条，所述石墨条填充在所述基板上表面所述石墨盒未覆盖的区域。
由于上述技术方案的运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点：
本实用新型提供的用于真空镀膜设备的载板，通过采用石墨或碳纤维材质的基板，并在基板上嵌入用于放置待镀品的石墨盒，成本低、导电性能好、不易变形、耐高温、耐氟腐蚀，通过在载板上的石墨盒上覆盖至少一层与石墨盒在100℃-550℃的温度范围内保持结合状态的薄膜，并且该薄膜不被氟离子腐蚀或者氟复合系数小于5X10-3，使得石墨盒的表面结构致密，不易吸附水汽，氧气，硅烷等其他气体，镀膜质量高，由于薄膜的存在，待镀品也不易划伤石墨盒，进一步提高了镀膜质量。
附图说明
附图1为本实用新型的主视图；
附图2为附图1中A处所指的石墨盒的立体图；
附图3为附图2中石墨盒的纵向剖面图，此时，石墨盒的上表面覆盖有薄膜；
附图4为附图2中石墨盒的纵向剖面图，此时，石墨盒的所有表面都覆盖有薄膜；
其中：1、基板；2、石墨条；3、石墨盒；4、薄膜。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征更易于被本领域技术人员理解，从而对本实用新型的保护范围作出更为清楚明确的界定。
本实用新型描述的上下方向是指图3中的上下方向。
如图1所示，本实用新型提供的用于真空镀膜设备的载板，包括：基板1、石墨条2、石墨盒3、薄膜4，其中，基板1上开设有多个镂空网格，镂空网格在基板1上均匀分布，基板1的材质为碳纤维或石墨，在本实施例中，基板1为碳纤维板；石墨盒3嵌在镂空网格中，石墨盒3具有放置待镀品的凹槽，石墨盒3的大小由待镀品决定，镂空网格的大小由石墨盒3的大小确定；石墨条2填充在基板1的上表面石墨盒3未覆盖的区域，用于防止石墨盒3的晃动；石墨盒3上覆盖有一层厚度为8μm的氧化铝薄膜4，氧化铝在550℃时不熔化，其在100℃-550℃的温度范围内能够与石墨盒保持结合状态，其几乎不与氟离子发生化学反应，且结构致密，能够有效的抑制石墨盒的吸附效应，使石墨盒不易吸附水汽、氧气、硅烷等其他气体，当然，石墨盒3上也可以覆盖多层薄膜4，薄膜的厚度范围控制在0.01-100μm即可，优选为0.1-10μm，薄膜4与石墨盒3在100℃-550℃的温度范围内需保持结合状态，并且薄膜4不被氟离子腐蚀或者氟复合系数小于5X10-3（氟复合系数的英文表述为“F-atom RecombinationCoefficient”），一般来说，薄膜4的材质可以为金属单质、合金、金属氧化物、陶瓷、高分子材料中的任意一种，其中，金属单质为金、银、镍、铂、铝中的任意一种，合金为不锈钢合金、蒙乃尔合金、铂铱合金、镍合金中的任意一种，金属氧化物为氧化铝、氧化铝铬中的任意一种，陶瓷为氧化镱陶瓷、氧化锆陶瓷、氧化铝陶瓷、氮化铝陶瓷中的任意一种，高分子材料为特氟龙、聚乙烯、环氧树脂中的任意一种；在石墨盒3上覆盖薄膜4时，可采用喷涂法或气相沉积法，气相沉积法包括物理气相沉积法和化学气相沉积法，为保证石墨盒3覆盖薄膜4后的使用效果，如图3-4所示，薄膜4覆盖在石墨盒3的上表面，当然，也可以在石墨盒3的所有表面均覆盖薄膜4。
上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围，凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
Claims (13)
1.一种用于真空镀膜设备的载板，包括：
具有多个镂空网格的基板，所述基板为碳纤维板或石墨板；
用于放置待镀品的石墨盒，所述石墨盒嵌入所述镂空网格中；
其特征在于：
所述石墨盒上覆盖有至少一层薄膜，所述薄膜与所述石墨盒在100℃-550℃的温度范围内保持结合状态，所述薄膜的氟复合系数小于5X10-3。
2.根据权利要求1所述的用于真空镀膜设备的载板，其特征在于：所述薄膜的材质为金属单质、合金、金属氧化物、陶瓷、高分子材料中的任意一种。
3.根据权利要求2所述的用于真空镀膜设备的载板，其特征在于：所述金属单质为金、银、镍、铂、铝中的任意一种。
4.根据权利要求2所述的用于真空镀膜设备的载板，其特征在于：所述合金为不锈钢合金、蒙乃尔合金、铂铱合金、镍合金中的任意一种。
5.根据权利要求2所述的用于真空镀膜设备的载板，其特征在于：所述金属氧化物为氧化铝、氧化铝铬中的任意一种。
6.根据权利要求2所述的用于真空镀膜设备的载板，其特征在于：所述陶瓷为氧化镱陶瓷、氧化锆陶瓷、氧化铝陶瓷、氮化铝陶瓷中的任意一种。
7.根据权利要求2所述的用于真空镀膜设备的载板，其特征在于：所述高分子材料为特氟龙、聚乙烯、环氧树脂中的任意一种。
8.根据权利要求1所述的用于真空镀膜设备的载板，其特征在于：所述薄膜采用喷涂法或气相沉积法覆盖在所述石墨盒上。
9.根据权利要求1所述的用于真空镀膜设备的载板，其特征在于：所述薄膜的厚度范围为0.01-100μm。
10.根据权利要求9所述的用于真空镀膜设备的载板，其特征在于：所述薄膜的厚度为0.1-10μm。
11.根据权利要求1所述的用于真空镀膜设备的载板，其特征在于：所述薄膜覆盖在所述石墨盒的上表面。
12.根据权利要求1所述的用于真空镀膜设备的载板，其特征在于：所述薄膜覆盖在所述石墨盒的所有表面。
13.根据权利要求1所述的用于真空镀膜设备的载板，其特征在于：所述用于真空镀膜设备的载板还包括石墨条，所述石墨条填充在所述基板上表面所述石墨盒未覆盖的区域。
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| CN201921581620.3U CN210916243U (zh) | 2019-09-23 | 2019-09-23 | 一种用于真空镀膜设备的载板 |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112289720A (zh) * | 2020-09-17 | 2021-01-29 | 江苏长电科技股份有限公司 | 一种复合型子母载板及使用方法 |
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| CN112289720A (zh) * | 2020-09-17 | 2021-01-29 | 江苏长电科技股份有限公司 | 一种复合型子母载板及使用方法 |
| CN112289720B (zh) * | 2020-09-17 | 2024-04-09 | 江苏长电科技股份有限公司 | 一种复合型子母载板及使用方法 |
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