CN210879320U - 一种边定位机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种边定位机构，包括基台、吸附平台、边轮和定位组件；所述吸附平台和边轮均设置在基台的顶部，所述吸附平台上开设有吸孔，所述边轮至少有两个，其分别位于吸附平台其中两个相邻的两个侧边处，所述定位组件包括定位轮和定位驱动源，所述定位驱动源设置在基台的底部，所述定位轮设置在定位驱动源的自由端，所述定位组件至少有两组，其定位轮分别位于吸附平台另外两个相邻的侧边处，所述边轮的部分圆周面和定位轮的部分圆周面均高于吸附平台的上表面，且部分侵入吸附平台内。其能够快速、精确的完成定位，定位速度快、精度高，再现性好，结构简单，成本低。

Description

一种边定位机构

技术领域

本实用新型涉及定位机构，具体涉及一种边定位机构。

背景技术

在生产的过程中，对于板状的物料来说，在如切割、测试等作业开始之前，通常需要对其进行精确的定位，以保证作业效果。常用的定位方式是软体定位。即在CCD取像后，使用软体对物料的角度、位置进行计算，而后驱动平台放置、移位，这增加了软体和与其配合的平台的复杂度，造价昂贵。且其定位过程通常包括识别物料、寻中心、旋转角度调节和位置调节等步骤，耗时较长；且移送时的偏差相对于作业精度来说较大，需要重复进行多次定位，效率较低。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种边定位机构，其能够快速、精确的完成定位，定位速度快、精度高，再现性好，结构简单，成本低。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种边定位机构，包括基台、吸附平台、边轮和定位组件；所述吸附平台和边轮均设置在基台的顶部，所述吸附平台上开设有吸孔，所述边轮至少有两个，其分别位于吸附平台其中两个相邻的两个侧边处，所述定位组件包括定位轮和定位驱动源，所述定位驱动源设置在基台的底部，所述定位轮设置在定位驱动源的自由端，所述定位组件至少有两组，其定位轮分别位于吸附平台另外两个相邻的侧边处，所述边轮的部分圆周面和定位轮的部分圆周面均高于吸附平台的上表面，且部分侵入吸附平台内。

作为优选的，所述基台的顶部嵌设有定位平台，所述定位平台和基台的内部密封为真空腔，所述吸附平台设置在定位平台上，所述吸孔与真空腔连通，所述定位平台上开设有用于收容边轮的收容槽和用于避让定位轮运动空间的避让槽，所述定位平台和吸附平台为一体成型。

作为优选的，所述定位平台上开设有分辨槽，所述分辨槽包围在吸附平台的周圈。

作为优选的，所述吸附平台的边角处开设有上下通透的照射孔。

作为优选的，所述照射孔有两个，其分别位于吸附平台上的两个边角处，且此两个边角分别位于一个边轮的两侧。

作为优选的，所述吸附平台其中一个侧边处的边轮至少有两个。

作为优选的，所述基台上开设有通孔槽，所述定位驱动源的自由端设置有垂直于吸附平台的定位杆，所述定位杆自下而上穿过通孔槽，所述定位轮设置在定位杆的顶端。

作为优选的，所述定位驱动源的自由端设置有支架二，所述支架二上设置有与其垂直的支架一，所述支架一平行于通孔槽，所述定位杆设置在支架一上，所述定位驱动源和支架一并列。

作为优选的，所述支架一上设置有滑块，所述基台的底部设置有限位条，所述滑块滑动设置在限位条内，所述限位条与通孔槽平行。

作为优选的，所述基台的侧面上开设有通孔口，所述通孔口分别连通外部气源与真空腔。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、本实用新型通过在吸附平台相邻的两个侧边上分别设置边轮，能够限制物料的位置，同时经由定位轮往复推动，实现定位，定位速度快，定位效率高，且再现性好。

2、本实用新型通过设置吸附平台，能够在定位完成后，稳固物料的位置，避免作业过程中发生移位。

附图说明

为了更清楚的说明本实用新型实施例技术中的技术方案，下面将对实施例技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还能够根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型的仰视示意图；

图3为本实用新型的侧视示意图。

其中，100-基台，101-定位平台，102-分辨槽，103-吸附平台，104-吸孔，105-通气口，106-照射孔，200-边轮，300-通孔槽，301-避让槽，302-定位轮，303-定位杆，304-支架一，305-支架二，306-定位驱动源，307-限位条，308-滑块。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

实施例

参照图1～图3所示，本实用新型公开了一种边定位机构，包括基台100、吸附平台103、边轮200和定位组件。

上述吸附平台103和边轮200均设置在基台100的顶部。吸附平台103上开设有吸孔104。边轮200至少有两个，其分别位于吸附平台103其中两个相邻的两个侧边处。定位组件包括定位轮302和定位驱动源306。定位驱动源306设置在基台100的底部。定位轮302设置在定位驱动源306的自由端。定位组件至少有两组，其定位轮302分别位于吸附平台103另外两个相邻的侧边处。边轮200的部分圆周面和定位轮302的部分圆周面均高于吸附平台103的上表面，且部分侵入吸附平台103内。定位驱动源306能够驱动定位轮302向着或远离边轮200运动，而吸附平台103上的物料则在定位轮302的推动下，分别抵推在两个侧边处的边轮200上，则物料的最大移动位置始终被限制在边轮200处，实现物料初步的边定位，为软体的再次定位节省时间和计算资源，结构简单，定位精确，再现性高；定位完成后，吸孔104吸附物料，使物料的位置固定，则可以进行后续作业。

具体的，上述基台100的顶部嵌设有定位平台101。定位平台101和基台100的内部密封为真空腔。吸附平台103设置在定位平台101上。吸孔104与真空腔连通。定位平台101上开设有用于收容边轮200的收容槽和用于避让定位轮302运动空间的避让槽301。定位平台101和吸附平台103为一体成型。在吸附平台103磨损后，可以方便的更换。

作为本实用新型的进一步改进，上述基台100的侧面上开设有通孔口105。通孔口105分别连通外部气源与真空腔。通孔口105能够提供真空和空压环境。

上述基台100上开设有通孔槽300。定位驱动源306的自由端设置有垂直于吸附平台103的定位杆303。定位杆303自下而上穿过通孔槽300。定位轮302设置在定位杆303的顶端。

作为本实用新型的进一步改进，上述定位驱动源306的自由端设置有支架二305。支架二305上设置有与其垂直的支架一304。支架一304平行于通孔槽300。定位杆303设置在支架一304上。定位驱动源306和支架一304并列。其结构更加紧凑。

作为本实用新型的进一步改进，上述支架一304上设置有滑块308。基台100的底部设置有限位条307。滑块308滑动设置在限位条307内。限位条307与通孔槽300平行。其能够提高定位轮302往复运动时的线性度，保证定位效果。

上述定位平台101上开设有分辨槽102。分辨槽102包围在吸附平台103的周圈。分辨槽102能够提高CDD取像时，吸附平台103边缘处的灰度变化，更容易找准物料的边缘，提高软件定位效果。

作为本实用新型的进一步改进，上述吸附平台103的边角处开设有上下通透的照射孔106。照射孔106能够允许背光源的光线穿过吸附平台103，提高物料边缘的分辨率，提高定位效果。

作为本实用新型的进一步改进，上述照射孔106有两个，其分别位于吸附平台103上的两个边角处，且此两个边角分别位于一个边轮200的两侧。其能够提高两个边角处物料的分辨度，辅助软体进行拉边定位。

作为本实用新型的进一步改进，上述吸附平台103其中一个侧边处的边轮200至少有两个。两个边轮200可以保证物料的平行度，其可以用于物料一个方向的先定位，先定位完成后再进行另外一个方向的定位，定位效果好。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理能够在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖点相一致的最宽的范围。

Claims (10)

1.一种边定位机构，其特征在于，包括基台、吸附平台、边轮和定位组件；

所述吸附平台和边轮均设置在基台的顶部，所述吸附平台上开设有吸孔，所述边轮至少有两个，其分别位于吸附平台其中两个相邻的两个侧边处，所述定位组件包括定位轮和定位驱动源，所述定位驱动源设置在基台的底部，所述定位轮设置在定位驱动源的自由端，所述定位组件至少有两组，其定位轮分别位于吸附平台另外两个相邻的侧边处，所述边轮的部分圆周面和定位轮的部分圆周面均高于吸附平台的上表面，且部分侵入吸附平台内。

2.如权利要求1所述的边定位机构，其特征在于，所述基台的顶部嵌设有定位平台，所述定位平台和基台的内部密封为真空腔，所述吸附平台设置在定位平台上，所述吸孔与真空腔连通，所述定位平台上开设有用于收容边轮的收容槽和用于避让定位轮运动空间的避让槽，所述定位平台和吸附平台为一体成型。

3.如权利要求2所述的边定位机构，其特征在于，所述定位平台上开设有分辨槽，所述分辨槽包围在吸附平台的周圈。

4.如权利要求1所述的边定位机构，其特征在于，所述吸附平台的边角处开设有上下通透的照射孔。

5.如权利要求4所述的边定位机构，其特征在于，所述照射孔有两个，其分别位于吸附平台上的两个边角处，且此两个边角分别位于一个边轮的两侧。

6.如权利要求1所述的边定位机构，其特征在于，所述吸附平台其中一个侧边处的边轮至少有两个。

7.如权利要求1所述的边定位机构，其特征在于，所述基台上开设有通孔槽，所述定位驱动源的自由端设置有垂直于吸附平台的定位杆，所述定位杆自下而上穿过通孔槽，所述定位轮设置在定位杆的顶端。

8.如权利要求7所述的边定位机构，其特征在于，所述定位驱动源的自由端设置有支架二，所述支架二上设置有与其垂直的支架一，所述支架一平行于通孔槽，所述定位杆设置在支架一上，所述定位驱动源和支架一并列。

9.如权利要求8所述的边定位机构，其特征在于，所述支架一上设置有滑块，所述基台的底部设置有限位条，所述滑块滑动设置在限位条内，所述限位条与通孔槽平行。

10.如权利要求2所述的边定位机构，其特征在于，所述基台的侧面上开设有通孔口，所述通孔口分别连通外部气源与真空腔。

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